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刘德福

作品数:62 被引量:242H指数:9
供职机构:中南大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金湖南省自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 37篇期刊文章
  • 24篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 27篇金属学及工艺
  • 9篇机械工程
  • 7篇电子电信
  • 6篇自动化与计算...
  • 4篇交通运输工程
  • 3篇文化科学
  • 2篇化学工程
  • 2篇矿业工程
  • 2篇理学
  • 1篇冶金工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 15篇光纤
  • 12篇熔覆
  • 11篇涂层
  • 11篇激光熔覆
  • 10篇抛光
  • 8篇化学机械抛光
  • 8篇机械抛光
  • 7篇陶瓷涂层
  • 7篇激光
  • 7篇光纤连接器
  • 6篇连接器
  • 6篇光纤连接
  • 5篇数控
  • 5篇数控加工
  • 5篇陶瓷
  • 5篇排样
  • 5篇面粗糙度
  • 5篇光纤连接器端...
  • 5篇光纤阵列
  • 5篇表面粗糙度

机构

  • 59篇中南大学
  • 3篇长沙铁道学院
  • 3篇株洲齿轮有限...
  • 2篇湘潭工学院
  • 1篇北京理工大学
  • 1篇湘潭大学
  • 1篇中南大学铁道...

作者

  • 62篇刘德福
  • 9篇陈涛
  • 8篇段吉安
  • 8篇陈涛
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  • 6篇严日明
  • 5篇周贤
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  • 3篇刘祥环
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  • 2篇唐永正
  • 2篇李群明
  • 2篇唐果宁
  • 2篇谢敬华
  • 2篇李新和
  • 2篇易文

传媒

  • 3篇机械传动
  • 3篇光学精密工程
  • 3篇表面技术
  • 2篇制造业自动化
  • 2篇现代制造工程
  • 2篇振动与冲击
  • 1篇汽车技术
  • 1篇机械工程学报
  • 1篇新技术新工艺
  • 1篇锻压机械
  • 1篇制造技术与机...
  • 1篇光学技术
  • 1篇长沙铁道学院...
  • 1篇热加工工艺
  • 1篇小型微型计算...
  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇组合机床与自...
  • 1篇有色金属
  • 1篇轻金属

