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魏猛

作品数：23 被引量：0H指数：0
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 18篇半导体
  • 15篇晶片
  • 13篇涂胶
  • 13篇半导体晶片
  • 10篇显影
  • 5篇晶圆
  • 4篇导轨
  • 3篇排风
  • 3篇热板
  • 2篇单片
  • 2篇真空
  • 2篇升起
  • 2篇湿法
  • 2篇湿法处理
  • 2篇喷嘴
  • 2篇片盒
  • 2篇气缸
  • 2篇翘曲
  • 2篇主框架
  • 2篇显影机

机构

  • 23篇沈阳芯源微电...
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 23篇魏猛
  • 3篇郑春海
  • 2篇王阳
  • 2篇李晓飞
  • 1篇王靖震
  • 1篇卢继奎
  • 1篇刘伟军

传媒

  • 1篇中国机械工程

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 5篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 3篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 3篇2009
共 23 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
涂胶显影设备的工艺墙框架
一种涂胶显影设备的工艺墙框架，属于半导体晶片涂胶显影技术领域。它是由多个型材构成的立体框架结构，顶架上置有顶板，底架两长边中间安装有底板，顶板和底板之间固定有中间立柱，在中间立柱两侧为对称结构的工艺单元框架模块，所述工艺...
魏猛
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涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法
本发明涉及在集成电路生产时与光刻机联线作业的涂胶显影机，具体地说是一种涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法。包括离心处理工艺模块和热处理工艺模块，多个所述离心处理工艺模块堆砌成叠层的离心处理工艺组，多个所述热处理工艺模块堆...
胡延兵魏猛王阳卢继奎
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双向传递片盒机构
本发明涉及涂胶显影和半导体晶片加工的相关领域，具体为一种双向传递晶片片盒机构，用于在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备、单片湿法处理设备等，解决现有技术中晶片在进出片盒只能作单向运动，影响整机的产能等问...
魏猛郑春海
涂胶显影设备的工艺墙
一种涂胶显影设备的工艺墙，属于半导体晶片涂胶显影技术领域。本发明工艺墙的各工艺单元平行并列排布，所述工艺墙的各单元均有一个晶片进出口端，该晶片进出口端为弧型通透式结构。本发明的有益效果：工艺墙各单元进出口的弧型结构，使晶...
魏猛
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高精复合盘结构及其应用
本发明属于半导体晶片涂胶显影技术领域，具体为一种用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影过程的设备的工艺墙中的高精复合盘结构及其应用。高精复合热盘结构由冷盘单元、热盘单元组成，热盘单元安装在主框架托板上，冷...
魏猛
一种承载翘曲晶圆的装置及其承载方法
本发明涉及半导体行业冷板单元晶圆承载装置，具体地说是一种承载翘曲晶圆的装置及其承载方法，装置包括气缸、连接臂、吸盘、顶针、缓冲器及缓冲器安装板，连接臂的一端与气缸的输出端相连，由气缸驱动升降，连接臂的另一端连接有缓冲器安...
李晓飞魏猛
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正压晶圆表面改性装置
本发明涉及半导体晶片加工领域，具体地说是一种正压晶圆表面改性装置，包括上密封盖、下密封体和加热盘，其中加热盘设置于下密封体中，上密封盖设置于所述下密封体上方，在所述上密封盖的中部设有进气口，在所述上密封盖的边缘设有排废口...
魏猛
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涂胶、显影单元的方便维修结构
本实用新型涉及涂胶、显影单元的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的涂胶单元及显影单元的方便维修结构，解决涂胶、显影单元维修或更换时存在的笨重又不方便，容易造成部件的局部划伤，从而产生机械尘粒，不利于涂胶...
魏猛
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幕状显影喷嘴
本发明涉及在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影处理设备，具体地说是一种幕状显影喷嘴。包括喷嘴本体和喷嘴盖，其中喷嘴盖设置于喷嘴本体的上方，所述喷嘴本体和喷嘴盖之间设有形成幕状喷洒的断面结构和喷嘴口，所述喷嘴口与断面结构连通...
魏猛胡延兵
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将横向运动转换成为上下运动的装置
本发明属于涂胶显影和半导体晶片加工的技术领域，具体为将横向运动转换成为上下运动的装置。包括驱动装置、传动滑块、传动滑块导轨、从动滑块及上下运动导轨，其中传动滑块导轨设置于传动滑块上、并与水平面呈夹角设置，所述从动滑块的两...
魏猛
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