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谷海霞

作品数:5 被引量:4H指数:2
供职机构:太原理工大学机械工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金山西省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇电子密度
  • 2篇电子温度
  • 2篇晶体
  • 2篇辉光
  • 2篇光谱
  • 2篇光谱分析
  • 2篇光子
  • 2篇光子带隙
  • 2篇光子晶体
  • 2篇传输矩阵
  • 2篇传输矩阵法
  • 1篇一维光子晶体
  • 1篇陶瓷层
  • 1篇耐蚀
  • 1篇耐蚀性
  • 1篇光学
  • 1篇合金
  • 1篇合金化
  • 1篇腐蚀磨损性能
  • 1篇PVD

机构

  • 5篇太原理工大学
  • 1篇太原科技大学

作者

  • 5篇谷海霞
  • 4篇刘燕萍
  • 3篇韩培德
  • 2篇古向阳
  • 2篇闫新
  • 1篇邢飞
  • 1篇王斌

传媒

  • 1篇光学技术
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇材料工程
  • 1篇2008中国...

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
紫外线波段一维光子晶体的光学特性研究
光子晶体是近年来出现的一种新的光学材料,是由电介质材料周期性排列构成的人工晶体材料。它是继电子半导体开辟电子信息时代以来,最有希望开辟光子信息时代的新材料。它以光子禁带和光子局域的存在为主要特征,它的特性决定了光子晶体在...
谷海霞
关键词:光子晶体光子带隙传输矩阵法
辉光等离子放电体在表面合金化技术中的研究
辉光等离子放电体直接影响着材料表面合金化时的电压、气压及温度分布从而影响到材料表面的均匀性、组织结构与性能特征。本工作利用发射光谱分析法对表面合金化技术中辉光等离子放电体进行了研究,通过玻尔兹曼方程式和谱线展宽法求得在不...
刘燕萍谷海霞韩培德古向阳闫新
关键词:表面合金化电子温度电子密度光谱分析
文献传递
紫外线波段一维Ag/MgF_2光子特性的理论研究被引量:2
2010年
利用传输矩阵方法对一维Ag/MgF2光子晶体的带隙特性进行了研究。构建了由Ag和MgF2组成的一维光子晶体结构模型,以此模型为基础详细讨论了填充比、周期层数、入射角等参数对光子晶体带隙结构的影响,并讨论了造成吸收的原因。研究结果表明,与其他金属光子晶体的研究结果相比,该结构的金属光子晶体在紫外线波段具有高反射率的光子带隙,属于不完全带隙的一维光子晶体,适用于制作紫外线波段的光学反射镜。
谷海霞王斌刘燕萍韩培德
关键词:光子晶体传输矩阵法光子带隙
等离子复合渗镀陶瓷层腐蚀磨损性能的研究
2007年
利用等离子渗金属技术、尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的新型复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,并在此基础上用磁控溅射PVD沉积TiB2薄膜,对其耐蚀性、耐磨性进行了检测和分析。结果表明:由于等离子TiN复合渗镀层的均匀性、致密度高于PVD沉积TiB2薄膜,在1mol/LH2SO4溶液中耐腐蚀性能是PVD沉积TiB2+等离子TiN复合渗镀层11.7倍。TiB2/TiN复合渗镀层与碳钢基体直接PVD沉积TiB2相比硬度高达2600HV,膜层比较厚,表面光滑、平整薄膜覆盖,膜基结合力也很强,有很好的减磨耐膜性能。说明等离子渗金属技术制备的TiN渗镀复合层不仅具有优异的耐腐蚀性能同时对TiB2陶瓷有着强有力的支撑作用。
刘燕萍邢飞谷海霞
关键词:PVDTINTIB2耐蚀性
辉光等离子放电体在表面合金化技术中的研究被引量:2
2009年
辉光等离子放电体直接影响着材料表面合金化时的电压、气压及温度分布从而影响到材料表面的均匀性、组织结构与性能特征。本工作利用发射光谱分析法对表面合金化技术中辉光等离子放电体进行了研究,通过玻尔兹曼方程式和谱线展宽法求得在不同工艺条件下辉光等离子体的电子温度、电子密度。分析了电压、气压对电子温度、电子密度的影响。结果表明:电子温度随工作电压的升高,工作气压的增大先减少后增大,然后又减少;电子密度在放电电压500~1000V,放电气压30~100Pa时是1021m-3在1012~1025m-3范围内,表明该辉光放电体属于典型的异常辉光等离子放电。
刘燕萍谷海霞韩培德古向阳闫新
关键词:电子温度电子密度光谱分析
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