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吴建鹏

作品数:7 被引量:14H指数:3
供职机构:武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程核科学技术理学更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 2篇核科学技术
  • 2篇理学

主题

  • 5篇光谱
  • 4篇MPCVD
  • 3篇等离子体
  • 3篇发射光谱
  • 2篇微波等离子体
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇光谱研究
  • 1篇等离子体发射
  • 1篇内应力
  • 1篇谱学
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇氢等离子体
  • 1篇离子
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇均匀性
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇化学气相沉积...

机构

  • 7篇武汉工程大学

作者

  • 7篇吴建鹏
  • 6篇马志斌
  • 5篇曹为
  • 5篇李国伟
  • 3篇陶利平
  • 2篇湛玉龙
  • 1篇翁国峰
  • 1篇汪建华
  • 1篇潘鑫

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇光学学报
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇武汉工程大学...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 5篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
氢等离子体处理金刚石成核面
2012年
通过用氢等离子体对微波等离子体化学气象沉积法在钼基体上制备的金刚石厚膜的成核面进行表面处理,并利用拉曼光谱、扫描电镜和X射线光电子能谱对处理前后金刚石成核面进行表征,比较了处理前后金刚石成核面金刚石相含量、表面粗糙组度,并分析了薄膜中钼原子的化合态及百分含量.结果表明:经过氢等离子体处理后的金刚石成核面的金刚石相含量提高,表面粗糙度增大,钼原子的百分含量由1.64%变为0.83%,且能有效还原成核面上钼的氧化物生成碳化钼和碳化二钼.
马志斌吴建鹏湛玉龙曹为李国伟潘鑫
关键词:氢等离子体
MPCVD等离子体发射光谱研究
等离子体发射光谱诊断是研究微波等离子体参数的有效方法,本文在2.45GHz,800W微波等离子体化学气相沉积装置上,利用发射光谱法对金刚石薄膜制备时的等离子体进行在线诊断,研究了甲烷浓度、工作气压、氮气浓度对等离子体内发...
吴建鹏
关键词:金刚石膜等离子体光谱分析
文献传递
MPCVD等离子体中甲烷体积分数对基团分布的影响被引量:3
2013年
等离子体发射光谱学是探究等离子体参数、等离子体基团分布的有效工具。利用发射光谱技术对CH4/H2微波等离子体进行原位在线测量,研究了微波等离子体气相沉积过程中等离子体内部的基团种类以及甲烷体积分数对等离子体中各基团谱线强度的影响,测量分析了等离子体中各基团的空间分布以及甲烷体积分数对空间分布的影响。结果表明,C2基团的发射光谱强度随甲烷体积分数的升高而迅速增强,CH、Hβ、Hγ与C2相对强度的比值随甲烷体积分数的增加而降低,并逐步趋于饱和;各基团空间分布的均匀性随甲烷体积分数的增加而变差。
李国伟曹为吴建鹏陶利平马志斌
关键词:光谱学化学气相沉积法CH4
MP-CVD中CH_4浓度对CH_4/H_2等离子体中基团的影响被引量:3
2013年
采用发射光谱法(OES)诊断了微波等离子体化学气相沉积(MP-CVD)制备金刚石膜过程中CH4浓度对CH4/H2等离子体中基团分布的影响,并利用拉曼光谱对不同CH4浓度下沉积的金刚石膜生长面进行表征。研究表明:CH4/H2等离子体中存在Hα、Hβ、Hγ、CH、C2基团,且各基团谱线强度随CH4浓度的增加而增强,其中C2基团的光谱强度显著增强;CH4/H2等离子体电子温度随CH4浓度的增加而上升;光谱空间诊断发现等离子体球中基团沿径向分布不均匀,随CH4浓度增加,C2和CH基团分布的均匀性显著变差;沉积速率测试表明,单纯增加CH4浓度不能有效提高金刚石膜的沉积速率;Raman光谱测试结果表明,低CH4浓度(0.8%)下沉积出的金刚石膜质量更理想。
曹为李国伟吴建鹏马志斌
关键词:金刚石膜等离子体
基体对金刚石厚膜质量的影响研究被引量:2
2011年
采用MPCVD法在钼基体上制备金刚石厚膜,测量了等离子体发射光谱,并利用XPS、Raman和SEM对金刚石厚膜进行表征。研究了Mo原子进入金刚石中的机制及其对金刚石厚膜的影响。结果表明:除了热扩散,Mo原子还会以蒸发进入等离子体的方式进入金刚石。金刚石中的Mo原子是以Mo+4、Mo+6以及介于Mo+4-Mo+6之间的化合态存在。在沿成核面到生长面的方向上,sp2C的含量会逐渐减小;成核面的内应力表现为较小的拉应力,随着生长进入连续膜生长阶段,内应力转变为压应力并随膜厚度增加压应力大小逐渐降低,在距离成核面30μm左右处,内应力转变为拉应力,且随着膜厚度进一步增加而缓慢增大。
湛玉龙马志斌翁国峰吴建鹏
关键词:内应力
MPCVD等离子体沉积金刚石薄膜及其发射光谱诊断
等离子体发射光谱是探究等离子体参数、等离子体基团分布的有效工具.本文利用发射光谱技术对CH4/H2微波等离子体进行原位在线测量,研究了沉积过程中等离子体内部的基团种类以及气压对等离子体中各基团谱线强度的影响,测量分析了等...
李国伟马志斌吴建鹏陶利平曹为
关键词:金刚石薄膜微波等离子体
文献传递
MPCVD等离子体的发射光谱研究被引量:6
2013年
在2.45GHz,800W微波等离子体化学气相沉积装置上,利用发射光谱对CH4/H2等离子体进行在线诊断,分析了等离子体中存在的基团,研究了甲烷浓度对各基团浓度及基团的空间分布的影响。结果表明:等离子体中存在CH,Hα,Hβ,Hγ,C2基团和Mo杂质原子,随着甲烷浓度的升高,各基团的发射光谱强度均有增加,其中C2基团强度显著增加。CH与Hα基团的发射光谱强度比值随甲烷浓度的增加变化不大,而C2与Hα基团的发射光谱强度的比值随甲烷浓度的增加而显著增大。另外,甲烷浓度的增加使得等离子体中各基团在空间分布的均匀性变差。
马志斌吴建鹏陶利平曹为李国伟汪建华
关键词:发射光谱均匀性
共1页<1>
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