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周鹏飞

作品数:13 被引量:8H指数:1
供职机构:上海机械学院更多>>
相关领域:理学一般工业技术机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 4篇理学
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 8篇光学
  • 7篇光学薄膜
  • 2篇淀积
  • 2篇离子镀
  • 1篇电荷
  • 1篇电荷转移
  • 1篇电荷转移复合...
  • 1篇淀积技术
  • 1篇镀膜
  • 1篇性能分析
  • 1篇液晶
  • 1篇液晶器件
  • 1篇硬膜
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇入射
  • 1篇入射角
  • 1篇室温
  • 1篇数据库
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电性

机构

  • 7篇上海机械学院
  • 6篇上海大学
  • 1篇中国航天科技...

作者

  • 13篇周鹏飞
  • 3篇陈桂莲
  • 2篇凌世德
  • 2篇梁晓
  • 2篇李东光
  • 1篇冯伟亭
  • 1篇高杨
  • 1篇高扬
  • 1篇高扬
  • 1篇张明
  • 1篇张明
  • 1篇陈林
  • 1篇季泳

传媒

  • 4篇上海机械学院...
  • 3篇光学仪器
  • 2篇第五届全国光...
  • 1篇上海理工大学...
  • 1篇激光与红外
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇全国光学薄膜...

年份

  • 2篇1992
  • 2篇1991
  • 4篇1990
  • 1篇1989
  • 2篇1988
  • 1篇1987
  • 1篇1986
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
离子束辅助沉积技术对薄膜光学特性的影响
1992年
用计算机模拟离子辅助薄膜沉积过程和工艺实验,发现离子辅助能够提高薄膜的聚集密度、附着力,改善薄膜光学特性。然而,高能离子束诱发薄膜材料相当大的吸收,导致该技术几乎无法使用。作者通过对碲化铅薄膜材料理论和工艺分析,证实了低能、高密度离子束辅助是一种极有发展前途的新技术。
冯伟亭陈桂莲周鹏飞
关键词:碲化铅光学
监控光路入射角对极值法膜厚监控的影响
李东光周鹏飞
关键词:光学薄膜计算机模拟监视控制极值法入射角
添加电荷转移复合物(CTC)的铁电性液晶器件(FLCD)的特性研究
1990年
在铁电性液晶(FLC)中添加电荷转移复合物(CTC)制成液晶盒,以测定光学响应特性,其结果与以往有所不同:在附加脉冲的后沿,可观测到反向双稳态。由于这种存储器是反向的,因此可维持存储率100%的良好特性,具有较高的对比度。本文报道了关于添加CTC的FLCD的EO特性最新成果,作者还就为何在FLC中添加CTC会产生反向双稳态的原因、验证试验的结果和反向双稳态模型等,阐明了自己的见解。
张百英小林骏介陈林周鹏飞
关键词:液晶器件
离子辅助镀膜技术及其应用被引量:4
1991年
离子辅助淀积技术对于改进光学薄膜的性质、改善薄膜的微结构、应力状态与表面形貌具有良好效果,从而得到许多具有新机能的薄膜。本文讲述丁离子辅助镀膜的实验装置,说明了使用此工艺镀制ZrO_2,薄膜样品的参数,并给出了光学特性测量、牢固度测量、表面形貌与划痕的实验结果。
周鹏飞高扬陈桂莲
关键词:光学薄膜
离子辅助镀膜被引量:1
1990年
离子辅助淀积技术是目前一种新颖的真空镀膜技术,它的发展历史不长,但已经受到各方面的关注。离子辅助镀膜在光学工业中的推广应用,将使薄膜制备技术进入一个新的发展阶段。
周鹏飞高杨陈桂莲
关键词:离子镀真空镀膜光学薄膜
类金刚石薄膜和金刚石薄膜的制备
1992年
本文介绍了类金刚石薄膜和金刚石薄膜的制备原理和4种方法,同时指出了它们的应用前景。
季泳周鹏飞
关键词:类金刚石金刚石
薄膜的离子束辅助淀积被引量:1
1989年
本文介绍了一适用于离子辅助淀积薄膜的宽束离子源。描述了离子束轰击对TiO_2/SiO_2、ZnS/MgF_2两种介质滤光膜以及Al-SiO_2、单层Cu两种反射膜的性能的变化。研究了离子辅助淀积对薄膜的牢固度、附着性、抗蚀性和稳定性等性能的改善和提高。结果表明,离子辅助淀积对金属膜性能的改善与对介质膜性能的改善一样显著。
凌世德梁晓周鹏飞
关键词:介质膜离子源附着性热蒸发抗蚀性波长漂移
光学薄膜数据库被引量:1
1990年
本文详细论述了一个建立在VAX/11小型计算机上的光学薄膜数据库系统。整个数据库由ORACLE构成,包括光学薄膜材料数据库;光学薄膜基底材料数据库和典型膜系数据库。这个数据库内容丰富、功能完善、全部使用中文提示,菜单操作,使用方便,维护灵活。为广大的光学工作者从事光学薄膜研究和生产提供了一个有力的辅助工具。
周鹏飞梁月山张明
关键词:光学薄膜数据库
光学薄膜镀制技术的对比研究
1990年
本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。
F.弗洛里C.昂拉M.科芒德烈E.佩尔蒂埃G.阿尔布朗李东光周鹏飞
关键词:光学薄膜离子镀淀积技术
应用IAD工艺在室温塑料片上淀积MgF_2减反膜
1991年
本文介绍了应用离子辅助淀积技术(IAD)在室温塑料基片(CR-39)上淀积MgF_2减反膜。应用IAD工艺在塑料基片上淀积的MgF_2单层减反膜光学性能稳定,牢固度耐磨性等机械强度指标明显提高。XRD分析表明离子辅助轰击有助于薄膜结构晶化。应用该工艺可以解决由于塑料基片不能加高温烘烤因而无法制得牢固优质膜层的问题,这无疑为塑料基片的表面处理开辟了一条新途径。
高扬周鹏飞
关键词:IADMGF2减反膜
共2页<12>
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