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陈裕斌

作品数:6 被引量:0H指数:0
供职机构:南京大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:自动化与计算机技术一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇锗硅
  • 3篇纳米
  • 3篇纳米晶
  • 3篇纳米晶粒
  • 2篇锗烷
  • 2篇自组织生长
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇浮栅
  • 1篇电容-电压特...
  • 1篇电学
  • 1篇电学测试
  • 1篇电压特性
  • 1篇形貌
  • 1篇形貌表征
  • 1篇性能研究
  • 1篇锗硅合金
  • 1篇闪存
  • 1篇闪存器
  • 1篇闪存器件
  • 1篇退火

机构

  • 6篇南京大学

作者

  • 6篇陈裕斌
  • 5篇闾锦
  • 5篇郑有炓
  • 5篇濮林
  • 4篇左正
  • 3篇施毅
  • 2篇张荣
  • 2篇韩平
  • 2篇顾书林
  • 2篇施毅
  • 1篇潘力佳

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇第十六届全国...

年份

  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 1篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于锗硅异质纳米结构的非挥发浮栅存储器的制备方法
基于锗硅异质纳米结构的半导体非挥发性浮栅存储器,包括:半导体衬底;在半导体衬底中设有掺杂形成的源极和漏极,在源漏极间的沟道层正上方设有氧化形成隧穿氧化层;设有控制栅介电层和栅电极;在隧穿氧化层上是渐变锗硅异质纳米结构即晶...
施毅闾锦陈裕斌左正濮林张荣韩平顾书林郑有炓
文献传递
基于锗硅异质纳米晶的非易失浮栅存储器的存储特性
2008年
利用自组织生长和选择化学刻蚀方法在超薄SiO2隧穿氧化层上制备了渐变锗硅异质纳米晶,并通过电容-电压特性和电容-时间特性研究了该纳米结构浮栅存储器的存储特性.测试结果表明,该异质纳米晶非易失浮栅存储器具有良好的空穴存储特性,这是由于渐变锗硅异质纳米晶中Ge的价带高于Si的价带形成了复合势垒,空穴有效地存储在复合势垒的Ge的一侧.
闾锦陈裕斌左正施毅濮林郑有炓
关键词:电容-电压特性自组织生长
基于锗硅异质纳米结构的非挥发浮栅存储器及制备方法
基于锗硅异质纳米结构的半导体非挥发性浮栅存储器,包括:半导体衬底;在半导体衬底中设有掺杂形成的源极和漏极,在源漏极间的沟道层正上方设有氧化形成隧穿氧化层;设有控制栅介电层和栅电极;在隧穿氧化层上是渐变锗硅异质纳米结构即晶...
施毅闾锦陈裕斌左正濮林张荣韩平顾书林郑有炓
文献传递
非挥发浮栅存储器用PtAu纳米颗粒单层膜的制备
2008年
将Langmuir-Blodgett(LB)膜等化学方法应用于非挥发浮栅存储器制备工艺中.采用反相微乳液方法合成的分散良好的PtAu纳米颗粒粒径约为5 nm,并应用LB膜方法在存储器隧穿氧化层上制备了PtAu纳米颗粒的单层膜.采用SEM对LB膜的表面形貌进行观测,研究了表面压对成膜质量的影响,结果表明在表面压为15 mN/m时可获得密度为1011cm-2均匀分布的PtAu纳米颗粒单层二维阵列,可应用于非挥发性金属纳米颗粒浮栅存储器,并成功拓展了LB膜等化学方法的应用范围.
闾锦陈裕斌潘力佳濮林施毅郑有炓
关键词:反相微乳液LB膜
闪存的纳米晶浮栅材料制备和性能研究
闪存是目前应用最为广泛的非易失性存储器之一。近年来,在市场需求和技术革新的双重驱动下闪存技术得到迅猛发展。然而闪存技术的发展仍面临着如何实现高速,高集成密度,高可靠性,低功耗以及低工作电压的巨大挑战。本文的主要工作从闪存...
陈裕斌
关键词:闪存器件自组装法形貌表征电学测试
基于锗硅异质纳米晶粒的非易失性浮栅存储器
<正>目前所研究的纳米器件中,将纳米品粒作为浮栅的存储器件是一种引人注目的纳米结构器件。纳米晶粒浮栅非易失性存储器表现出低功耗、高密度和多阈值等许多优点。可是纳米结构存储器也有一些问题亟待解决,其中之一就是如何在器件低压...
闾锦陈裕斌左正濮林施毅郑有炓
关键词:锗硅合金
文献传递
共1页<1>
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