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王文涛

作品数：3 被引量：8H指数：2
供职机构：哈尔滨理工大学更多>>
发文基金：黑龙江省教育厅科学技术研究项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电沉积
  • 2篇电沉积制备
  • 1篇电池
  • 1篇镀镍
  • 1篇英文
  • 1篇太阳能
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇镍-磷合金
  • 1篇磷合金
  • 1篇铝合金
  • 1篇结合力
  • 1篇禁带
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇化学镀
  • 1篇化学镀镍
  • 1篇化学镀镍-磷...
  • 1篇合金
  • 1篇薄膜太阳能电...
  • 1篇沉积速率

机构

  • 3篇哈尔滨理工大...

作者

  • 3篇王珩
  • 3篇谢菁琛
  • 3篇王文涛
  • 3篇李丽波
  • 3篇杨秀春
  • 1篇田海燕
  • 1篇李琦
  • 1篇徐妍

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇电镀与环保
  • 1篇电镀与涂饰

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
电沉积制备铜铟硫薄膜的研究（英文）
2015年
采用电沉积的方法制备铜铟硫(Cu In S2,CIS2)薄膜,紫外可见光谱仪测试结果表明电沉积制备的CIS2薄膜的禁带宽度为1.5 e V。X射线光电子能谱(XPS)分析表明,薄膜中的铜、铟、硫元素的价态分别为+1,+3和-2。采用线性伏安扫描测试了薄膜的光电性质,在黑暗和光照的条件下,I-V曲线斜率变化率为0.6×10-3。运用DMol3和CASTEP模块计算了电沉积制备的铜铟硫薄膜的禁带宽度,其数值为1.5 e V。通过Materials Studio建立了电沉积制备出的铜铟硫薄膜的结构和XRD模拟谱图,与实验结果一致。
李丽波李琦王珩杨秀春田海燕谢菁琛王文涛
关键词：电沉积禁带宽度
电沉积制备铜系薄膜太阳能电池吸收层的研究现状被引量：4
2014年
介绍了一步沉积法和多步沉积法制备铜铟硒(CISe)、铜铟硫(CIS)、铜铟镓硒(CIGS)、铜锌锡硫(CZTS)等铜系薄膜太阳能电池吸收层的电沉积技术,并对其未来发展进行了展望。
徐妍李丽波王珩杨秀春谢菁琛王文涛
关键词：电沉积
铝合金化学镀镍-磷合金的研究被引量：4
2014年
铝合金的预处理是化学镀镍最为重要的一个环节。采用二次浸锌法对铝合金表面进行预处理。考察了浸锌过程中浸锌时间、浸锌温度、退锌时间等因素对沉积速率的影响。化学镀镍采用先碱镀再酸镀的方式,获得均匀、光亮的镀层,并讨论了主盐、还原剂、配位剂、pH值等因素对酸性化学镀镍沉积速率的影响,得到了最佳的工艺条件和镀液配方。制得的Ni-P合金镀层表面均匀、致密。
李丽波王珩杨秀春谢菁琛王文涛
关键词：化学镀镍-磷合金铝合金沉积速率结合力
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