宋美绚
- 作品数：3 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中国计量学院机电工程学院更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信文化科学更多>>
- PECVD法淀积不同应力状态氮化硅薄膜工艺研究被引量：7
- 2011年
- 等离子增强化学气相淀积法(PECVD)淀积的氮化硅薄膜具有沉积温度低、生长速率高、均匀性好等优点,在微电子机械系统(Micro-Electromechanical System,MEMS)中的应用越来越广泛,研究其应力状态对研制MEMS器件和系统具有重要意义。本文在大量实验的基础上,淀积出高压应力、低压应力、微应力、低张应力和高张应力五种不同应力状态的氮化硅薄膜,并对残余应力与SiH4/NH3流量比例、射频功率之间的关系进行了说明。
- 韩建强王小飞刘珍宋美绚李青
- 关键词：微电子机械系统氮化硅
- 高校图书馆占座行为的成因、危害与策略被引量：7
- 2011年
- 占座行为一直是高校图书馆管理的一道难题。高校图书馆占座位的现象越来越严重,不仅造成了教育资源的浪费,而且影响了图书馆和谐的读书环境。针对高校图书馆内占座行为的成因和引发的危害进行了分析,并提出解决这一难题的措施。
- 宋美绚
- 关键词：图书馆数字图书馆光电传感器
- 淀积参数对PECVD氮化硅薄膜力学特性的影响被引量：2
- 2011年
- 等离子增强化学气相淀积(PECVD)法制备的氮化硅薄膜具有沉积温度低、生长速率高和残余应力可调节等特点,研究其力学特性对研制MEMS器件和系统具有重要意义。采用HQ-2型PECVD淀积台,在沉积温度为350℃,NH3流量为30cm3/min的条件下,通过改变氩气稀释至5%的SiH4流量和射频功率大小,制备了具有压应力、微应力和张应力的多种氮化硅薄膜样品。采用纳米压痕仪Nanoidenter-G200对淀积薄膜的杨氏模量和硬度进行测试,结果表明,在较小的SiH4流量和较高的射频功率条件下,淀积的氮化硅薄膜具有更高的杨氏模量和硬度。
- 王小飞韩建强宋美绚严天宏
- 关键词：纳米压痕杨氏模量
