张琨
- 作品数：8 被引量：13H指数：2
- 供职机构：吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区更多>>
- 发文基金：吉林省科技发展计划基金国家自然科学基金中央级公益性科研院所基本科研业务费专项更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 紫外胶在聚合物准矩形电光波导中的应用被引量：3
- 2012年
- 基于聚合物材料的波导型电光器件对提升光通信网络的带宽容量具有重要的意义。设计并制备了一种基于有机/无机杂化非线性材料的准矩形聚合物电光波导,采用SiO2作为下包层,紫外胶SU-8作为引导芯层,掺有生色团DR1的有机/无机杂化非线性材料DR1/SiO2-TiO2作为电光层,通过优化感应耦合等离子体刻蚀工艺的天线功率、偏置功率和氧气流量,将SU-8同时作为引导芯层和刻蚀工艺的掩模,制备了准矩形电光波导。实验测得波导传输损耗为-3.5dB/cm。
- 岳远斌王希斌孙健张琨孙小强张大明
- 关键词：非线性光学感应耦合等离子体刻蚀SU-8
- ICP刻蚀技术在聚合物倒脊型光波导器件制作中的应用
- 感应耦合等离子体(inductively coupled plasma)刻蚀技术具有操作简单、刻蚀速度快、均匀性好、垂直度高等优点,因而这种高密度的等离子体刻蚀技术被广泛应用于精细微加工.采用O2作为工艺气体,ICP刻蚀...
- 张琨岳远斌李彤孙小强张大明
- 关键词：ICP
- 感应耦合等离子体刻蚀在聚合物光波导制作中的应用被引量：9
- 2012年
- 提出了利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术提高聚合物光波导器件性能的方法,介绍了ICP刻蚀技术的原理和优点。选取聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料,采用氧气作为刻蚀气体,研究了ICP参数变化对刻蚀效果的影响。介绍了倒脊形光波导的制备过程,采用改变单一工艺参数的方法,分析了刻蚀效果随时间、功率、压强、气体流量等参数的变化,对参数优化后刻蚀得到的凹槽和平板结构进行了表征。实验结果表明:在天线射频功率为300 W,偏置射频功率为30 W,气体压强为0.5 Pa,氧气流速为50 cm3/min的条件下,可获得侧壁陡直、底面平整的P(MMA-GMA)凹槽结构。
- 张琨岳远斌李彤孙小强张大明
- 关键词：聚合物光波导
- 感应耦合等离子体刻蚀制备低损耗倒脊形聚合物光波导
- 利用高密度感应耦合等离子刻蚀方法制备了底面平整、侧壁陡直的聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯倒脊形光波导。系统研究了天线射频功率、偏置功率、气体流量和压强对波导形貌的影响,利用原子力显微镜和扫描电子显微镜分析了刻蚀速率...
- 孙小强张琨陈长鸣李晓东王菲张大明
- 关键词：感应耦合等离子体聚合物波导光损耗
- 文献传递
- 聚合物布拉格波导光栅折射率传感器的设计
- 本文通过求解平面光波导耦合模方程，分析了Bragg波导光栅的模式反向耦合问题。通过计算机编程设计了光栅周期、光栅长度、光栅高度和折射率差等参数。优化了Bragg光栅的性能指标——反射率、3-dB带宽和边模抑制比，使其适合...
- 田亮杨天夫韩超张琨王辉张大明
- 关键词：聚合物光波导波导光栅光传感器
- 聚合物波导形貌的等离子体刻蚀工艺优化研究
- 反应离子刻蚀和感应耦合等离子体刻蚀是硅基聚合物波导常用的制备工艺。本文以脊形波导为研究对象，利用扫描电子显微镜和原子力显微镜对比两种不同方法的刻蚀效果，系统分析了感应耦合等离子体刻蚀工艺中源功率、偏置功率、刻蚀腔室压强以...
- 孟杰张琨赵帅曹子谏靳琳孙小强张大明
- 基于Er^(3+)-Yb^(3+)共掺可溶性配合物的全聚合物光波导放大器被引量：1
- 2014年
- 合成了一种新型Er3+-Yb3+共掺配合物Er1.2Yb0.8(PBa)6(Phen)2,在有机溶剂环戊酮中有具良好的溶解性,Er3+离子在材料中的质量百分比掺杂浓度可达10.8%。这种配合物可以直接旋涂成膜,用原子力显微镜(AFM)测得配合物薄膜表面粗糙度为0.745nm。荧光发射谱的测试表明,配合物的荧光半高宽(FWHM)为60nm。以PMMA基片为衬底,制备了稀土掺杂全聚合物光波导放大器,且当泵浦光波长为980nm、功率为200mW和信号光功率为0.2mW时,在3.2cm长的样品中获得了2.7dB@1 535nm的相对增益。
- 丛隆元张琨鄂书林赵世民陈曦陈长鸣孙小强王菲张大明
- 关键词：光波导放大器
- 聚合物光波导刻蚀表面散射损耗的研究
- 本文选取聚甲基丙烯酸甲酯。甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料，利用有效折射率法计算了倒脊形波导单模传输条件，根据Tien理论分析了散射损耗与等离子体刻蚀后薄膜表面粗糙度的关系，利用原子力显微镜表征了感...
- 张琨孟杰王辉刘天际李彤孙小强张大明
- 关键词：散射损耗
