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李海峰

作品数:4 被引量:5H指数:1
供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:自动化与计算机技术金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇各向异性磁电...
  • 4篇磁电
  • 4篇磁电阻
  • 3篇子层
  • 3篇NI
  • 3篇FE
  • 3篇X
  • 1篇电阻
  • 1篇电阻薄膜
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇直流磁控溅射...
  • 1篇镍铁
  • 1篇坡莫合金
  • 1篇缓冲层
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇NI0
  • 1篇CR
  • 1篇磁场热处理

机构

  • 4篇北京科技大学

作者

  • 4篇朱逢吾
  • 4篇李海峰
  • 4篇于广华
  • 3篇马纪东
  • 2篇张辉
  • 1篇赵洪辰
  • 1篇杨涛
  • 1篇龙世兵

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇金属学报
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 4篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法
一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法,涉及功能材料薄膜的制备,特别是涉及制备磁电阻薄膜。本方法是在清洗干净的玻璃基片上或单晶硅基片上沉积镍铁Ni<Sub>0.81</Sub>Fe<Sub>0.19</Sub>薄膜,将...
朱逢吾于广华李海峰杨涛滕胶
文献传递
(Ni<,0.81>Fe<,0.19>)<,1-x>Cr<,x>种子层对Ni<,0.81>Fe<,0.19>薄膜各向异性磁电阻和微结构的影响
本文研究了(Ni<,0.81>Fe<,0.19>)<,1-x>Cr<,x>种子层的成分和厚度对Ni<,0.81>Fe<,0.19>薄膜各向异性磁电阻及微结构的影响.结果表明:当种子层(Ni<,0.81>Fe<,0.19>...
李海峰马纪东张辉于广华朱逢吾
关键词:各向异性磁电阻
文献传递
种子层(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-x)Cr_x成分及厚度对Ni_(0.81)Fe_(0.19)薄膜磁性和微结构的影响被引量:1
2003年
用直流磁控溅射方法制备了性能优良的以(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx为种子层的Ni0.81Fe0.19薄膜,研究了种子层成分 及厚度对薄膜磁性和微结构的影响,结果表明:当种子层(Ni0.81Fe0.19)0.63Cr0.37厚度为5.5 nm时,Ni0.81Fe0.19(20.0 nm) 薄膜的各向异性磁电阻(AMR)值为(2.53±0.06)%;当Cr的含量为0.36时, Ni0.81Fe0.19(60.0 nm)薄膜的AMR值为 (3.35±0.06)%.AFM及XRD研究表明:不同厚度缓冲层(厚度分别为2.8,5.5和8.3 nm)的Ni0.81Fe0.19(20.0 nm)薄 膜表面平均晶粒尺寸基本都为35.2 nm,但其111织构相差很大,AMR值最大时,对应的111衍射峰最强;不同Cr含量(分 别为0.28,0.36和0.41)的Ni0.81Fe0.19(60.0 nm)薄膜表面平均晶粒尺寸和111衍射峰相差都很明显,AMR值最大时, 对应地薄膜表面平均晶粒尺寸最大, Ni0.81 Fe0.19 111衍射峰也最强.
李海峰马纪东张辉于广华朱逢吾
关键词:各向异性磁电阻
(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-x)Cr_x缓冲层上生长高各向异性磁电阻Ni_(0.81)Fe_(0.19)薄膜的研究被引量:4
2003年
用直流磁控溅射方法制备了以(Ni0.81Fe0.19)1-xCrx为缓冲层的Ni0.81Fe0.19薄膜,研究结果表明:当缓)中层厚度约为4.4 nm,Cr的浓度约为36(原子百分数)时,Ni0.81Fe0.19薄膜的各向异性磁电阻(AMR)值较大,其最大值达3.35%.原子力显微镜(AFM)及x射线衍射(XRD)研究表明:Ni0.81Fe0.19薄膜AMR值最大时,其表面平均晶粒尺寸最大,Ni0.81Fe0.19(111)衍射峰最强.
李海峰马纪东于广华龙世兵赵洪辰朱逢吾
关键词:直流磁控溅射法各向异性磁电阻
共1页<1>
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