魏少红
- 作品数：7 被引量：10H指数：2
- 供职机构：中国科学院高能物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺核科学技术动力工程及工程热物理更多>>
- 一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法
- 本发明提供一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法，用以增强靶片中钽和钨的连接强度，提高靶片的寿命。其中，一种散裂中子源用固体靶片的制备方法，包括：清洗待焊接的钨块与钽板；将所述钽板紧贴所述钨块的六个面，形成内装钨块的钽盒；...
- 纪全魏少红张锐强贾学军
- 文献传递
- 中国散裂中子源靶体研制被引量：3
- 2019年
- 中国散裂中子源(CSNS)靶体选用钨为靶材、钽为包覆层,采用包套法结合热等静压扩散焊工艺制备了钽包覆钨靶片。经检测,钨钽界面结合良好,钽层与钨基体平均结合强度大于64.07 MPa。靶体将钨靶片分成厚度不等的11片,散热采用一进一出的并行流结构,利用CFD软件进行了模拟计算,钨靶片间冷却流道间隙为1.2 mm,100 kW满功率运行情况下靶体最高温度为182.3℃,冷却水温升为7.1℃。经过半年多的试运行,CSNS靶体各参数满足CSNS的要求。
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- 关键词：中国散裂中子源
- 一种散裂中子源靶
- 本发明提供一种散裂中子源靶，包括单层结构的靶容器，所述靶容器具有靶片安装腔，所述靶容器的前端设置有靶窗、后端设置有冷却液进口和冷却液出口，所述靶片安装腔内自前至后并排设置有多个靶片，每两相邻所述靶片之间具有冷却液流动间隙...
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- 一种散裂中子源靶
- 本发明提供一种散裂中子源靶，包括单层结构的靶容器，所述靶容器具有靶片安装腔，所述靶容器的前端设置有靶窗、后端设置有冷却液进口和冷却液出口，所述靶片安装腔内自前至后并排设置有多个靶片，每两相邻所述靶片之间具有冷却液流动间隙...
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- 氦离子辐照对纯钨表层纳米压痕硬度的影响被引量：2
- 2022年
- 钨作为散裂中子源固体靶的首选材料,钨的辐照损伤及氦行为研究被广泛关注。本文对高纯钨片进行常温氦离子注入,氦离子能量350 keV,注入剂量分别为1×10^(16),5×10^(16)和1×10^(17)ions·cm^(-2)。利用纳米压痕测量技术表征He注入前后钨的硬度变化,测试结果表明,氦离子注入后,钨出现辐照硬化现象,且随着注入剂量的增大,钨表面纳米压痕硬度增大;3个不同注入剂量样品的纳米压痕硬度值都随着测量深度先增大后降低。透射电镜(TEM)结果显示,氦离子注入后,钨内产生了氦离子聚集,形成氦泡,且随着注入剂量的增大,氦泡尺寸逐渐增大,氦泡密度提高。
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- 关键词：钨氦离子纳米压痕微观结构
- 一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法
- 本发明提供一种散裂中子源用固体靶片及其制备方法，用以增强靶片中钽和钨的连接强度，提高靶片的寿命。其中，一种散裂中子源用固体靶片的制备方法，包括：清洗待焊接的钨块与钽板；将所述钽板紧贴所述钨块的六个面，形成内装钨块的钽盒；...
- 纪全魏少红张锐强贾学军
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- 热等静压对钨基体表面等离子喷涂钽层组织及性能的影响被引量：5
- 2013年
- 目前,国内鲜有钨块包覆钽材的报道。于氩气气氛保护下在钨材表面等离子喷涂钽层,然后对其进行热等静压处理。采用扫描电镜观察涂层热等静压前后微观形貌,采用能谱仪测试其成分,采用X射线衍射仪测试其相结构,采用力学试验测试其力学性能。结果表明:等离子喷涂钽层与钨材界面处含有一定氧,且其分布不均匀,钽涂层由Ta和Ta6O组成;等离子喷涂钽层呈层状结构,经热等静压处理后,涂层内孔隙减小,致密度从91.2%提高到98.8%,涂层抗拉结合强度由19.4 MPa提高到22.5 MPa,硬度由517.8 HV提高到626.6 HV。
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- 关键词：等离子喷涂热等静压致密度
