闫兰琴
- 作品数：12 被引量：12H指数：3
- 供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学电子电信化学工程更多>>
- 新型红外Ge1-xCx膜制备、微结构及力学性能研究
- 本文利用等离子体化学气相沉积的方法（PECVD）在ZnS基底上制备了组织成分可调（x值可调）的Ge1-xCx过渡层,其折射率随组分x的不同在2～4 的范围内变化。对薄膜样品进行了X射线衍射（XRD）、X射线光电子谱（XP...
- 闫兰琴张维佳丁照崇金飞张心强武美伶王天民
- 关键词：微结构附着力抗腐蚀性PECVD
- 文献传递
- 氧分压对掺钼氧化铟透明导电薄膜光电性能的影响被引量：4
- 2011年
- 采用射频磁控反应溅射法在k9玻璃衬底上制备了In2O3:Mo(IMO)透明导电薄膜,分析了不同氧分压条件下IMO薄膜的晶体结构、化学成分及光电性能。结果表明:不同氧分压下制备的IMO薄膜具有不同晶粒的取向性;随着氧分压的增加,薄膜的载流子浓度、载流子迁移率先增加后减小;薄膜的电阻率呈现先增加再减少然后再增加的趋势。在可见及近红外区,有氧气氛下制备的IMO薄膜的平均透过率大于80%以上,并随氧分压的升高而增大。
- 袁果黎建明张树玉刘伟闫兰琴
- 关键词：氧分压电学性能光学性能
- ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究被引量：2
- 2009年
- 用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8-12μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力。
- 刘伟张树玉闫兰琴袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平余怀之
- 关键词：增透膜
- 纳米硅层状薄膜及其p-i-n太阳能电池的研制被引量：1
- 2007年
- 通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法分别制备了本征、掺磷和掺硼的氢化纳米硅薄膜(nc-Si:H),并制备出纳米硅复合层状薄膜.对薄膜样品进行了喇曼(Raman)散射谱,X射线衍射等分析测试.结果表明:掺杂元素对纳米硅薄膜的晶态比和晶粒大小存在不同程度的影响;通过薄膜表面衍射(XRD)可得到硅的(111),(220)和(311)三个晶面衍射峰;并在制得的纳米硅复合层状薄膜的基础上,制备了结构为Al/ITO/n+-nc-Si:H/i-nc-Si:H/p-c-Si/Al/Ag的太阳能电池.该电池的开路电压、短路电流和填充因子与非晶硅太阳电池相比,均得到很大的提高.
- 金飞张维佳贾士亮丁照崇闫兰琴王天民李国华
- 关键词：PECVD太阳能电池半导体薄膜
- 掺NbITO膜的光电性能研究
- 本文采用直流磁控溅射法溅射掺铌Nb的ITO靶来制备掺铌ITO膜.研究分析了基片温度、氧氩比O2:Ar、工作气压、溅射功率等工艺参数对样品的光学性能和电学性能的影响.通过四探针测试仪、紫外分光光度计、X射线衍射(XRD)及...
- 丁照崇张维佳金飞闫兰琴张心强武美伶贾士亮王天民
- 关键词：光电性能直流磁控溅射法
- 文献传递
- 氧分压对HfOxNy薄膜结构和力学性能的影响
- 用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料.
用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfO...
- 刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
- 关键词：射频磁控反应溅射晶体结构显微结构力学性能
- 掺NbITO膜的光电性能研究
- 本文采用直流磁控溅射法溅射掺铌Nb的ITO靶来制备掺铌ITO膜。研究分析了基片温度、氧氩比O2:Ar、工作气压、溅射功率等工艺参数对样品的光学性能和电学性能的影响。通过四探针测试仪、紫外分光光度计、X射线衍射 （XRD）...
- 丁照崇张维佳金飞闫兰琴张心强武美伶贾士亮王天民
- 关键词：ITO膜光电性能
- 文献传递
- ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜
- 本文简要叙述了7~14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究.介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程.给出了用该方法制备的7~14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率...
- 闫兰琴张树玉刘嘉禾刘伟袁果黎建明杨海苏小平余怀之
- 氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和力学性能的影响
- 2009年
- 采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等。结果表明:在氧分压为0.05~0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa。
- 刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
- 关键词：射频磁控反应溅射晶体结构显微结构
- 新型红外Ge1-xCx膜制备、微结构及力学性能研究
- 本文利用等离子体化学气相沉积的方法(PECVD)在ZnS基底上制备了组织成分可调(x值可调)的Ge1-xCx过渡层,其折射率随组分x的不同在2～4的范围内变化.对薄膜样品进行了X射线衍射(XRD)、X射线光电子谱(XPS...
- 闫兰琴张维佳丁照崇金飞张心强武美伶王天民
- 关键词：微结构抗腐蚀性PECVD等离子体化学气相沉积
- 文献传递