年份

  • 3篇2024
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  • 4篇2020
  • 2篇2017
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  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
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  • 3篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
  • 5篇2003
  • 1篇2002
  • 4篇2001
62 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
单晶蓝宝石衬底晶片的化学机械抛光工艺研究被引量:22
2017年
目的设计单晶蓝宝石衬底化学机械抛光的合理方案,探究主要抛光工艺参数对抛光衬底的表面质量和材料去除率的影响,并得到一组材料去除率高且表面质量满足要求的抛光工艺参数。方法借助原子力显微镜和精密天平分别对衬底表面形貌和材料去除率进行分析,采用单因素实验法探究了抛光粒子、抛光时间、抛光压力和抛光盘转速对蓝宝石衬底化学机械抛光的表面质量和材料去除率的影响,并设计合理的交互正交优化实验寻求一组较优的抛光工艺参数。结果在蓝宝石衬底化学机械精抛过程中,在抛光时间为0.5 h、抛光压力为45.09 k Pa、抛光盘转速为50 r/min、SiO_2抛光液粒子质量分数为15%、抛光液流量为60 m L/min的条件下,蓝宝石衬底材料的去除率达41.89 nm/min,表面粗糙度降低至0.342 nm,衬底表面台阶结构清晰,满足后续外延工序的要求。结论采用化学机械抛光技术和优化的工艺参数,可同时获得较高的材料去除率和高质量的蓝宝石衬底表面。
余青刘德福陈涛
关键词:蓝宝石衬底化学机械抛光材料去除率
面向铁路车辆制造业的矩形件优化排样系统被引量:5
2003年
根据铁路车辆制造行业矩形板类零件在剪板机上的下料工艺要求,开发出一套矩形件计算机辅助优化排样下料系统。建立矩形件优化排样的通用数学模型,按照剪切工艺将二维排样问题简化为一维排样问题,通过解背包问题最终获得近似最优解。开发的矩形件优化排样系统,可自动快速生成优化排样下料图,使得材料利用率提高到90%以上。
刘德福罗意平杨岳
关键词:车辆制造背包问题优化排样
一种激光熔覆SiC纳米颗粒增强Ti(C,N)陶瓷涂层及其应用
本发明涉及激光熔覆技术领域,特别是涉及一种激光熔覆SiC纳米颗粒增强Ti(C,N)陶瓷涂层及其应用。所述制备方法为:将碳氮化钛粉末、纳米二氧化硅粉末与纳米碳化硅粉末按质量分数的72.5‑77.5%、20wt.%与2.5‑...
刘德福陈涛王昊君
文献传递
CeO_2纳米粒子抛光液分散稳定性及其化学机械抛光特性研究被引量:16
2016年
目的制备性能优良的CeO_2纳米粒子抛光液。方法通过使用不同种类及不同浓度的分散剂制备了一种良好的CeO_2纳米粒子抛光液,采用激光粒度仪,紫外可见分光光度仪等对其进行了表征,进而研究了其在石英玻璃片化学机械抛光中的特性。结果不同分散剂的分散作用不同,且分散剂的浓度直接影响分散效果。离子型分散剂主要通过静电稳定作用实现抛光液的分散稳定,而非离子型分散剂则通过空间位阻作用实现抛光液的分散稳定。阴离子型分散剂与非离子型分散剂的分散稳定效果明显强于阳离子型分散剂,而阴离子型分散剂与非离子型分散剂混合复配后的分散稳定效果又强于单一分散剂的效果。结论混合复配型分散剂配制的CeO_2纳米粒子抛光液静置72 h后仍分散均一稳定,基本可以满足抛光液分散稳定性能的要求。配制的CeO_2纳米粒子抛光液在石英玻璃化学机械抛光中主要通过纳米粒子的吸附作用实现材料的去除,抛光后的石英玻璃表面无划痕,表面粗糙度可以达到10 nm左右,有效提高了石英玻璃的抛光质量。
陈广林刘德福陈涛佘亦曦
关键词:抛光液分散性化学机械抛光吸光度ZETA电位
氯化镁电解时改善液镁阴极析出状态的途径被引量:3
1991年
研究了氯化镁电解时液镁析出成相过程的机理和不同因素对液镁析出状态的影响。液镁析出过程是瞬时成核半球状三维生长过程。提高电流密度、提高电解温度和降低电解质中氯化镁浓度均能使液镁析出状态得到改善。利用反向电解技术进一步研究表明,镁的电流效率与液镁析出状态、液镁溶解速度和碱金属的析出有关。综合考虑,氯化镁电解宜采用尽可能低的MgCl_2浓度,适当高的电流密度和电解温度,以改善镁的析出状态,提高电流效率。
张永健罗亮明董红军刘德福
关键词:氯化镁电解阴极
一种圆锥形变幅杆弯曲振动固有频率的计算方法被引量:6
2016年
提出了一种圆锥形变幅杆弯曲振动固有频率的计算方法;先忽略剪切变形和惯性矩作用,基于Euler-Bernoulli杆理论求解出固有频率初值,再计入二者的作用进行弯曲振动固有频率的修正。应用有限元分析法和模态实验测试对该方法进行验证,理论结果与实验结果吻合,误差<5%。基于该方法编写程序,实现了弯曲振动变幅杆结构的主动设计。
严日明刘德福陈涛佘亦曦
关键词:固有频率
圆柱凸轮数控加工的几个关键问题被引量:18
2003年
通过改进圆柱凸轮数控铣削加工编程方法 ,降低了圆柱凸轮的加工成本并能满足凸轮槽宽的高精度要求 ;通过对各个数控加工程序段编程进给速度的修正 ,使得刀具的实际进给速度为恒速 ,明显改善了凸轮槽的工作表面粗糙度。
刘德福潘晋平周贤
关键词:圆柱凸轮数控加工进给速度数控铣削数控编程表面粗糙度
阵列光纤组件端面的化学机械抛光试验研究被引量:1
2015年
目的设计合理的抛光工艺方案,获得平整的阵列光纤组件端面。方法采用单因素实验法研究抛光工艺参数对阵列光纤表面粗糙度与光纤凸起量的影响,利用光学表面轮廓仪与扫描电镜进行分析与观察。结果在抛光液磨粒质量分数为2%,抛光液流量为15 m L/min,抛光压力为50 k Pa,抛光盘转速为30 r/min的条件下,可以获得平整的阵列光纤组件端面。结论应用化学机械抛光技术加工阵列光纤组件,并设计合理工艺方案,可获得平整的阵列光纤组件端面,其表面粗糙度可低至42.6 nm,光纤凸起值可低至0.14μm。
邹文兵刘德福胡庆陈广林
关键词:化学机械抛光表面粗糙度
一种激光熔覆SiC纳米颗粒增强Ti(C,N)陶瓷涂层及其应用
本发明涉及激光熔覆技术领域,特别是涉及一种激光熔覆SiC纳米颗粒增强Ti(C,N)陶瓷涂层及其应用。所述制备方法为:将碳氮化钛粉末、纳米二氧化硅粉末与纳米碳化硅粉末按质量分数的72.5‑77.5%、20wt.%与2.5‑...
刘德福陈涛王昊君
文献传递
纯电动汽车减速器的可靠性研究被引量:1
2020年
本文从驱动电机外特性曲线、驱动电机与减速器(变速器)的连接方式等方面分析了故障产生的机理,并采集了纯电动汽车道路试验的载荷谱作为设计输入条件,对减速器及内部差速器进行了强度仿真分析,最后提出了典型故障模式的解决方法,提高其可靠性。
皮旭明刘德福刘祥环胡晓岚郭智敏
关键词:纯电动汽车驱动电机差速器变速器减速器
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