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邱德润

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

题名
作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇带隙
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氧化钛
  • 1篇气相沉积
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光学
  • 1篇光学带隙
  • 1篇半导体
  • 1篇N-S
  • 1篇N4
  • 1篇氮
  • 1篇AL
  • 1篇I3
  • 1篇掺硼
  • 1篇I

机构

  • 3篇合肥工业大学

作者

  • 3篇邱德润
  • 2篇孙金坛

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇合肥工业大学...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇1995
  • 2篇1994
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
相关度排序
AlN-Si_3N_4膜
1994年
用直流反应溅射沉积AlN－Si3N4膜。通过红外吸收光谱和X射线衍射来验证薄膜的结构。通过各种测量，给出了吸收系数、电阻率、应力、硬度和结合力。实验表明，AlN－Si3N4膜具有良好的光、电和机械特性。
孙金坛邱德润
关键词：化学气相沉积
掺硼对非晶碳化硅膜的影响
1994年
试验观测了掺硼对氢化非晶碳化硅膜生长速率、膜的组分、光学带隙、电导率、硬度和结合力的影响．结果证明，用薄离子作分解（ＳｉＨ４和ＣＨ４）混合气体制备的α－Ｓｉ１－ｘ：ＣＸ：Ｈ膜能有效的掺杂．硼掺杂可改变光学带隙、电导率和硬度．退火可增加薄膜的硬度和结合力．
孙金坛邱德润
关键词：掺硼光学带隙
氮、氧化钛膜在表面工程上的应用
1995年
本文讨论了氮化铁、氧化钛薄膜在表面工程上的应用，包括金属零部件的表面钝化，在摩擦学、装饰、消毒杀菌和热反射玻璃等方面的应用．
邱德润
关键词：氮化钛氧化钛半导体
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共1页<1>
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