您的位置: 专家智库 > >

李刘合

作品数:115 被引量:483H指数:12
供职机构:北京航空航天大学机械工程及自动化学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 58篇期刊文章
  • 40篇专利
  • 14篇会议论文
  • 2篇学位论文

领域

  • 47篇金属学及工艺
  • 19篇一般工业技术
  • 12篇理学
  • 10篇电子电信
  • 8篇机械工程
  • 6篇电气工程
  • 5篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 17篇磁控
  • 15篇溅射
  • 15篇磁控溅射
  • 13篇等离子体
  • 11篇离子镀
  • 11篇磁场
  • 10篇电弧
  • 10篇电压
  • 10篇电源
  • 10篇涂层
  • 10篇离子注入
  • 10篇类金刚石
  • 9篇镀膜
  • 9篇放电
  • 8篇离化
  • 8篇合金
  • 7篇真空
  • 7篇碳膜
  • 7篇类金刚石碳膜
  • 7篇靶材

机构

  • 94篇北京航空航天...
  • 15篇哈尔滨工业大...
  • 15篇香港城市大学
  • 10篇上海交通大学
  • 2篇北京机械工业...
  • 2篇中航工业北京...
  • 2篇北京航空工艺...
  • 2篇中国航发中传...
  • 1篇哈尔滨理工大...
  • 1篇北京交通大学
  • 1篇清华大学
  • 1篇山东大学
  • 1篇武汉科技大学
  • 1篇中国原子能科...
  • 1篇中国科学院力...
  • 1篇洛阳轴承研究...
  • 1篇中国空间技术...
  • 1篇北京航天控制...
  • 1篇北京华航无线...
  • 1篇中铝材料应用...

作者

  • 114篇李刘合
  • 17篇张彦华
  • 17篇朱剑豪
  • 13篇夏立芳
  • 10篇许亿
  • 9篇蔡珣
  • 8篇崔旭明
  • 8篇张海泉
  • 8篇朱颖
  • 8篇孙跃
  • 7篇马欣新
  • 7篇陈秋龙
  • 5篇李光
  • 5篇彭徽
  • 5篇卢求元
  • 5篇刘红涛
  • 4篇金杰
  • 3篇庞恩敬
  • 3篇徐晔
  • 3篇张然

传媒

  • 7篇新技术新工艺
  • 6篇表面技术
  • 3篇物理学报
  • 3篇上海交通大学...
  • 3篇航空制造技术
  • 3篇中国表面工程
  • 3篇真空
  • 3篇真空科学与技...
  • 2篇材料科学与工...
  • 2篇核技术
  • 2篇摩擦学学报(...
  • 2篇材料工程
  • 2篇航天制造技术
  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇首届全国耐蚀...
  • 1篇科技通报
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇焊接学报
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇金属学报

