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项神佑
作品数:
6
被引量:1
H指数:1
供职机构:
南昌大学
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发文基金:
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相关领域:
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理学
化学工程
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合作作者
周雪珍
南昌大学理学院稀土与微纳米功能...
李永绣
南昌大学理学院稀土与微纳米功能...
周新木
南昌大学
李东平
南昌大学
刘艳珠
南昌大学
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李永绣
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二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法
一种二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法,是将二氧化钛粉体加入到含分散剂的去离子水中,固体浓度为100~200g/l,用氢氧化钠稀溶液调节pH值在9.5~11.5范围,超声分散1~30min,得到悬浮性能良好的浆料。在50...
李永绣
项神佑
周新木
李静
周雪珍
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刘艳珠
TiO<sub>2</sub>及钛铈核壳结构复合氧化物的抛光性能
化学机械抛光(CMP)是超大规模集成电路制造技术(ULSI)中最佳平坦化技术。现行硅片抛光采用的研磨剂主要是纳米二氧化硅、纳米二氧化铈以及它们的复合氧化物。随着集成电路对硅基芯片表面质量要求的不断提高以及稀土抛光粉价格不...
项神佑
关键词:
化学机械抛光
一种硅片化学机械抛光浆料配方
一种硅片化学机械抛光浆料配方,由二氧化钛磨料、添加剂、分散剂、pH调节剂及纯水组成;各种组分的质量百分比为:二氧化钛磨料为0.1%~5%,其粒径控制在3000nm以下;分散剂为0%~1.0%,添加剂为0.005%~0.3...
李永绣
项神佑
李静
李东平
周雪珍
刘艳珠
周新木
文献传递
TiO2及钛铈核壳结构复合氧化物的抛光性能
化学机械抛光(CMP)是超大规模集成电路制造技术(ULSI)中最佳平坦化技术。现行硅片抛光采用的研磨剂主要是纳米二氧化硅、纳米二氧化铈以及它们的复合氧化物。随着集成电路对硅基芯片表面质量要求的不断提高以及稀土抛光粉价格不...
项神佑
关键词:
化学机械抛光
二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法
一种二氧化钛负载氧化铈抛光粉的制备方法,是将二氧化钛粉体加入到含分散剂的去离子水中,固体浓度为100~200g/l,用氢氧化钠稀溶液调节pH值在9.5~11.5范围,超声分散1~30min,得到悬浮性能良好的浆料。在50...
李永绣
项神佑
周新木
李静
周雪珍
李东平
刘艳珠
文献传递
超细锡铈复合氧化物的制备及其抛光性能
被引量:1
2011年
以SnCl2.2H2O和Ce2(CO3)3.8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械化学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物。研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了用于K9、ZF7玻璃的抛光性能。结果表明,复合氧化物的主晶相为立方萤石型氧化铈,次晶相为二氧化锡。随煅烧温度从800℃升高到1000℃,合成产物的结晶度提高,但抛光速率并不随之提高。具有抛光增强效果的复合氧化物是在800℃煅烧温度下合成的锡复配量超过50%的复合氧化物。达到最好抛光效果所需的Sn∶Ce的量之比与抛光玻璃有关,ZF7玻璃为5∶5,K9玻璃为6:4。
罗巍
周雪珍
李艳花
项神佑
李永绣
关键词:
化学机械抛光
光学玻璃
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