张延帅
- 作品数：46 被引量：62H指数：5
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：中国人民解放军总装备部预研基金国防科技重点实验室基金甘肃省中青年科技研究基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程一般工业技术理学更多>>
- 同步脉冲偏压对Hi PIMS技术低温沉积CrN涂层结构及性能影响被引量：1
- 2022年
- 针对高性能CrN涂层无法实现低温可控制备的技术瓶颈,利用具备高溅射材料离化率的高功率脉冲磁控溅射技术,调控同步脉冲偏压,改善涂层生长动力学条件,实现CrN涂层的低温可控沉积。开展同步脉冲偏压与涂层化学组成、组织结构、力学、摩擦学及耐腐蚀性能间关联关系研究。同步脉冲偏压在提升沉积离子束流迁移能的同时可显著降低荷能Ar+对成膜表面的持续轰击作用,达到改善涂层致密性及膜基结合力的目的。此外,沉积CrN涂层晶粒细化显著,硬度及弹性模量明显升高,最高可达13.8 GPa、236.7 GPa。涂层力学性能优化及致密性提升显著改善了摩擦学与耐腐蚀性能,涂层磨损率最低可达2.49×10^(-15) m^(3)/(N·m),同时涂层可耐受120 h中性盐雾腐蚀环境考核。为实现高性能CrN涂层的低温可控制备,扩展其在温度敏感基体领域的适用范围提供了新的设计思路与技术支撑。
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- 关键词：摩擦学性能耐腐蚀性能
- 一种用于圆形靶磁控溅射的多工位转架
- 本发明公开了一种用于圆形靶磁控溅射的多工位转架，包括：镀膜腔体、公转盘、自转齿轮，中心一级齿轮，中心二级齿轮，二级传动齿轮，磁流体一，磁流体二，伺服电机，变频电机以及绝缘零件；镀膜腔体的底板上设置第一安装孔和第二安装孔；...
- 骆水连周晖张延帅魏广许戬贵宾华杨拉毛草蒋钊鲜昌卫
- 一种锆基吸气剂薄膜制备方法
- 本发明公开了一种锆基吸气剂薄膜制备方法，涉及表面工程技术领域，将锆基合金靶材溅射沉积在MEMS器件的内壁上形成锆基吸气剂薄膜，在真空封装过程中锆基吸气剂薄膜被激活，达到维持MEMS器件真空运行环境的目的。本发明的技术方案...
- 马占吉周超冯兴国周晖杨拉毛草张延帅贵宾华胡汉军郑玉刚
- 靶功率对射频磁控溅射制备MoS_2-Sb_2O_3复合薄膜结构和性能的影响被引量：4
- 2011年
- 采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜,研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构,用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力,通过承载力试验测试薄膜的承载性能,使用真空球-盘摩擦试验机测试真空和大气下薄膜的摩擦因数及耐磨寿命。结果表明:使用射频磁控溅射制备的MoS2-Sb2O3复合薄膜具有准非晶结构,其薄膜结构和成分受沉积时的靶功率影响;MoS2-Sb2O3复合薄膜在真空下具有比大气下更稳定的摩擦学性能,更长的耐磨寿命;提高溅射原子能量能有效地提高MoS2-Sb2O3复合薄膜的承载性能,减少薄膜的内应力,提高薄膜的附着力,提高薄膜的耐磨寿命。
- 张延帅周晖万志华桑瑞鹏郑军
- 关键词：射频磁控溅射
- 电压和测温信号同轴传导的旋转工件的转轴及安装方法
- 本发明提供一种电压和测温信号同轴传导的旋转工件的转轴及安装方法，该装置包括空心轴、绝缘套管、热偶导线、接插件、绝缘法兰A、外部接插件、热偶、工件台端接插件、绝缘法兰B、穿舱机构、热偶上端接插件、驱动轮及电刷滑环；绝缘套管...
