罗佳
- 作品数：33 被引量：20H指数：3
- 供职机构：中国工程物理研究院应用电子学研究所更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学文化科学更多>>
- 一种旋转型通水吸收池
- 本发明公开了一种旋转型通水吸收池，包括吸收池本体，所述吸收池本体内设置有可以旋转的转子；所述转子旋转使进入到吸收池本体内的光束照在转子的不同位置；随着转子的不断旋转，使得光束照射在转子上的位置不断改变，实现充分吸收的作用...
- 石岩雒仲祥尹新启杨钧兰陈黎罗佳邹凯王锋余鸿铭吴娟
- 一种光纤激光一体化准直光学元件多维调节装置
- 本发明公开了一种光纤激光一体化准直光学元件多维调节装置，包括：调节装置主体和楔形块；所述调节装置主体，包括：主体上部和主体下部；所述主体上部和主体下部的后端弱连接，前端形成开合口；所述楔形块塞入该开合口，并与所述主体上部...
- 尹新启雒仲祥李建民颜宏廖原罗佳邹凯吴娟张永红余鸿铭李远莉卢飞
- 文献传递
- 一种电动闭环调整的板条激光扩束准直系统
- 本发明提供了一种电动闭环调整的板条激光扩束准直系统的技术方案，该方案包括有板条激光器、第一柱透镜、第二柱透镜、第一球透镜、第二球透镜、计算机、步进电机和远场探测系统；第一柱透镜和第二柱透镜相互正交放置；第一柱透镜和第二柱...
- 范国滨张卫田飞叶一东廖原颜宏陈黎罗佳李建民卢飞
- 文献传递
- 一种旋转型通水吸收池
- 本发明公开了一种旋转型通水吸收池，包括吸收池本体，所述吸收池本体内设置有可以旋转的转子；所述转子旋转使进入到吸收池本体内的光束照在转子的不同位置；随着转子的不断旋转，使得光束照射在转子上的位置不断改变，实现充分吸收的作用...
- 石岩雒仲祥尹新启杨钧兰陈黎罗佳邹凯王锋余鸿铭吴娟
- 文献传递
- 一种二维柱面整形系统
- 本发明公开了一种二维柱面整形系统，包括Y方向扩束单元和X方向缩束单元，所述Y方向扩束单元包括若干平凹柱面镜和/或平凸柱面镜，所述X方向缩束单元包括若干平凹柱面镜和/或平凸柱面镜；所述Y方向扩束单元和X方向缩束单元基于各方...
- 张永红颜宏雒仲祥李建民廖原罗佳
- 一种电动闭环调整的板条激光扩束准直系统
- 本发明提供了一种电动闭环调整的板条激光扩束准直系统的技术方案，该方案包括有板条激光器、第一柱透镜、第二柱透镜、第一球透镜、第二球透镜、计算机、步进电机和远场探测系统；第一柱透镜和第二柱透镜相互正交放置；第一柱透镜和第二柱...
- 范国滨张卫田飞叶一东廖原颜宏陈黎罗佳李建民卢飞
- 文献传递
- 抑制Nd:YAG激光器自锁模的实验研究被引量：1
- 2012年
- 用于抽运钛宝石的电光调Q Nd:YAG激光器会出现自锁模调制,导致峰值功率不稳从而损伤钛宝石晶体,为了抑制这种自锁模调制,分析了产生该现象的原因,研究了谐振腔内插入法布里-珀罗(F-P)标准具的技术方案。实验采用单个厚度20mm,膜层反射率60%的标准具,有效抑制了该Nd:YAG激光器的自锁模调制,实现了脉宽约70ns,脉冲能量约600mJ的1064nm激光的稳定输出,既避免了引入较大的插入损耗,又防止了对F-P标准具膜层的损伤。分析认为单个厚度合适、膜层反射率不太高的标准具可有效抑制Nd:YAG激光器自锁模现象的原因在于:标准具一个透射峰半峰全宽(FWHM)内理论上虽有约5个纵模,但偏离透射峰中心的纵模损耗较大,使得单个透射峰内实际起振的纵模可能只有1个;激光器的增益线宽内虽存在标准具的多个透射峰,但起振纵模因不相邻避免了形成相位锁定。
- 田飞罗佳胡大平叶一东
- 关键词：激光器ND:YAGF-P标准具自锁模调Q激光
- 一种激光系统跟瞄偏差测量装置
- 本发明公开了一种激光系统跟瞄偏差测量装置，所述装置包括漫反射屏、信标光源、小孔、窄带滤光片、成像镜头和CCD。激光系统发射的激光垂直正入射到靶点的漫反射屏上，漫反射屏中心位置设置一小孔，信标光源置于小孔正后方，激光系统对...
- 颜宏雒仲祥田英华何丽罗佳
- 一种透射式近红外扩束系统装调方法
- 本发明公开了一种透射式近红外扩束系统装调方法，所述装调方法包括：S1：基于使用需求，于使用波长下完成扩束系统的光学设计；S2：于装调波长条件下，于扩束系统的目镜与物镜间增加补偿平板，基于步骤S1预设的系统像差条件，获得补...
- 张永红颜宏雒仲祥李建民廖原罗佳
- 文献传递
- 相干合成子光束一致性检测研究被引量：1
- 2014年
- 分析了激光相干合成装置及其光路调整要求,提出利用剪切干涉检测合成光路中子光束一致性的方法。分析剪切干涉原理,建立了剪切板干涉物理模型,以相干合成中两路矩形光束拼接组束为例,数值模拟并研究了子光束的整体倾斜、离焦所对应的剪切干涉条纹,得到了条纹图像与子光束光轴误差、离焦误差之间的对应关系,用于相干合成光路中子光束光轴和发散角误差的判断。光轴倾斜大于5μrad时,可以直接观察互干涉和自干涉条纹变化,发散角在大于10μrad时,干涉条纹变化明显。此外,剪切干涉的自干涉条纹平移可用来检测子光束间的活塞误差,可作为光束拼接相干合成中闭环相位检测和控制的手段。
- 李彬叶一东颜宏卢飞罗佳陈黎田飞马立斌
- 关键词：相干合成剪切干涉光路调整
