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霍浩磊

作品数：2 被引量：8H指数：1
供职机构：郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室更多>>
发文基金：河南省杰出人才创新基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 2篇光谱
  • 1篇晶化
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇功能化
  • 1篇功能化研究
  • 1篇光谱研究
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇发光
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非晶硅薄膜
  • 1篇负热膨胀
  • 1篇负热膨胀材料
  • 1篇RAMAN光...

机构

  • 2篇郑州大学
  • 1篇河南农业大学

作者

  • 2篇梁二军
  • 2篇王俊平
  • 2篇霍浩磊
  • 1篇袁超
  • 1篇李志远
  • 1篇徐二明
  • 1篇宋文博

传媒

  • 1篇光散射学报

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2008
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
负热膨胀材料的Raman光谱及发光功能化研究
梁二军宋文博李志远王俊平霍浩磊
532nm连续激光晶化非晶硅薄膜的原位拉曼光谱研究被引量：8
2008年
用磁控溅射制备了非晶硅薄膜,用波长为532 nm的连续激光退火和显微Raman光谱原位测试技术和场发射扫描电子显微镜研究了非晶硅薄膜在不同激光功率密度和不同扫描速度下的晶化状态。结果表明,激光照射时间10 s,激光功率密度大于2.929×105W/cm2时,能实现非晶硅薄膜晶化。在激光功率密度为5.093×105W/cm2,扫描速度为10 mm/s时非晶硅开始向多晶硅转化。在5.093×105W/cm2的功率密度下,以1.0 mm/s的扫描速度退火非晶硅薄膜,得到的晶粒直径为740 nm。
徐二明袁超王俊平霍浩磊梁二军
关键词：非晶硅薄膜拉曼光谱晶化
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