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华德清
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3
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中国电子科技集团公司
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合作作者
陈特超
电子工业部
肖友文
电子工业部
安志超
电子工业部
席光荣
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影响离子束溅射淀积薄膜的工艺参数分析
本文通过对离子束溅射淀积薄膜的工艺参数的分析,和实验所得出的经验,对指导离子束蚀刻镀膜操作人员在该类设备上制作出优良的薄膜具有一定的参考实用价值.
华德清
陈特超
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离子束
蚀刻
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淀积
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LD-4型多离子束共溅射镀膜机
安志超
华德清
陈特超
席光荣
肖友文
该机是根据带能量的离子束轰击固体表面的溅射原理研制的半导体工艺设备。只需在真空室外转换靶位,实现一机两种镀膜技术。一是多个离子束同时轰击各自对应的靶,溅出的各个靶材原子同时淀积在一个衬底上的共溅射镀膜技术。二是各个靶材溅...
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镀膜机
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