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范轶敏

作品数:6 被引量:15H指数:2
供职机构:上海大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:“上海-应用材料研究与发展”基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇多孔硅
  • 4篇金刚石薄膜
  • 3篇钝化
  • 3篇金刚石膜
  • 3篇光致
  • 3篇光致发光
  • 3篇发光
  • 3篇MPCVD
  • 2篇氧化铝
  • 2篇英文
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 1篇等离子体化学...
  • 1篇氧化铝陶瓷
  • 1篇陶瓷
  • 1篇气体压力
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微波等离子体

机构

  • 6篇上海大学

作者

  • 6篇范轶敏
  • 5篇夏义本
  • 5篇居建华
  • 5篇王林军
  • 4篇方志军
  • 4篇张伟丽
  • 3篇王志明
  • 2篇杨莹
  • 2篇史伟民
  • 1篇张文广
  • 1篇桑文斌
  • 1篇莫要武

传媒

  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇光学学报
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇无机材料学报

年份

  • 3篇2002
  • 3篇2001
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
多孔硅的制备及类金刚石/多孔硅薄膜光电性质的研究
该论文主要利用类金刚石DLC薄膜的优良性能,例如具有硬度高,摩擦系数小和化学稳定性以及红外光学性能,将类金刚石薄膜(DLC)沉积于多孔硅(PS)表面上作为钝化膜,可以起到稳定多孔硅的发光性能的作用.该论文采用阳极氧化法制...
范轶敏
关键词:多孔硅类金刚石薄膜钝化光致发光
文献传递
系统压强对微波等离子体化学气相沉积金刚石成核的影响(英文)被引量:1
2001年
为了在氧化铝上制备 (100)定向织构的金刚石薄膜,必须先提高金刚石的成核密度。在微波 等离子体化学气相沉积( MPCVD)系统中,采用低压成核的方法,在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密 度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达 108 cm- 2。在此基础上,沉积出( 100)织构的金 刚石薄膜。
王志明夏义本杨莹方志军王林军居建华张伟丽范轶敏
关键词:MPCVD金刚石膜氧化铝气体压力
类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用
2002年
介绍了类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用.类金刚石薄膜隔绝了外界对多孔硅表面的影响,使硅氢键不易断裂,从而减少了非辐射复合中心,稳定了多孔硅的发光性能.通过在类金刚石薄膜中掺氮还可以进一步提高钝化效果,因为氮使多孔硅表面更多的悬空键被钝化形成Si—N键,从而提高了发光强度.
范轶敏居建华张伟丽夏义本王志明方志军王林军
金刚石膜/多孔硅复合材料的性能表征被引量:8
2001年
提出了一种新颖的多孔硅表面钝化技术 ,即采用微波等离子体辅助的化学气相沉积 (MPCVD)方法在多孔硅上沉积金刚石薄膜。采用原子力显微镜 (AFM)、扫描电子显微镜 (SEM )、X射线衍射仪 (XRD)、拉曼光谱仪和荧光分光光度计对多孔硅及金刚石膜的表面形貌、结构和发光特性进行了表征。结果表明采用微波等离子体化学气相沉积法可在多孔硅基片上形成均匀、致密、性能稳定且对可见光具有全透性的金刚石膜。金刚石膜与多孔硅的复合 ,大大稳定了多孔硅的发光波长和强度 ,同时增强了多孔硅的机械强度。
王林军夏义本居建华范轶敏张文广莫要武史伟民桑文斌
关键词:多孔硅金刚石薄膜表面钝化光致发光复合材料
金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核被引量:6
2002年
在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.
王志明夏义本杨莹方志军王林军居建华范轶敏张伟丽
关键词:金刚石薄膜MPCVD氧化铝陶瓷成核化学气相沉积基片
金刚石膜在多孔硅发光中的应用(英文)
2001年
采用微波等离子体化学气相沉积( MPCVD)法成功地在多孔硅上沉积出均匀、致密的金刚 石膜。光致发光测量表明,金刚石膜可以有效稳定多孔硅的发光波长和发光强度,具有明显的钝 化效应。金刚石膜的这个特点再加上高硬度特性使金刚石膜成为多孔硅的一种潜在的钝化膜。
王林军夏义本范轶敏居建华方志军张伟丽史伟民
关键词:多孔硅钝化光致发光金刚石膜MPCVD
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