康念辉
- 作品数：11 被引量：47H指数：4
- 供职机构：国防科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部重点实验室开放基金国家部委资助项目更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺电子电信更多>>
- 基于多体系统理论的非球面磨削误差模型与补偿技术被引量：29
- 2008年
- 为提高大中型非球面的磨削精度,从而提高非球面的加工效率,研究轴对称非球面磨削过程的误差模型,并对误差进行补偿。运用多体系统理论,基于一阶线性模型,建立非球面磨削成形的统一误差模型,并且推导各种误差对于最终面形误差的传递函数。基于传递函数特征相似误差集中补偿的方法,将所有趋势项误差转化为砂轮对刀误差以及砂轮形状误差进行补偿,并建立实用补偿模型,从而避免求解、校正各项具体误差。试验结果表明,建立的误差模型和辨识模型正确,可以使面形误差收敛到预期范围,从而解决了轴对称非球面磨削中的精度控制问题。
- 康念辉李圣怡郑子文
- 关键词：面形精度误差补偿
- 杯形砂轮铣磨二次曲面的数学模型与误差分析
- 2005年
- 运用几何方法,推导了杯形砂轮铣磨二次曲面的数学模型和砂轮轨迹的计算公式。分析了加工残留误差,砂轮磨损以及砂轮倾角误差对面形精度的影响。
- 康念辉李圣怡郑子文周旭升
- 关键词：杯形砂轮二次曲面数学模型误差分析
- 大中型非球面磨削成型的理论与实验研究
- 现代光学技术的发展使得非球面光学元件在光学系统中被广泛应用,而大型非球面镜的加工更是折射出一个国家的综合科技实力。非球面磨削成型作为大型非球面加工的一个不可或缺的阶段,其加工精度与表面质量直接影响到非球面加工的总体效率。...
- 康念辉
- 关键词：非球面误差分析面形误差误差补偿对刀
- 文献传递
- 行星轮式数控研抛去除函数发生装置
- 本实用新型公开了一种行星轮式数控研抛去除函数发生装置，包括公转轴系、自转轴系、研抛盘、偏心调整机构和回转机构，所述公转轴系连接于偏心调整机构上方，所述回转机构连接于偏心调整机构底端，所述自转轴系连接于回转机构下方，所述研...
- 郑子文戴一帆李圣怡舒勇解旭辉王贵林康念辉
- 文献传递
- 碳化硅反射镜坯体光学加工的残余应力测量与分析被引量：1
- 2008年
- 测量并分析了碳化硅反射镜坯体光学加工的残余应力。采用X射线衍射法测定了磨削成形、研磨以及抛光过程引入的表面残余应力的性质和大小;采用逐层抛光法测定了在用120#粒度金刚石砂轮磨削时引入的残余应力层厚度。研究结果表明:在用120#金刚石砂轮磨削加工时沿磨削方向和垂直于磨削方向分别引入了残余拉应力和残余压应力,其大小分别为40MPa和70MPa,应力层深度约为60μm,大于裂纹层深度;在用W7金刚石微粉研磨时引入了残余压应力,在其作用范围内残余应力平均值为60～80MPa;在抛光时理论上会引入残余压应力。在此基础上提出了在碳化硅反射镜坯体的光学加工过程中,可以通过研磨消除磨削引入的裂纹层和残余应力层。
- 康念辉李圣怡戴一帆吴宇列
- 关键词：光学加工碳化硅反射镜残余应力X射线衍射法
- 纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理与工艺研究被引量：8
- 2009年
- 理论分析与实验验证表明,纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理是塑性剪切去除。在KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行工艺实验,研究抛光轮与工件表面的间隙、抛光轮转速、磁场强度对峰值去除效率和表面粗糙度的影响。工艺实验表明,去除函数具有良好的稳定性和重复性,2.5h以内峰值去除效率稳定在±0.3%以内,体积去除效率稳定在±0.5%以内。直径202mm(有效口径95%)的HIP SiC平面镜采用子孔径拼接测量方法,经过磁流变粗抛(30h)和精抛(9h)后,面形误差PV值0.13μm,RMS值0.012μm,表面粗糙度RMS值2.439nm。
- 石峰戴一帆彭小强康念辉刘志军
- 关键词：磁流变抛光纳米金刚石
- 典型碳化硅光学材料的超光滑抛光试验研究被引量：6
- 2008年
- 研究了三种典型的碳化硅光学材料CVDSiC、HPSiC以及RBSiC的材料去除机理与可抛光性,并对其进行了超光滑抛光试验。在分析各种材料制备方法与材料特性的基础上,通过选择合理的抛光工艺参数,均获得了表面粗糙度优于Rq=2nm(采样面积为0.71mm×0.53mm)的超光滑表面。试验结果表明:研磨过程中,三种碳化硅光学材料均以脆性断裂的方式去除材料,加工表面存在着裂纹以及材料脱落留下的缺陷;抛光过程中,CVDSiC主要以塑性划痕的方式去除材料,决定表面粗糙度的主要因素为表面微观划痕的深度;HPSiC同时以塑性划痕与晶粒脱落的形式去除材料,决定表面粗糙度的主要因素为碳化硅颗粒大小以及颗粒之间微孔的尺寸;RBSiC为多组分材料,决定其表面粗糙度的主要因素为RBSiC三种组分之间的去除率差异导致的高差。
- 康念辉李圣怡郑子文戴一帆
- 关键词：碳化硅抛光表面粗糙度
- 化学气相沉积碳化硅平面反射镜的高精度超光滑加工被引量：2
- 2009年
- 针对化学气相沉积碳化硅平面反射镜的材料特性与技术要求,制定了"传统研抛+离子束抛光"的工艺方法,并在一块口径为100mm的试件上进行了验证。首先基于加工效率和亚表面损伤选择合理的工艺参数,并采用磁流变抛光斑点法测量各道工序的亚表面损伤,并以此为依据规划下一道工序的材料去除量;然后分析抛光表面粗糙度的影响因素,在此基础上对抛光工艺参数进行优化,获得表面粗糙度均方根方差值为0.584nm的超光滑表面,并控制工件的面形误差;最后采用离子束抛光进行精度提升,使工件的低频和中频误差均大幅下降,最终工件的面形精度均方根方差值达到0.007λ(λ=632.8nm),表面粗糙度均方根方差值为0.659nm。
- 康念辉李圣怡郑子文戴一帆
- 关键词：超光滑
- 行星轮式数控研抛去除函数发生装置
- 本发明公开了一种行星轮式数控研抛去除函数发生装置，包括公转轴系、自转轴系、研抛盘、偏心调整机构和回转机构，所述公转轴系连接于偏心调整机构上方，所述回转机构连接于偏心调整机构底端，所述自转轴系连接于回转机构下方，所述研抛盘...
- 郑子文戴一帆李圣怡舒勇解旭辉王贵林康念辉
- 文献传递
- 典型碳化硅光学材料的超光滑抛光试验研究
- 碳化硅光学材料以其高比刚度,良好的热稳定性与可加工性以及高轻量化率等诸多优异性能成为空间光学系统的首选材料。然而,碳化硅光学材料的去除机理以及可抛光性随不同制备方法变化很大。为了研究三种典型的碳化硅光学材料如CVD Si...
- 康念辉李圣怡郑子文戴一帆
- 关键词：碳化硅光学材料表面粗糙度热稳定性
- 文献传递
