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赵丽新

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：东南大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电子束曝光
  • 1篇掩模
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体器件
  • 1篇PMMA
  • 1篇LB技术
  • 1篇超薄

机构

  • 1篇东南大学

作者

  • 1篇洪庆月
  • 1篇于向东
  • 1篇彭力
  • 1篇钱峰
  • 1篇赵丽新
  • 1篇顾宁
  • 1篇陆祖宏

传媒

  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇1996
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
LB技术制备大面积超薄PMMA抗蚀层的研究
1996年
采用自行研制的ＬＢ自动提膜装置，制备出大面积（１０×８ｃｍ２）、高质量的ＰＭＭＡ超薄抗蚀剂膜，并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光，湿法蚀刻，制作了分辨率优于０．５μｍ，特征线宽０．３８μｍ的４（１００ｍｍ）铬掩模版。
顾宁钱峰洪庆月陆祖宏于向东彭力张仲毅赵丽新张海平刘永宽
关键词：掩模半导体器件电子束曝光
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共1页<1>
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