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杜英辉

作品数:26 被引量:19H指数:3
供职机构:中国原子能科学研究院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学核科学技术化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 9篇专利
  • 8篇会议论文

领域

  • 8篇理学
  • 6篇核科学技术
  • 2篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 10篇同位素
  • 5篇自支撑
  • 4篇核物理
  • 3篇种核
  • 3篇重离子
  • 3篇连接件
  • 3篇均匀性
  • 3篇加速器
  • 3篇滚轧
  • 3篇衬底
  • 2篇电子轰击
  • 2篇真空
  • 2篇真空退火
  • 2篇支撑架
  • 2篇团聚
  • 2篇退火
  • 2篇喷镀
  • 2篇脱膜剂
  • 2篇结合力
  • 2篇冷凝热

机构

  • 26篇中国原子能科...
  • 1篇中国科学院近...

作者

  • 26篇杜英辉
  • 19篇樊启文
  • 14篇张榕
  • 11篇许国基
  • 7篇胡跃明
  • 3篇吴晓光
  • 3篇贺创业
  • 3篇郑云
  • 3篇吴义恒
  • 3篇孟波
  • 3篇李广生
  • 3篇胡世鹏
  • 3篇汪金龙
  • 2篇张蓉
  • 2篇王华
  • 2篇王瑞兰
  • 1篇张宏斌
  • 1篇周建明
  • 1篇夏清良
  • 1篇卢子伟

传媒

  • 9篇原子能科学技...
  • 1篇第四届全国高...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇第八届全国核...
  • 1篇第九届中国核...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
  • 1篇2002
  • 1篇1999
26 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种<Sup>6</Sup>LiF靶膜的制备工艺
本发明属于同位素靶材制备技术领域,公开了一种<Sup>6</Sup>LiF靶膜的制备工艺。该工艺是将<Sup>6</Sup>LiF制备成团聚状后,利用电子轰击设备将其沉积在底衬上,该工艺制备的<Sup>6</Sup>Li...
樊启文杜英辉王华胡跃明孟波张榕
一种自支撑型&lt;sup&gt;61&lt;/sup&gt;Ni同位素靶的制备方法
本发明属于靶的制备技术领域,公开了一种自支撑型<Sup>61</Sup>Ni同位素靶的制备方法。该方法包括的步骤为:(1)同位素粉末的凝结;(2)轧制与真空退火交替进行2~5次;(3)轧制。该方法能够制备面积可达6000...
樊启文杜英辉张榕胡跃明
文献传递
类金刚石碳剥离膜的制备及其性能研究被引量:1
2015年
采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了质量厚度为5~7μg/cm2的类金刚石碳(DLC)剥离膜。用XP2U型精密电子天平测试分析了100mm范围内的DLC剥离膜均匀性,结果显示其最大不均匀性小于10%。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、万能摩擦磨损试验机和X光电子谱(XPS)测试分析了DLC剥离膜的表面形貌、耐磨损特性和结构,结果显示采用双90°FCVA技术沉积的DLC剥离膜表面光滑致密、耐磨,几乎没有大颗粒的污染,表征金刚石特性的sp3键含量超过70%。在北京HI-13串列加速器上使用107 Ag-、70 Ge-、48 Ti-、28Si-、197 Au-和127I-六种典型质量的离子束对质量厚度为5~7μg/cm2的DLC剥离膜和碳剥离膜寿命进行测试比较,结果显示DLC剥离膜寿命比碳剥离膜的高2.6~10倍。
樊启文杜英辉张榕夏清良
碳剥离膜的制备
串列静电加速器在加速重离子时,用碳膜作剥离膜时可提高离子束的能量.本文便对制备碳剥离膜的制备方法:裂解乙烯法和碳弧法作了详细介绍,并对其厚度测量及松弛装置和过程进行了阐述.
许国基杜英辉
关键词:重离子串列静电加速器
文献传递
一种核物理在束实验靶膜展平装置及其方法
本发明涉及一种核物理在束实验靶膜展平装置,包括支撑架和设置在支撑架上方的靶膜固定装置,所述支撑架中间具有锥台,锥台的四周均布若干个支脚,靶膜固定装置通过连接件与支撑架相连接,靶膜设置在靶膜固定装置的中心,调节连接件,支撑...
吴晓光汪金龙贺创业樊启文杜英辉李广生吴义恒胡世鹏郑云
文献传递
一种核物理在束实验靶膜展平装置
本实用新型涉及一种核物理在束实验靶膜展平装置,包括支撑架和设置在支撑架上方的靶膜固定装置,所述支撑架中间具有锥台,锥台的四周均布若干个支脚,靶膜固定装置通过连接件与支撑架相连接,靶膜设置在靶膜固定装置的中心,调节连接件,...
吴晓光汪金龙贺创业樊启文杜英辉李广生吴义恒胡世鹏郑云
文献传递
一种用于粉末状同位素材料的凝结装置
本实用新型属于同位素技术领域,公开了一种用于粉末状同位素材料的凝结装置。该装置包括真空室、冷凝器、加热器及收集器。通过加热器加热将粉末状同位素材料蒸发,同位素材料蒸发的蒸气在被冷凝器冷却的收集器上凝结。该实用新型所提供的...
樊启文胡跃明杜英辉张榕许国基
文献传递
氢气还原金属氧化物被引量:10
1999年
叙述了氢气还原金属氧化物的过程、装置和工艺过程。研究了若干种氧化物的还原温度和还原时间对还原效率的影响。采用特殊的滚轧技术,将还原的金属制备成较薄的靶膜。
杜英辉许国基
关键词:滚轧金属氧化物
聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
2017年
研究了聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率和均匀性。通过实验确定了两种溅射距离(7 mm和14 mm)下沉积靶的纵向和横向厚度分布,确定了提高靶均匀性的有效方法——基衬公转和沉积1/2厚度后基衬调头,确定了匹配材料利用率和均匀性的最佳几何参数。制备了5种同位素氧化物靶和9种高熔点金属同位素靶,应用于核物理测量实验。实验表明,源-衬距离为7 mm和14 mm时,在9 mm×10 mm成膜区域内,基衬中心距靶(源)材料水平界面垂直距离为9 mm和11 mm时可获得均匀的靶膜和最高的材料利用率。
樊启文杜英辉张榕王华
关键词:均匀性
同位素金属氧化物的还原技术研究
许多同位素材料买来就以氧化物(YbO、YbO、YbO、SmO、SmO、SmO、SmO、(116)SnO、SnO、SnO、SnO、SnO、SnO2、ZnO、ZnO、ZnO、MgO、GeO、GeO、NiO和NiO等)的形式存...
樊启文杜英辉张蓉许国基
文献传递
共3页<123>
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