齐瑞云
- 作品数：9 被引量：10H指数：2
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- 沉积温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响被引量：1
- 2011年
- 采用电子枪蒸镀法制备了不同沉积温度下的HfO2薄膜样品,利用ZYGO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、X射线衍射(XRD)仪和冷场发射扫描电镜(SEM)对样品进行了测试。结果表明,在实验所选择的沉积温度下,制备的薄膜都是非晶态结构;残余应力和本征应力均为张应力,沉积温度低于220℃时热应力对残余应力起主要作用;沉积温度高于220℃时,本征应力对残余应力起主要作用,且沉积温度220℃时残余应力最小;HfO2折射率随沉积温度的升高而增大,不同沉积温度下制备的薄膜折射率都是正常色散;沉积温度220℃下制备的薄膜平整度最好。这些结果可以为镀制高质量HfO2薄膜提供参考。
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- 关键词：残余应力HFO2薄膜沉积温度光学特性
- 沉积速率对HfO_2薄膜应力和光学特性的影响
- 2010年
- 利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3/s、5.5/s和9.6/s.利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明:在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构.样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3/s时应力最小.不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度.这些结果为制备高性能HfO2薄膜提供参考.
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- 关键词：应力沉积速率微结构折射率
- 基于受抑全反射和全反射原理的薄膜平行分束偏光镜被引量：1
- 2010年
- 为了获得宽光谱、高消光比、大视场角、具有较大剪切差的平行分束偏光镜,根据受抑全反射和全反射原理,设计了550-700 nm光谱范围内的薄膜平行分束偏光镜.利用TFCalc薄膜软件进行了数值模拟和优化,从理论上分析了这种薄膜平行分束偏光镜的视场角和消光比.分析结果表明:在设计光谱范围内,封装光学玻璃棱镜中的入射角范围为62°-74°,空气中的视场角为±10°,p偏振分量的消光比优于1.5×10-3,s偏振分量的消光比优于1.0×10-3.
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- 关键词：薄膜光学消光比剪切差
- 基于等效膜层理论的1/4规整膜系薄膜偏光分束镜被引量：5
- 2010年
- 为了设计制作1/4规整膜系的高性能薄膜偏光分束镜,根据三层对称膜系结构的等效膜层理论和截止带理论,设计了两种对称膜系结构的偏光分束镜。利用TFCalc薄膜软件对两种膜系结构偏光分束镜的分光光谱特性进行了模拟。利用电子枪蒸镀法分别制备了两种膜系结构的偏光分束镜（580~780 nm）,并利用分光光度计和搭建的消光比测试系统,对两种膜系结构偏光分束镜的透射率和消光比进行了测试。结果表明,两种膜系结构的偏光分束镜在设计分光光谱范围内透射率可以达到90%以上,消光比优于3×10-3,与理论设计吻合得很好。
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- 关键词：薄膜光学偏光分束镜透射率消光比
- 制备参数对二氧化铪薄膜应力及光学特性的影响
- 二氧化铪（HfO2）是一种优质的高抗损伤阈值薄膜材料,是制作高功率激光系统的薄膜器件的首选高折射率薄膜材料。HfO2具有附着力好、机械性能和热稳定性好等特点,在近紫外到中红外波段（230nm-10000nm）都具有良好的...
- 齐瑞云
- 关键词：薄膜光学残余应力光学特性微结构表面粗糙度
- 大视场角1/4对称膜系偏光分束镜的研究
- 2010年
- 为了增大薄膜偏光分束镜(PBS)的视场角,从对称膜系等效折射率公式和截止带理论出发,设计了对称膜系结构的大视场角PBS。利用电子枪蒸镀法制备了低高低折射率(LHL)膜系结构的PBS,利用UV3101-PC分光光度计测量了PBS在不同入射角下的透射分光光谱,通过消光比测试系统测量了PBS反射光和透射光的消光比。结果表明,偏光分光光谱随入射角变化不明显,在视场角范围内具有较好的消光比(10-3量级),实验结果与理论设计一致。由此可见,利用周期性对称膜系设计大视场角薄膜PBS是完全可行的,为研制大视场角薄膜PBS提供了新的设计方法。
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- 关键词：薄膜光学视场角消光比
- 应力对薄膜偏振分束镜性能的影响及改进工艺被引量：1
- 2010年
- 为了研究应力对薄膜偏振分束镜性能的影响和减少应力的方法,通过在镀制分光膜之前预镀Al_2O_3过渡层,镀制过程中提高真空度、升高基底温度、减慢薄膜沉积速率,以及封装过程中采用光学光敏胶紫外光照射快速凝固法来减少薄膜应力。利用CCD采集了工艺改进前后薄膜偏振分束镜反射光和透射光的光斑图像,利用消光比测试系统测量了工艺改进前后薄膜偏振分束镜反射光和透射光的消光比。结果表明,改进工艺后反射光和透射光的光斑能量更加集中,散斑现象变小;反射光和透射光的消光比特性明显提高。由此可见,通过改进镀制工艺和封装工艺可以使薄膜偏振分束镜的指标达到使用要求。
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- 关键词：应力光斑消光比
- 对称膜系偏光分束镜特征参量的入射角效应
- 2010年
- 为了研究入射角对对称膜系薄膜偏光分束镜性能的影响,从等效膜层理论和截止带理论出发,采用图像法分析了分光光谱带宽和透过率随入射角的变化趋势和原因。利用UV3101-PC分光光度计测量了(LHL)^N膜系偏光分束镜在不同入射角下的透射分光光谱,实验结果与理论分析一致。结果表明,分光光谱带宽和入射角存在直接联系,分光光谱带宽随入射角的增大先变宽后变窄,存在一个带宽最大值,以带宽最大值对应的入射角为基点,减小入射角时,分光光谱带宽向长波段漂移并且出现凹陷;增大入射角时,分光光谱向短波段漂移。这些结果对优化对称膜系薄膜偏光分束镜有一定的参考价值。
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- 关键词：偏光分束镜透过率带宽
- 退火温度对HfO2薄膜应力和光学特性的影响被引量：2
- 2011年
- 为了研究退火温度对HfO_2薄膜应力、光学常数和表面粗糙度的影响,采用电子枪蒸镀法制备了薄膜样品,在不同温度下进行了退火处理。利用ZYGO干涉仪、UV-3101PC分光光度计、X射线衍射仪和冷场发射扫描电镜对样品进行了测试。结果表明,在本实验条件下制备的HfO_2薄膜都是无定形结构;残余应力均为张应力,且随退火温度的升高呈先减小后增大现象,在300℃退火条件下具有最小应力;HfO_2薄膜折射率随退火温度的升高而增大,并且色散减小;低温退火可以提高HfO_2薄膜的平整度,高温退火反而会使HfO_2薄膜表面粗糙度增加。这些结果可以为制备高质量HfO_2薄膜提供参考。
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- 关键词：HFO2薄膜残余应力退火微结构
