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郭晓芸

作品数:7 被引量:37H指数:5
供职机构:上海交通大学微纳米科学技术研究院信息存储研究中心更多>>
发文基金:上海市教育发展基金会“曙光计划”项目更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术经济管理更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 2篇经济管理
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 3篇刻蚀
  • 2篇微机电系统
  • 2篇离子刻蚀
  • 2篇机电系统
  • 2篇反应离子
  • 2篇反应离子刻蚀
  • 2篇LIGA技术
  • 2篇电系统
  • 1篇电铸
  • 1篇电子商务
  • 1篇亚胺
  • 1篇页面
  • 1篇商务
  • 1篇深刻蚀
  • 1篇组件
  • 1篇酰亚胺
  • 1篇微电铸
  • 1篇微结构
  • 1篇聚酰亚胺
  • 1篇基于LINU...

机构

  • 7篇上海交通大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 7篇郭晓芸
  • 3篇丁桂甫
  • 3篇赵小林
  • 2篇章吉良
  • 2篇李昌敏
  • 2篇杨春生
  • 2篇沈天慧
  • 1篇倪智萍
  • 1篇汪良主
  • 1篇陈迪
  • 1篇张明生
  • 1篇伊福廷
  • 1篇俞爱斌
  • 1篇王志民
  • 1篇周狄
  • 1篇毛海平
  • 1篇钱建国

传媒

  • 3篇微细加工技术
  • 1篇计算机应用
  • 1篇计算机应用研...
  • 1篇上海有色金属
  • 1篇第四届全国微...

年份

  • 7篇2000
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
LIGA技术X光深层光刻工艺研究被引量:8
2000年
通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。
陈迪李昌敏章吉良伊福廷周狄郭晓芸
关键词:LIGA技术VLSI微机电系统
微机电系统中的材料和加工被引量:9
2000年
本文主要讨论微机电系统中的常用材料和加工技术。具体分析了Si、GaAs、SiC、金刚石和石英等材料的性能及其在微机电系统中的应用 ,并论述了材料的各向同性和各向异性刻蚀加工技术以及材料间的键合工艺。
张寿柏丁桂甫郭晓芸沈天慧
关键词:微机电系统键合刻蚀
基于Linux的电子商务实现平台被引量:2
2000年
Linux作为免费软件问世以来 ,已经成长为一个极具活力的、健壮的操作系统。它为企业开展电子商务提供了强有力的支持。本文构造了一种基于Linux的电子商务实现平台 ,企业可以在此平台上快速实现自己的电子商务系统。
郭晓芸汪良主赵小林
关键词:电子商务LINUX操作系统INTERNET网
利用ATL开发ASP页面中使用的组件被引量:6
2000年
由于ASP将组件和SCRIPT语言等技术结合在一起,使得ASP在开发基于Web的商业应用时非常方便快捷,从而得到了广泛的应用。而其中的组件技术在解决分布计算问题中扮演了非常重要的角色。但并不是任意一个定制的组件都能支持ASP页面。通过一个实例说明如何利用ATL快速创建ASP组件的方法。
郭晓芸赵小林
关键词:COMASPWEB组件
LIGA技术之微电铸镍研究
运用电化学测量方法,初步揭示了深层微电铸电化学反应过程的本质特点,改造完成了一套半自动多用途连续电铸设备,成功实现了深宽比大于20的微细短线条和直径10μm微细深盲孔的镍电铸.
丁桂甫杨春生赵小林郭晓芸王志民沈天慧
关键词:微电铸
文献传递
聚酰亚胺在氧基工作气体中的反应离子深度刻蚀研究被引量:5
2000年
主要研究了不同的反应离子刻蚀条件 (氧基工作气体、刻蚀功率、工作气压等 )下所获得的不同刻蚀效果。当以O2 /CHF3 作为工作气体时 ,在一定的工艺条件下实现了高深宽比 (深度 2 3μm ,深宽比 >7)、侧壁陡直光滑、底面平整光滑的刻蚀效果 ;同时还观察到随着CHF3 浓度的增加 ,侧壁形状经历了外倾、垂直、内倾的变化规律。利用CF2 钝化膜保护模型可很好解释这一现象。
钱建国章吉良张明生郭晓芸毛海平倪智平
关键词:反应离子刻蚀聚酰亚胺
O_(2)反应离子深刻蚀PMMA被引量:7
2000年
高深宽比结构是提高微器件性能的重要环节之一。利用RIE深刻技术加工具有高深宽比结构的图形 ,方法简单 :它不象LIGA技术那样 ,需昂贵的同步辐射光源和特制的掩模板 ,对光刻胶的要求也不是特别高 ,利用这种技术深刻蚀PMMA膜 ,以Ni作掩模 ,采用普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀的方法将Ni掩模图形化 ,然后利用O2 RIE技术刻蚀PMMA ,可以得到深度达 1 0 0 μm ,深宽比大于 1 0的微结构 ,图形表面平整 ,侧壁光滑垂直。在刻蚀过程中 ,氧气压、刻蚀功率等工艺参数对刻蚀结果影响较大。
俞爱斌丁桂甫杨春生郭晓芸李昌敏毛海平倪智萍
关键词:反应离子刻蚀高深宽比微结构PMMA
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