赵青南
- 作品数：133 被引量：651H指数：13
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- 相关领域：化学工程理学一般工业技术电子电信更多>>
- 直流磁控溅射工艺条件对TiN薄膜晶面取向及化学计量比的影响
- 2001年
- 最近的研究表明,TiN薄膜除了具有优良的化学稳定性和力学性能外,如果把它涂在显示器件上,TiN薄膜还具有良好的减反和抗静电性能.由于TiN薄膜的晶面取向和化学计量比影响它的面电阻,从而影响它的减反和抗静电性能.本文用直流磁控溅射法,通过改变基片温度、溅射总气压及氮气与氩气的比例,在玻璃基片上制备了一系列TiN薄膜试样.利用射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对试样的晶面取向和化学计量比进行了研究.XRD的结果显示,在其它条件不变的情况下,随着基片温度的升高,TiN薄膜的(200)晶面与(111)晶面衍射强度的比值(R)升高,当基片温度大于330°C时,R值超过1;当N2与Ar的比例不变,增加溅射总气压时,R值逐渐增大,在总气压接近1.0 Pa时,R值接近1;当固定溅射总气压,加大溅射气体中N2的比例时,R值随N2比例的增加先增大,然后有所下降,当N2的比例大于10%后,R值几乎不再随N2比例的增加而变化.XPS的结果表明,所有试样的N与Ti的原子比均大于1;基片的温度对N/Ti原子比的影响不大,改变溅射气体中N2的比例可明显改变N/Ti的比值,当N2的比例在10%左右时,N/Ti的比值达1.3.(PH10)
- 赵青南赵修建
- 关键词：氮化钛化学计量比
- 玻璃表面TiO_2涂层的溶胶—凝胶法制备及其光催化性能被引量：2
- 1999年
- 用溶胶—凝胶法在玻璃表面制备了均匀透明的ＴｉＯ２ 涂层，讨论了影响ＴｉＯ２ 涂层质量的若干因素；测试了涂层玻璃的光透过率，用Ｘ射线光电子能谱仪研究了涂层玻璃的表面组成。在日光照射下，ＴｉＯ２ 涂层玻璃可以使敌敌畏光催化降解。
- 赵青南余家国赵修建
- 关键词：溶胶-凝胶法涂层光催化性能
- TiO_2光催化中价电子的转移过程及其作用被引量：8
- 2004年
- 简要分析了二氧化钛光催化中价电子转移过程,即价电子跃迁和电子空穴复合过程,指出价电子转移过程的变化必然引起 TiO_2光催化效率的变化,重点说明了改变电子受体的种类、半导体表面改性、重金属表面改性、阴离子掺杂和金属离子掺杂等方法的具体原理,进一步探讨了价电子转移过程同光催化效率之间的关系。
- 孙伟刘保顺赵修建赵青南
- 关键词：光催化有机污染物二氧化钛光催化剂价电子
- GZO陶瓷靶制备及其薄膜DC溅射工艺研究
- 利用高温烧结的方法制备了直径为60mm,厚度为10 ～ 15mm高质量掺杂G2O3的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Ga3+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Ga3+掺杂量为3.0mol％,同时通过在不同温度烧结实验、...
- 赵青南吴磊谢威袁文辉梁红昱
- 关键词：直流磁控溅射
- XPS研究大气环境下热处理温度对玻璃基TiN薄膜组成与结构的影响被引量：3
- 2001年
- 用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜。镀膜试样在大气环境下分别经 5 2 0℃、5 70℃和 6 2 0℃热处理 10min。用X射线光电子能谱 (XPS)得到的结果显示 ,经 5 2 0℃热处理的试样 ,TiN薄膜上出现了TiNxOy 层。经 5 70℃热处理的试样 ,TiN薄膜上的TiNxOy 成分减少 ,TiO2 的含量增加 ,6 2 0℃热处理的试样表面上主要是TiO2 。 5 70℃和 6 2
- 赵青南赵修建
- 关键词：XPS氮化钛薄膜
- 紫外线截止镀膜玻璃及其制备方法
- 本发明涉及一种在玻璃基板上镀制具有紫外线截止功能膜层的玻璃及其制备方法。紫外线截止镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是：玻璃基片上镀有氧化钛－氧化铈膜层。紫外线截止镀膜玻璃的制备方法，其特征是包括如下步骤：1).首先对待镀膜...
- 赵青南倪佳苗张乃芝赵修建
- 文献传递
- 釉面砖表面掺铅TiO_2涂层的溶胶──凝胶法制备及其光催化性能被引量：9
- 1998年
- 用溶胶一凝胶法在釉面砖上制备了均匀的TiO2及掺铅TiO2涂层，讨论了影响涂层质量的某些因素，用X射线光电子能谱仪（XPS）研究了釉面涂层的化学组成。在紫外线及日光照射下，TiO2涂层釉面砖可以对有机磷农药光催化降解。掺铅TiO2涂层釉面砖的光催化降解率明显高于未掺铅的TiO2涂层釉面砖的光催化降解率。该类材料可望在环境保护、污水处理等方面有广阔的应用前景。
- 赵青南余家国赵修建冯为民
- 关键词：釉面砖涂层光催化
- 碳氧化硅过渡层对玻璃基DLC薄膜性能的影响被引量：1
- 2019年
- 采用射频-直流磁控溅射法,首先通过不同沉积时间在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅过渡层,然后在过渡层上沉积DLC薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、全自动显微硬度仪、紫外可见分光光度计,研究了不同沉积时间下碳氧化硅层对DLC薄膜的结构组成、表面形貌、表面硬度、可见光区域内透过率性能的影响。结果表明,随着沉积碳氧化硅层时间的增加,DLC薄膜样品硬度先增大后减小,可见光区平均透过率逐渐下降;当沉积过渡层时间为5 min时,DLC薄膜样品的玻璃硬度值最大(795 HV),相比未镀膜的玻璃基片(610 HV),硬度值增加了30. 33%,可见光区域内平均透过率为58. 47%。
- 常潇赵青南王晓宏陆文涛董玉红赵杰
- 关键词：DLC薄膜
- 射频功率对非晶硅薄膜透过率的影响
- 采用RF-PECVD方法，以硅烷(SiH4)为反应气体，经氢气稀释后在玻璃衬底上沉积非晶硅(a-Si∶ H)薄膜。用XRD分析薄膜的微观结构，采用日本岛津的(UV-Visl601)紫外-可见光分光光度计测试薄膜样品的透过...
- 王彦磊赵青南王欣伟苏延昌侯少红
- 关键词：PECVD法非晶硅薄膜透过率
- 釉面砖基SiO_2/TiO_2超亲水涂层的制备及其性能研究被引量：4
- 2001年
- 用溶胶 -凝胶方法在釉面砖上制备了SiO2 /TiO2 超亲水涂层 ,用XPS、光学显微镜和SEM研究了涂层的表面化学组成、水润湿角和表面形貌。结果表明 ,水润湿角与SiO2 /TiO2 的摩尔比和SiO2 在TiO2 表面的分布有密切关系 ,当SiO2 /TiO2 的比值在 0 0 8-0 1 3时 ,涂层的水润湿角在 5°左右。
- 赵青南赵修建陈文梅牟善彬
- 关键词：釉面砖溶胶-凝胶法
