何俊鹏
- 作品数：5 被引量：34H指数：3
- 供职机构：浙江大学光电信息工程学系现代光学仪器国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：理学自动化与计算机技术更多>>
- 梯度折射率薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种梯度折射率薄膜的制备方法。它包括如下步骤：1)将高、低折射率材料前驱体分别放入反应前驱体容器；2)加热衬底，抽真空，开启镀膜机；3)沉积低折射率膜层；4)沉积高折射率膜层；5)交替沉积形成梯度折射率薄膜。...
- 章岳光何俊鹏沈伟东刘旭
- 文献传递
- 原子层沉积制备Al_2O_3薄膜的光学性能研究被引量：16
- 2010年
- 研究了原子层沉积制备氧化铝薄膜的光学性能。以三甲基铝(TMA)和水为前聚体,分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英玻璃衬底上沉积了Al2O3光学薄膜。采用分光光度计,X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对薄膜的微结构、表面形貌和光学特性进行了研究。结果表明,原子层沉积法制备的Al2O3薄膜在退火前后均呈现无定形结构,元素成分接近化学计量比,其表面粗糙度小于1.2nm,聚集密度高于0.97,光学非均匀性优于1%。同时在中紫外到近红外均有很好的光学性能,适合作为中间折射率和低折射率材料在光学薄膜中得到应用。
- 何俊鹏章岳光沈伟东刘旭顾培夫
- 关键词：薄膜光学原子层淀积光学特性
- 原子层沉积制备Ta_2O_5薄膜的光学特性研究被引量：6
- 2011年
- 以乙醇钽[Ta(OC2H5)5]和水蒸气为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英衬底上制备了Ta2O5光学薄膜。采用分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等手段对薄膜的光学特性、微结构和表面形貌进行了研究。结果表明,用ALD方法制备的Ta2O5薄膜在刚沉积和350℃退火后均为无定形结构,而250℃温度下沉积的薄膜其表面粗糙度低,聚集密度很高,光学均匀性优,在中紫外到近红外均表现出很好的光学特性,可以作为高折射率材料很好地应用于光学薄膜中。
- 范欢欢章岳光沈伟东李旸晖李承帅何俊鹏刘春亮刘旭
- 关键词：原子层沉积光学特性
- 原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用被引量：12
- 2009年
- 回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势。着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用。同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望。
- 何俊鹏章岳光沈伟东刘旭顾培夫
- 关键词：原子层沉积光学薄膜前驱体光子晶体
- 原子层沉积制备光学薄膜的性能研究及其计算机仿真
- 原子层沉积(ALD)的技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，与传统光学薄膜制备技术相比所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。原子尺度上的ALD过程仿真对深入了解原子层沉积机理，改进和优化薄膜生长工艺，提高薄膜质量，改善...
- 何俊鹏
- 关键词：原子层沉积光学薄膜计算机仿真生长速率基片温度
- 文献传递