- 张延帅周晖郑军赵栋才张腾飞许戬
- 文献传递
- 固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究被引量：1
- 2015年
- 为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命,采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。首先对9Cr18不锈钢试样表面注入N+、Ti+、Ti++N+,对离子注入后试样采用磁控溅射技术沉积MoS2-Ti薄膜。通过测试注入前后试样粗糙度及硬度,评价不同注入离子及无离子注入不同基底材料下溅射MoS2-Ti薄膜的附着力、真空摩擦学、薄膜磨损率等性能。结果表明离子注入通过提高9Cr18不锈钢基底硬度,能够提高复合改性后9Cr18不锈钢材料真空摩擦学性能20%。
- 桑瑞鹏陈庆川周晖蒋钊张延帅
- 关键词：离子注入
- HiPIMS技术低温沉积CrN薄膜结构及性能研究被引量：3
- 2020年
- 目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控脉冲放电模式-MPP、双极脉冲放电模式-BPH)制备了系列低温沉积工艺下的CrN薄膜。选用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、纳米硬度测试仪及球盘摩擦试验仪表征了Cr N薄膜的组织结构、微观形貌、摩擦学性能。结果相对于传统的直流磁控溅射技术(DCMS),Hi PIMS具备高溅射材料离化率,偏压作用下产生的荷能离子对成膜表面的持续轰击作用,有效提升了低温沉积条件下成膜粒子的表面迁移能,显著抑制了贯穿柱状晶的连续生长,达到了细化晶粒,改善薄膜致密性的目的。BPH模式下沉积的薄膜表面光滑致密,表面粗糙度可达4.6 nm。细晶强化作用及薄膜致密性提升使得BPH模式下制备的Cr N薄膜硬度最高,可达(15.6±0.8)GPa。此外,BPH模式下沉积的CrN薄膜具备最为优异的摩擦学性能,摩擦系数低(~0.3)且运行平稳,并且在高速及重载作用下,仍能表现出优异的摩擦磨损性能。结论HiPIMS技术中的双极脉冲放电模式可显著提升沉积粒子表面迁移能,提升Cr N薄膜沉积反应动力学过程,实现低温条件下性能优异的Cr N薄膜的可控制备。
- 贵宾华周晖郑军杨拉毛草张延帅汪科良
- 关键词：HIPIMS沉积温度
- 一种多元难熔高熵合金氮化物薄膜及其制备方法
- 本发明提供一种多元难熔高熵合金氮化物薄膜及其制备方法，涉及表面工程领域。制备方法包括以下步骤：基体表面预处理；在预处理后的基体表面采用高功率脉冲磁控溅射法制备Ti过渡层；在Ti过渡层表面采用反应高功率脉冲磁控溅射法制备T...
- 冯兴国周晖张凯锋郑玉刚汪科良杨拉毛草张延帅
- 一种调制高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层的方法
- 本发明提供一种调制高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层的方法，属于真空技术领域。具体地说，是利用调制高功率脉冲磁控溅射技术，通过优化工艺参数，反应磁控溅射制备AlCrN涂层，与现有制备技术相比，该技术能够获得组织致密、表...
- 郑军周晖王启民贵宾华张延帅
- 文献传递
- 偏压对MPP制备AlTiSiN纳米复合涂层结构及性能的影响被引量：6
- 2020年
- 目的实现对AlTiSiN纳米复合涂层微观组织结构的调控及力学性能优化。方法利用可调控脉冲磁控溅射技术,通过调控基体偏压(-50^-250 V)制备了不同偏压条件下的AlTiSiN纳米复合涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、薄膜综合性能测试仪及球盘摩擦试验仪,测试了涂层的微观组织结构、组成成分、表面形貌、力学性能及摩擦学性能。结果偏压对涂层元素组成影响不大。微观组织结构方面,不同偏压条件下制备AlTiSiN纳米复合涂层的晶面衍射峰宽化现象明显,呈现纳米晶组织结构。-200 V条件下制备的涂层的晶面衍射峰呈“馒头峰”形态,表明涂层结晶性能出现明显下降,呈类非晶组织结构;偏压升至-250 V时,高能离子对涂层生长表面的持续轰击作用,使得涂层生长表面升温明显,导致结晶性能出现明显改善。涂层表面光滑致密,表面粗糙度最低可达1.753 nm。力学性能方面,随基体偏压的升高,涂层硬度在取得最大值后逐渐下降,最高硬度可达25.9 GPa,H/E^*系数可达0.13。摩擦学性能方面,偏压为-200 V时,涂层磨损率取得最小值4.7×10^-15 m^3/(N×m)。结论改变基体偏压,成功实现了涂层微观组织结构的调控生长,进而达到了优化涂层组织结构、力学性能及摩擦学性能的目的。
- 贵宾华周晖郑军马占吉杨拉毛草张延帅
- 关键词：力学性能摩擦学性能
