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李永康

作品数:12 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院物理研究所更多>>
发文基金:“九五”国家科技攻关计划北京市自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 5篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 6篇二极管
  • 6篇发光
  • 5篇氮化镓
  • 5篇金属有机物
  • 5篇金属有机物化...
  • 5篇发光二极管
  • 3篇量子效率
  • 3篇极型
  • 3篇饱和电流
  • 3篇GAAS
  • 2篇淀积
  • 2篇压焊
  • 2篇锗硅
  • 2篇砷化镓
  • 2篇光效
  • 2篇光效率
  • 2篇分子束
  • 2篇分子束外延
  • 2篇半导体
  • 2篇出光

机构

  • 12篇中国科学院
  • 1篇北京大学
  • 1篇北京师范大学
  • 1篇清华大学

作者

  • 12篇李永康
  • 5篇周均铭
  • 5篇彭铭曾
  • 5篇李卫
  • 5篇朱学亮
  • 5篇贾海强
  • 2篇黄绮
  • 2篇梅笑冰
  • 2篇彭长四
  • 1篇张录
  • 1篇江潮
  • 1篇李国辉
  • 1篇陈弘
  • 1篇关旭东
  • 1篇吴灵犀
  • 1篇莫邦燹
  • 1篇陈廷杰
  • 1篇刘玉龙
  • 1篇徐寿定
  • 1篇陈培毅

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报
  • 1篇北京大学学报...
  • 1篇清华大学学报...
  • 1篇物理
  • 1篇北京师范大学...
  • 1篇第六届全国分...

年份

  • 1篇2008
  • 4篇2006
  • 1篇2002
  • 2篇2001
  • 1篇1999
  • 2篇1992
  • 1篇1981
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
f_T为135GHz的平面结构SiGe异质结双极晶体管的研制被引量:2
2001年
利用多晶硅发射极技术与分子束外延生长SiGe基区技术相结合 ,研制成适于集成的平面结构、发射结面积为 3μm× 8μm的SiGe异质结双极晶体管 (HBT)。室温下该晶体管的直流电流增益 β为 30到 50 ,基极开路下 ,收集极 发射极反向击穿电压BVCEO 为 5V ,晶体管的截止频率fT 为13 5GHz。
贾霖倪学文莫邦燹关旭东张录宁宝俊韩汝琦李永康周均铭
关键词:锗硅异质结双极晶体管
桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管
本实用新型涉及一种可解决P电极和N电极边缘间发光损失的桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管,通过金属有机物化学气相沉积生长技术,在异质材料或双抛面蓝宝石衬底上生长氮化镓基LED的多层材料结构,经过光刻、淀积、刻蚀、蒸发、...
贾海强李卫李永康彭铭曾朱学亮
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桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管及制备方法
本发明涉及一种可解决P电极和N电极边缘间发光损失的桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管及制备方法,通过金属有机物化学气相沉积生长技术,在异质材料或双抛面蓝宝石衬底上生长氮化镓基LED的多层材料结构,经过光刻、淀积、刻蚀、...
贾海强李卫李永康彭铭曾朱学亮
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Si(001)衬底上GeSi外延膜的Crosshatch起源研究
本文研究了Si(001)衬底上GeSi外延膜的粗糙表面形貌,提出了一种新的粗糙表面形貌的形成机制,弥补了目前存在模型的不足.
陈弘李永康彭长四刘洪飞黄绮周均铭
关键词:SI衬底分子束外延生长
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桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管及制备方法
本发明涉及一种可解决P电极和N电极边缘间发光损失的桥式N电极型氮化镓基大管芯发光二极管及制备方法,通过金属有机物化学气相沉积生长技术,在异质材料或双抛面蓝宝石衬底上生长氮化镓基LED的多层材料结构,经过光刻、淀积、刻蚀、...
贾海强李卫李永康彭铭曾朱学亮
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掺杂浓度对p-GaAs的带隙变窄的影响被引量:1
1992年
用光致荧光的方法对分子束外延生长的(110)方向的掺Be的GaAs带隙变窄随掺杂浓度的变化进行研究。结果表明:对于P-GaAs,带隙变窄主要是价带上移造成的,杂质能级(带)相对导带的位置不变。因此,电离能随着掺杂浓度的增加而减小。
程文芹梅笑冰刘双刘玉龙李永康周均铭
关键词:掺杂带隙砷化镓
一种氮化镓基大管芯发光二极管及其制备方法
本发明涉及一种可解决P电极和N电极边缘间发光损失的氮化镓基大管芯发光二极管及其制备方法,通过金属有机物化学气相沉积生长技术,在异质材料或双抛面蓝宝石衬底上生长氮化镓基LED的多层材料结构,经过光刻、淀积、刻蚀、蒸发、剥离...
贾海强李卫李永康彭铭曾朱学亮
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Si上Ge薄膜特性研究
2002年
为了克服Ge雪崩光电二极管 (APD)中因Ge的电子与空穴的碰撞离化系数相差不大带来的的较大噪声的缺点 ,拟研制一种新的器件———Ge/Si的吸收倍增分离雪崩光电二极管(SAM APD) .先在n Si衬底上用B+ 注入和分子束外延 (MBE) 2种方法分别形成p Si,然后用MBE的方法在其上外延一层Ge膜 .利用透射电镜、X光双晶衍射、Hall剥层测量等方法对Ge膜的单晶质量、电特性以及材料的 p n结特性做了分析比较 ,得到的结论是 :Ge膜的单晶质量、电特性都比较好 ,直接生长的Ge膜的质量要优于经离子注入的Ge膜 ;但 p n结特性却是经离子注入的要好于直接生长的 .
李科杨茹李国辉彭长四李永康
关键词:雪崩光电二极管分子束外延透射电镜
HIP红外探测器与MOS读出开关的单片集成
1999年
为了验证P+-GexSi1-x/p-SiHIP红外探测器同MOS信号读出电路单片集成的可行性,对P+-GexSi1-x/p-Si异质结内光发射(HIP)红外深测器与CMOS读出电路的工艺兼容性做了分析,提出了一个可行的工艺方案。还采用3μmNMOS工艺,制备了将P+-GexSi1-x/p-SiHIP红外探测器与NMOS信号读出开关集成在一起的实验性芯片。在77K温度下,分子束外延(MBE)生长的P+-GexSi1-x/p-SiHIP红外探测器(无介质腔和抗反射层)的黑体探测度D*(500,1000,1)为11Mm·Hz1/2/W。实现了77K下用NMOS开关对探测器输出信号的选择读出。
王瑞忠陈培毅钱佩信李永康周均铭
关键词:锗硅合金红外探测器单片集成
一种氮化镓基大管芯发光二极管
本实用新型涉及一种可解决P电极和N电极边缘间发光损失的氮化镓基大管芯发光二极管,通过金属有机物化学气相沉积生长技术,在异质材料或双抛面蓝宝石衬底上生长氮化镓基LED的多层材料结构,经过光刻、淀积、刻蚀、蒸发、剥离等步骤制...
贾海强李卫李永康彭铭曾朱学亮
文献传递
共2页<12>
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