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陈博昊

作品数:6 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学技术大学化学与材料科学学院化学物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学

主题

  • 3篇电子能
  • 2篇电子能谱
  • 2篇氧化铈
  • 2篇脱附
  • 2篇光电子能谱
  • 2篇TPD
  • 2篇XPS
  • 2篇X射线
  • 2篇X射线光电子...
  • 2篇CU(111...
  • 2篇程序升温脱附
  • 2篇PD
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧缺陷
  • 1篇氧物种
  • 1篇原子
  • 1篇原子氧
  • 1篇同步辐射光电...
  • 1篇重水
  • 1篇羟基

机构

  • 6篇中国科学技术...
  • 2篇中国科学院

作者

  • 6篇陈博昊
  • 4篇马运生
  • 3篇黄伟新
  • 2篇许令顺
  • 2篇邬宗芳
  • 1篇朱俊发
  • 1篇潘海斌
  • 1篇姜志全
  • 1篇张玉林
  • 1篇袁青
  • 1篇胡婕

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇Chines...
  • 1篇Chines...
  • 1篇第十四届全国...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
原子D和D2O在CeOx(111)/Cu(111)模型表面的吸附和反应
氧化铈作为活性组分或载体在CO氧化和水汽变换反应等催化反应体系中有着广泛的应用。研究结果表明,氧缺陷的浓度和分布[1]以及表面羟基的反应性能[2]这两个因素在氧化铈催化反应体系有着至关重要的影响。
陈博昊丁良兵马运生黄伟新
关键词:重水羟基氧化铈
NO在Cu(111)表面吸附和分解的XPS和TPD研究:不同氧物种的影响(英文)被引量:3
2013年
利用X射线光电子能谱和程序升温脱附谱研究了NO在清洁和预吸附氧的Cu(111)表面上的吸附和反应.通过改变NO的暴露量和退火温度,在Cu(111)表面可以制备出不同种类的化学吸附氧物种,其O1s的结合能分别位于531.0eV(O531)和529.7eV(O529).表面O531物种的存在对NO的不同吸附状态有着显著影响,同时使得大部分NO吸附分子(NO(a))在加热过程中发生分解并以N2O和N2形式脱附;而表面O529物种对NO(a)的解离脱附有着明显的抑制作用.相对于O531物种来说,O529物种对NO吸附表现出更强的位阻效应.上述结果表明,NO在Cu(111)表面的吸附和分解行为与预吸附氧物种的种类和覆盖度密切相关.
陈博昊马运生丁良兵许令顺邬宗芳邬宗芳黄伟新
关键词:氧物种X射线光电子能谱
利用NO_2的分解在Au(997)表面制备吸附氧原子
2010年
利用以同步辐射光为激发光源的高分辨光电子能谱研究了NO2与Au(997)单晶表面的相互作用.芯能级和价带光电子发射结果都表明170K低温条件下,低暴露量时NO2在Au(997)表面上发生分解,形成NO(a)和O(a)的共吸附表面物种.当样品在300K退火时,NO(a)发生脱附,而O(a)依然吸附在Au(997)表面上.退火温度升至750K时,表面上O(a)的信号完全消失.结果表明,在超高真空条件下,利用NO2的热分解是在Au(997)表面上制备原子氧吸附物种的有效方法.
张玉林邬宗芳陈博昊许令顺潘海斌马运生姜志全朱俊发黄伟新
关键词:原子氧同步辐射光电子能谱
三甲基镓在Pd(111)表面的分解以及预吸附氢的影响
<正>Pd/Ga2O3催化剂在乙炔选择加氢,甲醇水汽重整,烷基脱氢以及水汽变换等反应中具有良好的催化反应性能和热稳定性,因而引起了广泛的研究兴趣。目前的研究结果对于反应的活性表面组成、结构以及相应的微观反应机理还存在很多...
丁良兵陈博昊马运生黄伟新
关键词:X射线光电子能谱
文献传递
氧化铈/金属倒载模型催化剂的制备和表面吸附反应性能研究
氧化铈作为金属催化剂载体和助剂在水煤气变换、CO氧化、汽车尾气净化等催化反应过程中有着广泛地应用。其中,金属/氧化铈催化剂的催化活性与氧化铈表面结构(尤其是表面上氧缺陷的浓度和分布)、金属一氧化物相互作用以及金属一氧化铈...
陈博昊
关键词:氧化铈化学吸附
三甲基镓在Pd(111)表面吸附解离及表面预吸附H和O的影响
2016年
利用X-射线光电子能谱(XPS)和程序升温脱附谱(TPD)研究了三甲基镓在Pd(111)表面的吸附和解离行为,并考察了表面预吸附H和O的影响。结果表明,在吸附温度为140 K时,三甲基镓在Pd(111)上主要为解离吸附,此时表面物种为Ga(CH3)x (x=1,2,3)和CHx物种。加热将导致Ga的甲基化合物中的Ga-C键发生分步断裂,在不同温度下产生CH4和H2从表面脱附。同时,XPS结果证实了在275~325 K的温度区间内存在Ga甲基化合物的分子脱附。退火至更高温度,表面只观察到积碳和金属Ga物种,这二者随着温度的继续升高逐渐向体相扩散。在Pd(111)表面预吸附O和H对上述吸附和解离行为存在显著的影响。当表面预吸附H时,脱附产物CH4和H2的脱附主要位于315 K,可归属为一甲基镓的解离脱附。当表面预吸附O时,只在258 K观察到CH4和H2的脱附峰,可能来自于Pd-O-Ga(CH3)2吸附结构的解离.
丁良兵马运生胡婕陈博昊
关键词:解离XPSTPD
共1页<1>
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