张国栋
- 作品数：11 被引量：26H指数：3
- 供职机构：华东冶金学院化学工程系更多>>
- 相关领域：化学工程理学电子电信经济管理更多>>
- 铁钝化膜的光电化学研究
- 1990年
- 本文研究了在pH=8.4的硼酸/硼酸钠溶液中铁钝化膜的光电化学行为。讨论了钝化时间、入射光强、电极电位以及光子能量对光电流的影响,指出铁钝化膜具有非晶态n型半导体特性。
- 张国栋
- 关键词：光电流非晶半导体
- n-InP在浓电解质溶液中的光电化学稳定性
- 1990年
- 本文研究了支持电解质KCl浓度对n—InP光电化学稳定性的影响,指出在pH=1的饱和KCl溶液中,光照时能够形成1—2个分子层厚度的表面氧化膜,这层膜的存在能够保护电极免受光腐蚀,而不降低光生空穴的界面迁移速度。
- 张国栋陈兵
- 关键词：光电化学
- 铁钝化膜半导体特性的光电化学研究被引量：1
- 1991年
- 近年来,光电化学作为金属钝化膜的“现场”(insltu)研究方法越来越受到重视。本文研究了铁钝化膜在硼酸/硼酸钠溶液中的光电化学行为,通过钝化膜的光电流响应与入射光强、波长及电极电位关系研究,说明铁钝化膜的非晶态n型半导体特性。实验部分研究电极由99.99%的纯铁制成(购自上海冶金所),受光面积为0.5cm^2,对电极为1cm^2的铂片,饱和甘汞电极作参比电极。溶液的组成为Na_2B_4O_7(0.075mol·L^(-1))+H_3BO_3(0.3mol·L(-1)),试剂均为分折纯,用二次蒸馏水配制。灯源为400W溴钨灯,光强用JG-Ⅰ型绝对功率计(长春真空器件厂)测量,电极电位用DH-Ⅱ型双恒电位仪(延边电化学仪器厂)控制,测量光电流-电位及光电流-光强关系时,用脉冲白光作光源,脉冲光的频率用斩光器调节。测量光电流-波长关系时,用WDG-Ⅰ型强光单色仪(四平光学仪器厂)产生单色光,并用PAR-5202型锁相放大器测量光电流,
- 张国栋
- 关键词：光电化学光电流
- 铁镍合金异常共沉积的旋转环盘电极研究被引量：1
- 1991年
- 应用旋转环盘电极研究了Fe-Ni合金的电沉积过程,通过镀层动电位或恒电流溶解时盘,环电流的测量,可以求得镀层成份、电流效率与极化曲线。实验结果证实在Fe-Ni合金沉积过程中Fe^(2+)的沉积被活化,而Ni^(2+)的沉积被阻碍。讨论了铁镍合金异常共沉积的机理。
- 张国栋
- 关键词：铁镍合金异常共沉积
- 18—8不锈钢钝化膜的光电化学研究
- 1990年
- 本文研究了18—8不锈钢钝化膜在硼酸/硼酸钠溶液中的光电化学特性,并和相同条件F纯铁、铬、镍以及铁铬合金钝化膜的光电化学行为进行了比较。结果指出,不锈钢钝化膜主要由Cr_2O_3和Fe_2O_3的固溶体组成,并具有非晶态n型半导体特性。其平带电位为-0.30V(SCE),禁带宽度为2.1eV。
- 张国栋姚文锐郭万华
- 关键词：不锈钢钝化膜光电化学固溶体
- 铁钝化膜厚度的电化学和光电化学测量被引量：1
- 1990年
- 本文用电化学和光电化学方法研究了在硼酸/硼酸钠溶液中铁钝化膜厚度和成膜电位的关系。指出铁钝化膜由两层氧化物组成,内层为具有导电体性质的Fe_3O_4,外层为具有半导体性质的Fe_2O_3,在钝化区的电位范围内,内层Fe_3O_4的厚度和成膜电位无关,而外层Fe_2O_3的厚度和成膜电位成正比关系。
- 张国栋郭万华姚文锐
- 表面修饰层在P—InP光解水制氢中的作用
- 1990年
- 本文用电化学和光电化学方法对P—I_nP电极进行氧化还原处理,以形成P—InP/In O_3/In表面修饰膜,并讨论了表面修饰过程对P—InP光电解水析氢反应的影响。
- 张国栋
- Ni-P化学镀反应速率及机理研究被引量：16
- 1998年
- 通过镀层分析和析氢量测量得到Ni-P镀层的沉积速度和H2PO2的分解速度·以混合电位理论为基础，对Ni－P电极在不同组成饮液中的极化曲线进行分解得到以化学镀电流形式所表示的反应速率·将两种方法所得结果进行对照，确定H2PO2氧化时电子迁移数为1，并用原子红-电化学联合理论解释溶液PH对反应速率及化学镀效率的景响．
- 张国栋
- 关键词：NI-P化学镀反应速率反应机理镍
- 电沉积非晶态Ni—P合金的研究被引量：4
- 1999年
- 讨论了电沉积的工艺条件（pH值、H_3PO_3的含量、电流密度）对沉积层组成的影响；热处理对Ni—P合金层结构的影响，以及合金层组成和结构与耐蚀性的关系。结果表明，随pH值的升高，H_3PO_3含量的升高，电流密度的降低，沉积层中的P含量逐渐增大；高合P量的合金层在350℃左右时，差热曲线上出现-尖锐的放热峰，即合金层开始品化，析出Ni_3P相；Ni—P合金层随含P量的升高，耐蚀性增强。热处理后的合金层耐蚀性能降低。
- 郭万华张国栋
- 关键词：电沉积NI-P合金非晶态合金
- Ni—SiC复合电镀沉积机理的研究被引量：3
- 1999年
- 对Ni—SiC体系的复合电镀的电沉积机理进行了探讨和研究，并提出一套求动力学参数的方法，经实验证实，理论推导与实验结果相符。
- 郭万华张国栋
- 关键词：复合镀电沉积
