黄代勇
- 作品数：6 被引量：54H指数：3
- 供职机构：武汉理工大学更多>>
- 发文基金：湖北省自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术理学电气工程更多>>
- 保温对玻璃熔窑内传热与流动的影响
- 2002年
- 建立了浮法玻璃熔窑内传热与流动的三维数学模型 ,研究了不同保温情况对玻璃液流场、熔窑热平衡及玻璃熔化质量的影响。对熔化部保温可以起到改善玻璃熔化质量。
- 马晶黄代勇朱坤岳爱文赵修建
- 关键词：保温玻璃熔窑数学模拟
- Zn_xCd_(1-x)S薄膜的制备及其光电性质的研究被引量：1
- 2002年
- 用化学池沉积法制备了不同锌含量的 Znx Cd( 1 -x) S薄膜 ,并阐述了不同锌含量对薄膜性能的影响及其原因。通过 X射线衍射、扫描电镜、光谱透过率等测试方法表明 ,在 0 .4
- 龚跃球黄代勇马晶朱坤赵修建
- 关键词：光电性质太阳电池锌含量
- 磁控溅射法制备光催化TiO/_2薄膜的研究
- 随着世界范围内环境问题的日益严重，利用TiO/_2光催化剂进行环境净化已经引起了广泛的重视。当前的应用主要集中在水和空气的净化和处理。然而，传统粉末光催化剂在应用中存在许多缺点，如反应过程中必须搅拌，反应后催化剂难于分离...
- 黄代勇
- 关键词：磁控溅射工艺参数光催化活性
- 文献传递
- 热处理温度对TiO_2薄膜性能的影响被引量：15
- 2002年
- 采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了 Ti O2 薄膜。靶材为纯度 99.9%的钛靶 ,溅射时基片不加热。XRD结果显示 ,所得 Ti O2 薄膜的晶型为锐钛矿相 ;SEM结果显示 ,随着热处理温度的增加 Ti O2 薄膜晶粒尺寸增大 ;光催化性能显示 ,经过 5 0 0℃热处理 1h后的 Ti O2
- 黄代勇龚跃球刘保顺赵青南赵修建
- 关键词：磁控溅射光催化溅射气压
- 直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜过程中热处理温度对薄膜性能的影响被引量：13
- 2002年
- 采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了TiO2薄膜。靶材为纯度99.9％的钛肥,溅射时基片不加热。XRD结果显示,所得TiO2薄膜的晶型为锐钛矿相:SEM结果显示,随着热处理温度的增加TiO2薄膜晶粒尺寸增大;光催化性能显示,经过500℃热处理1小时后的TiO2薄膜具有较好的光催化效率。
- 黄代勇刘保顺赵修建
- 关键词：直流反应磁控溅射热处理温度二氧化钛薄膜
- 反应烧结碳化硅研究进展被引量：25
- 2002年
- 对有关反应结合碳化硅 (RBSC)材料的研究进展作了综述 ,并对存在的问题和今后可能的发展方向提出了自己的见解 ,包括 :进一步提高性能 ;降低游离硅含量 ,提高使用温度 ;提高材料的可靠性和稳定性 ;
- 武七德洪小林黄代勇
- 关键词：碳化硅非氧化物陶瓷
