卢启鹏
- 作品数：186 被引量：486H指数：13
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金中国科学院知识创新工程领域前沿项目更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信医药卫生更多>>
- 一种空间六维自动调节定位装置
- 一种空间六维自动调节定位装置，可用于光学元件支撑箱体的自动调节和定位。该装置包括螺套、A丝杆、B丝杆、支座、关节轴承、螺栓、螺钉、垫圈、蜗轮、蜗杆、轴承、锁紧螺母、轴承支座、联轴器、电机架、伺服电机、电源、计算机、活动板...
- 卢启鹏彭忠琦
- 文献传递
- 用于超高真空中的反射镜无应力夹持及面形调整装置
- 本发明涉及同步辐射光束线KB聚焦设备技术领域，具体为用于超高真空中的反射镜无应力夹持及面形调整装置；本发明要解决反射镜的自重对其面形形成影响，导致面形误差较高的技术问题。该装置具体包括：架体结构用以搭载一用于超高真空中的...
- 卢启鹏赵晨行宋源彭忠琦龚学鹏王依徐彬豪张振
- 文献传递
- 基于锁相放大的近红外光谱信号提取电路研究被引量：17
- 2009年
- 锁相放大技术是提取淹没在噪声中的微弱信号的重要手段之一,广泛应用于近红外光谱测量领域。文章中介绍了一种模拟与数字相结合的锁相放大检测电路,对电路的设计思路,设计要点配以相关电路图进行了详细阐述,并应用在以PbS做传感器的滤光片型近红外光谱仪中。应用结果表明该电路与原有模拟锁相放大电路相比,具有较高的精度和稳定性,并且算法简单,运算量小,可以成功应用于近红外光谱信号的提取,信噪比可达到73dB。
- 徐晗卢启鹏朴仁官
- 关键词：锁相放大微弱信号检测近红外信噪比
- 极高分辨变包含角平面光栅单色器关键技术及检测方法研究被引量：5
- 2016年
- 变包含角平面光栅单色器具有分辨率高和光通量高等优点,被广泛应用于各科研领域,并且随着相关领域研究的不断深入,迫切需要提高其光谱分辨率,以满足使用需求。为研究探索极高分辨率变包含角平面光栅单色器,结合上海同步辐射光源光束线,重点研究影响单色器分辨率的关键因素;对单色器光学元件表面热负载进行分析,设计冷却系统,降低热负载产生的影响;研究变包含角平面光栅单色器转角精度等检测方法。结果表明,根据推导出的变包含角平面光栅单色器光学放大倍数与单色器分辨率的关系式,达到优选极高分辨率工作模式的目的;加入冷却系统后,单色器前置平面镜因受热负载影响而产生的最大斜率误差由8.1μrad降到3.1μrad;设计可应用于变包含角光栅单色器分辨率达5×10~4的转角精度检测方法,检测精度可达0.026″。该研究将为第三代同步辐射光源中建造极高分辨变包含角单色器提供帮助。
- 卢启鹏宋源龚学鹏马磊
- 关键词：软X射线
- 一种用于近红外无创生化分析的高效光谱收集装置及方法
- 一种用于近红外无创生化分析的高效光谱收集装置及方法，属于光谱收集设计领域，目的在于将人体测量部位的全部漫反射光聚焦，高效收集人体血液微弱吸收光谱信号。一种用于近红外无创生化分析的高效光谱收集装置包括n组发光组、探测器、吸...
- 卢启鹏高静彭忠琦丁海泉高洪智
- 文献传递
- 在线式高速多通道光谱数据采集系统
- 在线式高速多通道光谱数据采集系统，涉及信号采集系统领域，解决了现有采用单片机实现数据采集的光谱数据采集系统存在的采集速度较慢、灵活性差、不能满足在线高速数据采集需要的问题。系统上电初始化，FPGA芯片向A/D转换芯片发送...
- 卢启鹏郭嘉丁海泉高洪智
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- 近红外无创生化分析中高效双复合抛物面聚光系统设计
- 2013年
- 近红外无创生化分析中,要获得准确的血液生化成分信息,需要非常高的系统信噪比。为提高分析系统的信噪比,开展了以增大系统光能利用率为目标的高效双复合抛物面聚光(DCPC)系统研究。首先,针对近红外无创生化分析中光学系统集光要求,研究了复合抛物面聚光器(CPC)出射光特点,确定出一级CPC最大聚光角范围。然后,通过比较标准型和截短型DCPC光能利用率变化,优化出最佳结构参数。最后,结合皮肤组织光学参数,计算了入射光波长为1 000nm时,DCPC系统、CPC-聚焦反射镜系统以及无光学收集系统的光能利用率。结果显示,三种系统的光能利用率分别为1.46%,0.84%,0.26%。设计的DCPC系统增强了对人体漫反射光的收集能力,可有效提高无创生化分析系统的信噪比及整体分析精度。
- 高静卢启鹏彭忠琦丁海泉高洪智
- 关键词：复合抛物面聚光器光学设计近红外
- 一种X射线波段光学元件高精度面形控制装置
- 一种X射线波段光学元件高精度面形控制装置属于X射线光学技术领域，目的在于解决现有技术存在的只能压制大曲率半径的柱面面形，而且在压弯过程中还会存在局部面形误差过大的问题。本发明包括主动辊、从动辊、超高精度位移控制装置和控制...
- 龚学鹏卢启鹏彭忠琦王依
- 文献传递
- 应用于22nm及以下节点的极紫外光刻胶研究进展被引量：2
- 2016年
- 极紫外光刻(EUVL)是最有希望用于22 nm及以下节点的下一代光刻技术,光刻胶的性能与工艺是其关键技术之一。EUV光刻胶应同时满足高分辨率、低线边缘粗糙度和高灵敏度的要求。回顾了应用于22 nm及以下技术节点的EUV光刻胶的发展现状和面临的挑战,介绍了EUVL对光刻胶的基本要求以及分辨率、线边缘粗糙度(LER)和灵敏度之间的平衡关系,阐述了LER的形成机理尤其是LER的降低,从产酸剂、吸收增强、分子尺寸的缩小、酸扩增、酸的各向异性扩散等材料设计方面总结了可能的光刻胶性能改进方案,探讨了EUV光刻胶未来的主要研究方向。
- 鹿国庆吴义恒李伶俐卢启鹏
- 关键词：极紫外光刻光刻胶
- 一种双驱动非等力矩的压弯装置和压弯方法
- 本发明提供一种双驱动非等力矩的压弯装置，包括：架体组件、驱动组件、固定挡板和两个对称布置的压弯组件；架体组件，用以搭载镜子，包括一对平行且对称布置的底座和一对平行布置的固定板；固定挡板由两个固定板固定支撑，固定挡板的两个...
- 卢启鹏马天宇彭忠琦王大壮龚学鹏宋源张振
- 文献传递
