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周春兰

作品数:21 被引量:42H指数:2
供职机构:中国科学院高能物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学核科学技术一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 12篇会议论文
  • 6篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 9篇理学
  • 6篇核科学技术
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 10篇正电子
  • 7篇正电子湮没
  • 4篇时间分辨率
  • 3篇多普勒
  • 3篇多普勒谱
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇用户
  • 2篇正电
  • 2篇正电子湮没寿...
  • 2篇闪烁体
  • 2篇探测器
  • 2篇铁电
  • 2篇铁电薄膜
  • 2篇慢正电子束
  • 2篇介孔
  • 2篇介孔材料
  • 2篇晶体
  • 2篇孔材料

机构

  • 21篇中国科学院
  • 2篇华中科技大学
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇兰州大学
  • 1篇北京航空航天...
  • 1篇河北工业大学
  • 1篇中国科学院金...
  • 1篇北京玻璃研究...

作者

  • 21篇周春兰
  • 19篇魏龙
  • 17篇马创新
  • 17篇王宝义
  • 9篇章志明
  • 8篇张天保
  • 6篇曹兴忠
  • 3篇郝小鹏
  • 3篇张仁刚
  • 3篇任绍霞
  • 3篇张辉
  • 2篇王耘波
  • 2篇郭冬云
  • 2篇于军
  • 2篇张哲
  • 1篇李养贤
  • 1篇于润升
  • 1篇王天民
  • 1篇高俊雄
  • 1篇钱海杰

传媒

  • 5篇第九届全国正...
  • 3篇第九届全国正...
  • 2篇核技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇高能物理与核...
  • 1篇核电子学与探...
  • 1篇压电与声光
  • 1篇第八届全国正...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2006
  • 11篇2005
  • 6篇2004
  • 1篇2002
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Sol-Gel法制备硅基钛酸铋铁电薄膜被引量:3
2004年
介绍溶胶-凝胶(Sol-Gel)法制备Bi4Ti3O12薄膜的工艺过程;对前驱体溶液进行了综合热分析,并对薄膜的性质进行了研究;成功地在p-Si衬底上制备出随机取向的Bi4Ti3O12铁电薄膜。在650°C下退火30min得到的Bi4Ti3O12薄膜的剩余极化强度Pr=12μC/cm2,矫顽场强Ec=130kV/cm。
郭冬云王耘波于军李建军周春兰王雨田魏龙
关键词:SOL-GEL法BI4TI3O12铁电薄膜
用于正电子湮没寿命谱仪的探测器
一种用于正电子湮没寿命谱仪的探测器,该正电子湮没寿命谱仪包括起始道探测器和停止道探测器,与常规的正电子寿命谱仪与停止道采用相同的探测器不同,本发明采用了与起始道探测器不同的停止道探测器,在停止道探测器的闪烁体中央,有一圆...
章志明王宝义马创新周春兰张天保魏龙任绍霞
文献传递
北京<'22>Nα-慢正电子束流装置及新型慢化体实验
常规正电子湮天技术包括测量湮没寿命和多普勒展宽,本文研究北京<'22>Nα-慢正电子束流装置及新型慢化体的实验研制.
魏龙王宝义于润升马创新周春兰张天保
关键词:正电子源
文献传递
FeS2薄膜的正电子湮没初步研究
FeS2材料作为一种具有合适禁带宽度(Eg=0.95±0.15eV)和较高光吸收系数(当入射光波长λ<900nm时,吸收系数α>6×105cm-1)的半导体材料,可以制作极薄的太阳能薄膜电池.作为一种极有发展潜力的太阳能...
张辉王宝义张仁刚曹兴忠张哲周春兰马创新魏龙
关键词:FES2薄膜正电子湮没半导体材料太阳能电池材料晶体结构
文献传递网络资源链接
SiO<,x>薄膜的光致发光研究及慢正电子束流应用
一、SiOx(x<2)薄膜的光致发光研究硅质优、价廉、工艺高度成熟,是微电子核心材料。以硅为原材料的器件产值约占半导体器件总产值的95%。然而硅发光效率很低,约为10-6,长期以来,被认为不能用于光子学中起关键作用的光源...
周春兰
关键词:光致发光半导体器件
文献传递
FeS2薄膜的正电子湮没初步研究
FeS2材料作为一种具有合适禁带宽度(Eg=0.95±0.15 eV)和较高光吸收系数(当入射光波长λ<900nm时,吸收系数a>6×105cm-1)的半导体材料,可以制作极薄的太阳能薄膜电池。作为一种极有发展潜力的太阳...
张辉王宝义张仁刚曹兴忠张哲周春兰马创新魏龙
文献传递
慢正电子束流在材料缺陷研究方面的应用-部分用户研究简介
利用慢正电子束流技术对SiO2/Si体系的研究已经有大量的文献报道,北京22Na慢正电子束流装置在安装调试结束后,为了检验系统的工作性能,对该体系进行了多普勒展宽测量.实验中使用的硅片为p型单晶Si(100),SiO2层...
周春兰马创新郝小鹏章志明王宝义魏龙
关键词:能谱
文献传递
正电子湮没多普勒谱中的3γ/2γ分析
2006年
在慢正电子束研究表面的实验中,一般仍使用高纯Geγ谱仪测量正电子湮没多普勒展宽能谱, 对能谱的分析采用线形参数S,W,这些参数提供的信息有限.例如,当电子与正电子在材料中形成电 子偶素时,简单的线形参数非但不能表征它们,反而因它们的存在使得分析变得复杂.本工作在对多普 勒展宽能谱进行数据处理的过程中,引入正态电子偶素自衰变强度I3γ参数,建立了从能谱中获得I3γ 参数值的方法。以标准样品为基准,选用Ag盖帽的气凝硅胶进行I3γ参数计算,工作表明新参数对研究 介孔材料及纳米薄膜能提供更丰富的信息.
周春兰张天保马创新章志明曹兴忠王宝义魏龙
关键词:孔隙电子偶素介孔材料
正电子湮没多普勒谱中的3γ/2γ分析
在慢正电子束研究表面的实验中,一般使用HPGe γ谱仪测量正电子湮没多普勒线形参数,但在某些情况下,体系中大量存在电子偶素,简单的线形参数非但不能表征它们,反而因它们的存在使得该参数变得更难使用。本工作在对多普勒展宽能谱...
周春兰张天保马创新章志明曹兴忠王宝义魏龙
文献传递
氧化钒薄膜微观结构的研究被引量:36
2004年
采用直流磁控反应溅射在Si(1 0 0 )衬底上溅射得到 (0 0 1 )取向的V2 O5薄膜 .x射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM)和傅里叶变换红外光谱 (FTIR)的结果表明 ,氧分压影响薄膜的成分和生长取向 ,在氧分压 0 4Pa时溅射得到 (0 0 1 )取向的纳米V2 O5薄膜 ,即沿c轴垂直衬底方向取向生长的薄膜 .V2 O5薄膜经过真空退火得到 (0 0 1 )取向的VO2 薄膜 ,晶体颗粒长大 .对薄膜的分子结构和退火过程的晶格转换进行了分析 。
潘梦霄曹兴忠李养贤王宝义薛德胜马创新周春兰魏龙
关键词:氧化钒薄膜微观结构直流磁控溅射
共3页<123>
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