年份

  • 2篇2024
  • 9篇2023
  • 7篇2022
  • 1篇2021
  • 8篇2020
  • 9篇2019
  • 7篇2018
  • 4篇2017
  • 5篇2016
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 5篇2010
  • 3篇2008
  • 3篇2007
  • 10篇2006
  • 6篇2005
  • 5篇2004
115 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于PC-PLC的复合表面改性设备控制系统的研究
随着信息技术和材料科学突飞猛进的发展,真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜、离子注入和化学气相沉积等技术手段的应用范围越来越广泛。然而,各种技术单独使用时却存在各种各样的缺陷,例如:磁控溅射离化率低,造成沉积速率低,成膜质量...
梁波朱颖庞恩敬李刘合卢求元朱剑豪
关键词:控制系统镀膜工艺
文献传递
基体、过渡层偏压和涂层厚度对氧化铬涂层结晶取向的影响被引量:3
2020年
硬质涂层的结晶取向会受多种因素的影响,其影响机制存在很多争议。采用电弧离子镀方法,分别在硬质合金YT15、单晶硅片以及高速钢(HSS)表面沉积了纯铬过渡层和不同厚度的Cr2O3涂层。用扫描电子显微镜(SEM)观察了涂层的断面形貌,用X射线衍射(XRD)研究了涂层的结晶取向。研究发现:涂层生长初期主要表现为[006]取向;过渡层偏压会使涂层的[006]衍射峰的相对强度降低25%以上;基体的晶粒越细,越不利于[006]取向,有利于[104]和[116]取向;随着涂层厚度增加,[006]相对强度降低21%~44%,[104]和[116]的相对强度分别增加11%~25%和11%~19%。通过分析结晶取向的变化,发现结晶取向符合表面能最小化原理,并受结晶和生长条件的共同影响。
黄凯李刘合
关键词:电弧离子镀CR2O3晶粒尺寸
一种用于物理气相沉积的嵌合复合靶
本发明提出一种用于物理气相沉积的嵌合复合靶材,在基底靶材的刻蚀轨迹上开一个以上的孔或槽,在所述孔或槽里嵌入至少一种待嵌合靶材,以一次性获得至少两种成分组合的涂层,其中,所述孔或槽沿所述刻蚀轨迹是非均匀分布的,通过调整非均...
李刘合唐令
一种新型离子注入方法——电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入研究
本文提出了一种新型的等离子体基离子注入方法——电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入,介绍了该方法的基本结构和基本原理,采用该方法,进行了硫元素的离子注入,采用X射线光电子能谱深度剥层分析的方法测量了注入硫的深度分布, 并...
李刘合梁爱凤尹蓝朱剑豪
关键词:离子注入电场
文献传递
增强辉光放电等离子体离子注入的三维PIC/MC模拟被引量:1
2012年
采用三维粒子模拟/蒙特卡洛模型自洽地模拟了增强辉光放电等离子体离子注入过程中离子产生和注入,获得了放电空间的离子总数、电势分布、等离子体密度分布和离子入射剂量等信息.模拟结果表明,5μs时鞘层达到稳定扩展,15μs时离子的产生与注入达到平衡,证实了增强辉光放电等离子体离子注入能在一定条件下实现自持的辉光放电.注入过程中,在点状阳极正下方存在一个高密度的等离子体区域,证实了电子聚焦效应.除靶台边缘外,离子的注入速率稳定且入射剂量均匀.脉冲负偏压提高时注入速率增加但入射剂量的均匀性变差.
何福顺李刘合李芬顿丹丹陶婵偲
关键词:等离子体浸没离子注入数值模拟
真空电弧自动引弧方法及装置
本发明涉及一种多弧离子镀真空电弧自动引弧方法及装置,该方法可以在镀膜开始,进行自动引弧;在镀膜过程中,电弧熄灭或有熄灭的趋势时,由反馈环节检测电弧工作电压并反馈至引弧信号控制单元,由其作出比较并及时发出自动引弧信号,从而...
朱剑豪李刘合
文献传递
溅射技术对TiN涂层结构和力学性能的影响被引量:1
2023年
目的沉积条件对TiN涂层的组织结构和力学性能有着至关重要的影响,而溅射技术又决定了涂层的沉积条件,探究不同溅射技术对TiN涂层的微观组织结构和性能的影响,提高TiN涂层的力学性能和高温摩擦磨损性能。方法采用不同的溅射技术(dcMS、HiPMS、Hybrid)在M2高速钢表面沉积TiN涂层,利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、sin2ψ法、纳米压痕仪、洛氏压痕法、划痕法和CSM球盘式摩擦试验机分别测试了TiN涂层的组织结构特征、沉积速率、残余应力、纳米硬度、膜基结合力和高温摩擦磨损性能。结果不同溅射技术制备的TiN涂层均为柱状晶结构和TiN(111)择优取向。HiPIMS-TiN涂层具有最高的纳米硬度(29.7 GPa)和最低的膜基结合力(HF2),而Hybrid-TiN涂层呈现出最小的残余应力、高沉积速率和高膜基结合力,其膜基结合力达到HF1级,临界载荷(Lc2)达到82.5 N。不同溅射技术制备的TiN涂层的摩擦因数均随着温度的升高而降低,在500℃时,TiN涂层的摩擦因数约为0.53。TiN涂层的磨损率随着温度的升高而升高,在不同温度下,Hybrid-TiN涂层均呈现出最低的磨损率。结论溅射技术对TiN涂层的组织结构和力学性能有着重要影响,Hybrid-TiN涂层呈现出最优的综合力学性能和高温摩擦磨损性能。
谷佳宾李建勇李刘合金杰张海鹏
关键词:磁控溅射HYBRIDTIN涂层力学性能
电磁场耦合双极脉冲磁控溅射系统及提高流量和能量方法
电磁场耦合双极脉冲磁控溅射系统及提高流量和能量方法,该系统包括双极脉冲磁控溅射电源、以及溅射靶,并且至少包括辅助阳极和外部磁场单元之一,其中,双极脉冲磁控溅射电源的脉冲输出端连接在溅射靶,当包括辅助阳极时,辅助阳极配置在...
李刘合韩明月罗阳朱祥瑞李多铎徐晔罗斯达彭徽
一种双极脉冲磁控溅射方法
本发明公开一种双极脉冲磁控溅射方法,包括:一、将试样置于真空室内的样品台上,连接相关磁控溅射镀膜设备;二、完成对真空室的抽真空;三、设置双极脉冲磁控溅射电源的参数;四、向真空室内通入工作气体,通过双极脉冲磁控溅射电源施加...
李刘合谷佳宾苗虎徐晔
不对称双极脉冲磁控溅射系统及离子能量和流量调控方法
不对称双极脉冲磁控溅射系统及离子能量和流量调控方法,包括真空室、电源设备和信号发生器,真空室包括溅射靶和外部磁场单元,电源设备包括双极脉冲磁控溅射电源以及外部磁场单元脉冲电源,双极脉冲磁控溅射电源与外部磁场单元脉冲电源的...
李刘合苏雨堃韩明月罗阳徐晔彭徽
共12页<12345678910>
聚类工具0