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一种以多孔氧化铝为模板制备亚微米级结构的OLED制造工艺: 本发明公开了一种以多孔氧化铝为模板压印制备OLED上亚微米级结构的工艺，包括如下步骤：(1)制备模具；(2)紫外固化胶图形化；(3)采用磁控溅射氮化硅在图形化的紫外固化胶上制备高折射率介质层；(4)在阳极上制作OLED器...; 王莉丁玉成罗钰魏慧芬卢秉恒; 文献传递

提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法，包括(1)标记设计；(2)光栅图像的采集；(3)光栅图像预处理；(4)合成莫尔条纹图像；(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像，...; 王莉丁玉成周洁魏慧芬宗学文卢秉恒

一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法: 本发明公开了一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法，包括以下步骤有：1)首先确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围，在该范围内进行光栅材料选择；2)光刻，制作光栅标记掩膜板，并以光栅标记掩膜板为掩护，刻蚀...; 王莉丁玉成周洁宗学文魏慧芬卢秉恒; 文献传递

一种用具有大数值孔径的微透镜阵列制造工艺: 本发明公开了一种具有大数值孔径的微透镜阵列制备工艺，包括如下步骤：(a)制备氧化锌纳米柱；(b)在氧化锌纳米柱表面制备C<Sub>4</Sub>F<Sub>8</Sub>层；(c)喷墨打印制备微透镜；(d)固化微透镜，采...; 王莉罗钰丁玉成魏慧芬卢秉恒; 文献传递

利用优化材料的凸起光栅标记提高莫尔条纹图像的对比度被引量：2: 2013年; 在基于莫尔条纹相位匹配的纳米压印对准方案中,因阻蚀胶引入引起压印对准标记光栅副间隙介质的改变,使得莫尔条纹图像的对比度下降,恶化了压印对准精度.针对这一问题,本文提出了利用优化的标记材料来制备凸起光栅标记从而提高莫尔条纹图像对比度的方法.该方法为提高莫尔条纹图像对比度,通过FDTD(有限时域差分)软件,对玻璃模板及硅片基底上采用的光栅标记材料及光栅副间隙进行了优化计算,在采用常规压印阻蚀胶(折射率为1.6)、压印模板与基底间间隙为200nm、且光栅标记为凸起时,优化光栅标记材料为:玻璃模板上光栅标记为折射率2.0的ITO;基底下光栅标记为折射率2.7的Cr.实验结果表明:在光栅副的间隙介质分别为折射率1.6的阻蚀胶和折射率1.3的水时,采用优化材料的凸起光栅标记(周期为6和6.1μm的光栅副)得到的莫尔条纹图像的对比度与原标记相比分别提高了11.92%和4.66%.; 王莉魏慧芬王权岱周洁卢秉恒; 关键词：对比度

一种提高压印对准中莫尔条纹对比度的新方法: 在基于莫尔条纹相位匹配的纳米压印对准方案中，因阻蚀胶引入引起莫尔条纹图像对比度下降，进而导致对准精度下降。针对这一问题，提出利用优化的标记材料制备光栅标记来提高莫尔条纹图像对比度的方法。通过二维时域有限差分计算，对模板及...; 魏慧芬王莉王权岱周洁丁玉成; 关键词：纳米压印莫尔条纹

提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法，包括(1)标记设计；(2)光栅图像的采集；(3)光栅图像预处理；(4)合成莫尔条纹图像；(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像，...; 王莉丁玉成周洁魏慧芬宗学文卢秉恒; 文献传递

一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法: 本发明公开了一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法，包括以下步骤有：1)首先确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围，在该范围内进行光栅材料选择；2)光刻，制作光栅标记掩膜板，并以光栅标记掩膜板为掩护，刻蚀...; 王莉丁玉成周洁宗学文魏慧芬卢秉恒

一种以多孔氧化铝为模板制备亚微米级结构的OLED制造工艺: 本发明公开了一种以多孔氧化铝为模板压印制备OLED上亚微米级结构的工艺，包括如下步骤：(1)制备模具；(2)紫外固化胶图形化；(3)采用磁控溅射氮化硅在图形化的紫外固化胶上制备高折射率介质层；(4)在阳极上制作OLED器...; 王莉丁玉成罗钰魏慧芬卢秉恒; 文献传递

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魏慧芬