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一种高吸气性能薄膜吸气剂及制备方法: 本发明提供了一种高吸气性能的薄膜吸气剂及制备方法。该薄膜吸气剂是在金属、硅片、陶瓷、玻璃基片或密封器件内壁沉积一层气体吸收层或是由气体吸收层与调节层构成的双层结构薄膜，气体吸收层为Zr和Co与选自Y、La、Ce、Pr、N...; 毛昌辉卜继国张艳张心强; 文献传递

Zr-Co-RE薄膜的制备和吸气性能研究: 吸气薄膜是真空科学与技术中真空获得与维持的关键功能材料,在超高与极高真空系统、平板集热器、微电子机械系统等领域广泛应用,是真空设备与器件维持高可靠性、稳定性和长寿命的关键技术之一。Zr-Co-RE具有激活温度较低、吸氢平...; 卜继国; 关键词：磁控溅射吸气性能; 文献传递

ZrCoRE薄膜的结构调控与吸气性能研究被引量：2: 2013年; 运用扫描电镜、扫描原子探针、X射线衍射仪和动态法分析了高硼硅玻璃表面改性对ZrCoRE薄膜结构和吸气性能的影响。结果表明,ZrCoRE薄膜的纳米组织受衬底表面的影响较大,其表面粗糙度和结构无序度随衬底粗糙度增加而增大;经300℃激活30 min后,Ⅰ-型薄膜(Ra=5 nm)吸气性能随时间下降较快,Ⅱ-型(Ra=7 nm)、Ⅲ-型(Ra=59nm)及Ⅳ-型薄膜(Ra=125 nm)的吸气速率依次增大并具有平稳的吸气平台,Ⅳ-型薄膜吸气性能最好。; 卜继国毛昌辉张艳张心强尉秀英杜军; 关键词：射频磁控溅射吸气性能

非蒸散型薄膜吸气材料研究进展被引量：5: 2012年; 非蒸散型吸气薄膜是大型超高真空系统设备维持超高真空的重要材料,近来又成为基于物联网应用的MEMS器件维持可靠性和长寿命的关键材料。本文综述了非蒸散型薄膜吸气剂的基本原理、材料体系和制备技术,介绍了国内外吸气薄膜的材料现状、结构与性能、多功能化的最新进展,讨论了增大比表面积、调控纳米级精细结构的调控、实现多功能化和提高沉积精度是未来吸气薄膜技术的发展趋势。; 卜继国毛昌辉张艳尉秀英杜军; 关键词：磁控溅射法

MEMS封装用薄膜吸气剂的最新进展: ＜正＞"物联网"时代的加速来临在全世界范围内掀起了MEMS器件的发展浪潮,非蒸散型薄膜吸气剂是MEMS封装器件维持真空度和必要工作环境的关键材料,是确保MEMS器件长寿命和高可靠性的关键技术之一。本文综述了近年来MEMS...; 卜继国毛昌辉王磊; 文献传递

ZrCoRE吸气薄膜的膜层结构与性能研究被引量：2: 2012年; 为了研究膜层结构对非蒸散型吸气薄膜性能的影响,运用射频磁控溅射法(RF magnetron sputtering)制备了ZrCoRE单层膜和双层膜,其中单层膜只含主体层,双层膜含有主体层和附着层。采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射法(XRD)表征了薄膜的形貌和结构,利用ASTM F798-97"动态法"测试了薄膜的吸气性能。结果表明,ZrCoRE薄膜的主体层在较高沉积压强(4 Pa)下受到原子阴影效应与沉积原子低迁移率的作用而形成柱状组织,附着层在较低沉积压强下(0.2 Pa)由于沉积原子迁移率高而形成致密组织,附着层的存在使主体层柱状组织实现连续生长;主体层表面为20 nm的颗粒无序堆积态,形成了大量的表/界面缺陷;通过高频感应在300℃下激活30 min,在2.7×10-4Pa的H2压强下,薄膜的室温吸气速率在1～100 cm3·s-·1cm-2范围内变化;双层膜吸气速率是单层膜的10倍,3 h的吸气量达80 Pa·cm3·cm-2;吸气薄膜的大活性比表面积和高扩散速率,使其单位质量吸气量达104Pa·cm3·g-1量级以上,高于块体吸气剂的103Pa·cm3·g-1量级,附着层的存在提高了主体层的吸气性能。; 卜继国毛昌辉张艳尉秀英杜军; 关键词：磁控溅射法吸气性能

一种高吸气性能薄膜吸气剂及制备方法: 本发明提供了一种高吸气性能的薄膜吸气剂及制备方法。该薄膜吸气剂是在金属、硅片、陶瓷、玻璃基片或密封器件内壁沉积一层气体吸收层或是由气体吸收层与调节层构成的双层结构薄膜，气体吸收层为Zr和Co与选自Y、La、Ce、Pr、N...; 毛昌辉卜继国张艳张心强; 文献传递

新型吸气薄膜的微观结构和性能研究: 为了研究非蒸散型吸气薄膜的微观结构和吸气性能之间的关系，首次运用射频磁控溅射法制备出 Zr-Co-RE 系的非蒸散型吸气薄膜，靶材采用Zr-Co-RE 合金靶，运用冷场发射扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）揭示...; 卜继国毛昌辉张艳蔚秀英杜军; 关键词：材料学磁控溅射法吸气性能

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卜继国