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李孔军

作品数:7 被引量:6H指数:2
供职机构:西华大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:金属学及工艺电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程

主题

  • 4篇渗氮
  • 4篇离子渗
  • 4篇离子渗氮
  • 4篇活性屏离子渗...
  • 3篇
  • 2篇中心电极
  • 2篇内孔
  • 2篇局域
  • 2篇辉光
  • 2篇辉光放电
  • 2篇活性
  • 2篇放电装置
  • 2篇改性
  • 2篇改性处理
  • 2篇
  • 1篇氮化合物
  • 1篇镀铬
  • 1篇镀铬层
  • 1篇输运
  • 1篇离子

机构

  • 7篇西华大学
  • 1篇成都赛飞斯金...

作者

  • 7篇李孔军
  • 6篇刘锦云
  • 5篇金应荣
  • 2篇吴护林
  • 2篇廖磊
  • 2篇赵广彬
  • 2篇刘胜明
  • 2篇何小玉
  • 2篇张隆平
  • 1篇张书

传媒

  • 1篇金属热处理
  • 1篇润滑与密封
  • 1篇西华大学学报...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2011
  • 3篇2010
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
活性屏离子氮化工艺及氮的气相输运机理研究
活性屏离子渗氮技术是一种很好的离子渗氮方法,已经得到了应用。但关于活性屏离子氮化过程中氮原子由气相到工件表面的输运机理还没有形成共识,在一定程度上妨碍了该技术的推广应用。本文对氮原子由气相到工件表面的输运机理进行了进一步...
李孔军
关键词:活性屏离子渗氮
文献传递
QPQ表面改性层和镀铬层干摩擦状态下磨损特性的研究被引量:3
2011年
在M-2000型摩擦磨损试验机上,对QPQ表面改性层和镀铬层干摩擦状态下的滑动摩擦特性进行对比试验研究,在扫描电子显微镜下观察磨痕的微观形貌,分析2种处理层的磨损机制。结果表明,在磨合阶段,QPQ表面改性层的磨损量较镀铬层的大,而在稳定磨损阶段,QPQ表面改性层的磨损率和摩擦因数均小于镀铬层;在磨合阶段,QPQ表面改性层的磨损机制主要为轻微的磨粒磨损和黏着磨损,镀铬层主要为严重的磨粒磨损,而在稳定磨损阶段,QPQ表面改性层的磨损机制主要为氧化磨损,镀铬层主要为黏着磨损。
张书刘锦云李孔军周卫宁
关键词:镀铬层干摩擦
纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮试验被引量:2
2010年
铁-氮化合物微粒被认为是活性屏离子渗氮过程中活性氮原子的主要输运载体,试验采用既不吸附氮也不与氮反应生成化合物的铜制活性屏和纯氮气氛,在没有铁-氮化合物微粒的情况下,对45钢试样进行渗氮处理。结果表明,在此条件下,45钢存在渗氮层,渗氮过程除依托铁-氮化合物输运外,活性氮原子还有其它重要的不可忽视的输运方式。
李孔军刘锦云金应荣赵广彬
关键词:活性屏离子渗氮
纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮的研究
采用铜制活性屏,在纯氮气氛下,对45钢进行活性屏(ASPN)离子渗氮处理,并对渗层的组织结构,渗层厚度等进行了分析。结果表明在没有以铁氮化合物作为载体的情况下对试样依然能进行渗氮操作。本文对渗层表面利用XRD进行物相分析...
李孔军刘锦云金应荣
关键词:活性屏离子渗氮
文献传递
内孔局域辉光等离子体放电装置及其使用方法
本发明公开了一种内孔局域辉光等离子体放电装置,包括以下零部件:中心电极,其用作正极;电缆,其与中心电极连接,用于向所述中心电极供电,并牵引放电装置运动;和至少一个屏蔽管,用于限制辉光放电的区域;其中一个屏蔽管位于中心电极...
刘锦云金应荣吴护林张隆平廖磊何小玉李孔军刘胜明
活性屏离子氮化过程中氮的输运机理分析被引量:2
2010年
将活性屏离子氮化过程中活性氮原子的输运方式分为无输运介质的扩散输运与有输运介质的吸附输运两种,指出扩散输运是活性氮原子的重要输运方式之一。此外,还重新分析了文献报道的活性屏离子氮化实验结果,阐述了活性屏材质等因素对氮化效果的影响。
金应荣刘锦云李孔军赵广彬
关键词:活性屏离子渗氮
内孔局域辉光等离子体放电装置及其使用方法
本发明公开了一种内孔局域辉光等离子体放电装置,包括以下零部件:中心电极,其用作正极;电缆,其与中心电极连接,用于向所述中心电极供电,并牵引放电装置运动;和至少一个屏蔽管,用于限制辉光放电的区域;其中一个屏蔽管位于中心电极...
刘锦云金应荣吴护林张隆平廖磊何小玉李孔军刘胜明
文献传递
共1页<1>
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