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姚建国

作品数：39 被引量：26H指数：3
供职机构：河南科技学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金河南省高校青年骨干教师资助项目更多>>
相关领域：金属学及工艺电子电信化学工程文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 28篇专利
  • 9篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 6篇金属学及工艺
  • 5篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇医药卫生
  • 1篇文化科学
  • 1篇语言文字

主题

  • 12篇化学机械抛光
  • 12篇机械抛光
  • 11篇抛光辊
  • 11篇光辊
  • 7篇光固化
  • 6篇抛光
  • 6篇辅助剂
  • 6篇ROLL-T...
  • 5篇研抛
  • 5篇磨料
  • 4篇树脂
  • 4篇晶片
  • 4篇固化树脂
  • 4篇光固化树脂
  • 3篇单晶
  • 3篇单晶片
  • 3篇旋转工作台
  • 3篇陶瓷
  • 3篇抛光机
  • 3篇抛光液

机构

  • 39篇河南科技学院
  • 2篇南京航空航天...
  • 1篇河南科技大学
  • 1篇上海理工大学

作者

  • 39篇姚建国
  • 29篇苏建修
  • 22篇王占奎
  • 15篇李勇峰
  • 13篇马利杰
  • 11篇宁欣
  • 9篇付素芳
  • 9篇郑丽媛
  • 9篇王雅慧
  • 9篇张骞
  • 7篇陈佳鹏
  • 5篇庞子瑞
  • 4篇余泽通
  • 4篇刘亚明
  • 4篇付成果
  • 3篇逄明华
  • 3篇丛晓霞
  • 3篇洪源
  • 3篇孔晓红
  • 3篇郭昊

传媒

  • 2篇航空制造技术
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇机械工程材料
  • 1篇电镀与环保
  • 1篇表面技术
  • 1篇河南科技学院...
  • 1篇河南科技学院...
  • 1篇大学教育

年份

  • 3篇2021
  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 4篇2017
  • 2篇2016
  • 10篇2015
  • 6篇2014
  • 5篇2013
  • 1篇2012
共 39 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
CP4研抛晶片时非均匀性和材料去除速率研究被引量：1
2014年
建立了CP4研抛晶片时,晶片上任一点相对于研抛盘的运动方程。通过对其运动轨迹的分析,建立了工件材料研抛非均匀系数的函数模型和相对研抛材料去除速率的函数模型。运用Matlab软件,模拟分析了各个参数变化对研抛非均匀系数和相对研抛效率的影响。结果表明:对材料去除效率影响最大的参数是偏心距e的大小,其次是从动系数λ1;对晶片非均匀性影响最大参数是从动系数λ1,其次是偏心距e;当λ1=1,λ2>0.3,e取工艺允许的最大值时,工件研抛的均匀性最好。
王占奎逄明华苏建修姚建国
关键词：研抛非均匀性
一种气吸式免粘单面研抛用工件承载装置
一种气吸式免粘单面研抛用工件承载装置，它包括.吸盘（11），其特征是所述的吸盘（11）的中心设有一个活塞腔（14），活塞（（7）安装在活塞腔（14）中，活塞（7）通过安装有测微部件的调节螺旋体（10）与气缸盖（15）相连...
王占奎苏建修左敦稳梁明超姚建国马利杰李勇峰刘亚明付素芳
一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂和抛光液及其制备方法
本发明提供了一种304不锈钢化学机械抛光用抛光剂，包括下述重量份的组分：磨料1～10份，磨料分散剂1～15份，氧化剂1～20份，表面活性剂2～10份，碳纳米粉0.5～5份，pH值调节剂5～20份和pH值稳定剂1～5份；所...
苏建修王占奎李勇峰姚建国陈佳鹏彭亚男刘振辉李洁静
一种刮削用台钳
本实用新型公开了一种刮削用台钳，涉及加工工具领域，包括基座以及底座，所述基座上设有升降装置，所述底座通过升降装置实现升降，所述底座上通过转盘轴承转动连接有台钳座，台钳座的底部固定连接有蜗轮，所述蜗轮与蜗杆啮合，所述蜗杆穿...
余泽通姚建国赵高丽
一种过滤装置
本实用新型公开了一种过滤装置。它包括滤网和骨架，所述滤网为多层烧结滤网置于圆形骨架的内表面上，上述烧结滤网下端口的内表面上设有压紧环，通过螺栓将压紧环与烧结滤网固定，圆形烧结底网置于压板和底板之间，通过螺栓使之固定为一体...
宁欣张素君宁李谱郑艳玲余泽通苗青林姚建国高涛
一种Roll-to-Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊的弹性层及其制备方法
一种Roll‑to‑Roll化学机械抛光机用固结磨料抛光辊的弹性层，其技术方案要点是：组分与重量百分比如下：光固化树脂20%～60%，附着剂2%~10%，活性稀释剂20%～50%，光引发剂5%～15%，促进剂0.5%～7...
苏建修张文庆王占奎姚建国张骞郑丽媛王雅慧付成果
一种Roll-to-Roll化学机械抛光机用游离磨料抛光辊
本实用新型公开了一种Roll-to-Roll化学机械抛光机用游离磨料抛光辊，其技术方案要点是：它包括游离磨料抛光辊基体，游离磨料抛光辊的两侧分别设有抛光辊左端支撑机构和抛光辊右端支撑机构，游离磨料抛光辊基体的外侧设有游离...
苏建修贾琛姚建国郭竞杰郑丽媛王雅慧张骞陈佳鹏
一种晶体基片超精密研抛实验用载物台
本实用新型公开了一种晶体基片超精密研抛实验用载物台。本实用新型的技术方案要点是，一种晶体基片超精密研抛实验用载物台，它包括载物盘，压块，载物盘与压块之间通过定位联接结构固定。本实用新型结构合理，使用方便，便于使用，能够极...
苏建修洪源刘幸龙丛晓霞王振宁王占合姚建国胡志刚
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，本发明的技术方案要点是，一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，在放卷辊的后方设置有水平辊，水平辊的后方设置有后驱动轮装置，后驱动轮装置的后方设置有抛光辊机构，抛光辊机...
苏建修王占奎姚建国李勇峰庞子瑞马利杰郭昊付素芳
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘。本发明的技术方案要点是，本发明的技术方案要点是，一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘，它包括固结磨料层、联接层、金属基体层，固结磨料层按照重量百分比含量包括：...
苏建修庞子瑞马利杰付素芳姚建国郑秋白刘志响张竹青
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