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孟繁玲: 作品数：29 被引量：52H指数：5; 供职机构：吉林大学更多>>; 发文基金：中国博士后科学基金吉林省科委基金国家教育部博士点基金更多>>; 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学化学工程更多>>

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小角X射线散射研究碳纤维基体微结构被引量：12: 1997年; 利用小角X射线散射研究了碳纤维基体微结构，结果表明，2500℃碳化处理的碳纤维的小角X射线散射强度很好地遵从Porod规律；1340℃碳化处理的碳纤维不遵从Porod规律，即经1340℃碳化处理的碳纤维基体存在尺寸小于1nm的不均匀区．; 张明孟繁玲孟昭富; 关键词：碳纤维 X射线散射 SAXS

小角X射线散射确定Al-Li合金中δ′相长大激活能被引量：1: 1999年; 应用小角Ｘ射线散射（ＳＡＸＳ）技术确定了二元Ａｌ－２．７０％Ｌｉ合金在４４３～４７３Ｋ温度范围内的回火析出相（δ′）长大激活能．; 柴志刚于燕孟繁玲孟昭富; 关键词：AL-LI合金激活能小角X射线散射

8090Al-Li合金δ′相的相界特征被引量：2: 1998年; 采用小角Ｘ射线散射技术研究８０９０Ａｌ－Ｌｉ合金回火析出δ′相的相界特征．实验结果表明，合金在１６０℃时效时析出的δ′相粒子与基体之间存在过渡界面层，表明δ′相是通过Ｓｐｉｎ－ｏｄａｌ分解机理形成的。; 柴志刚孟繁玲孟昭富徐耀李冬妹; 关键词：铝锂合金

淬火和退火后尼龙6的X射线衍射谱: 2012年; 采用X射线衍射研究尼龙6等温结晶后淬火和退火的结晶行为,并根据实验结果分析了高温结晶峰产生的原因.结果表明:在温度高于443 K等温结晶和温度高于473 K退火的尼龙6中,在2θ=28.5°处出现一个高温结晶衍射峰;高温结晶峰的强度与尼龙6薄膜的热历史有关,若尼龙6在等温结晶和退火后空冷,则无高温结晶峰存在.; 王肇虹李永华孟繁玲赵竹第; 关键词：尼龙6 X射线衍射

基于X射线小角散射仪的纤维用原位旋转样品台: 本发明公开了一种基于X射线小角散射仪的纤维用原位旋转样品台，本发明属于分析仪器领域。本发明针对现有配备一维探测器的小角散射仪测试纤维样品只能进行赤道方向和子午方向测试，测试结果无法满足测试微孔取向角的要求，每次测试都单独...; 高忠民唐海通金石赵瑞雪吕光锐孟繁玲李向山

NiTi形状记忆合金薄膜纳米材料的相变: 孟繁玲郑伟涛李永华田宏伟王欣邱利霞于陕升赵江朱建新; 该项目利用自行研制的X射线线形分析的方法分析薄膜位错密度、晶粒尺寸等量。在实验上优化NiTi薄膜的制备工艺条件；降低非晶薄膜的晶化温度，以扩展沉积薄膜的基板材料的选择范围；对NiTi薄膜样品进行组分、结构、晶粒尺寸和相变...; 关键词：; 关键词：相变

石墨烯/聚乙烯醇/聚偏氟乙烯基纳米复合薄膜的介电性能被引量：5: 2016年; 石墨烯由于具有良好的力学性能、高的电子传递能力以及相对较低的生产成本等优势而受到广泛关注,但现在多将其直接分散在聚合物中提高聚合物的介电性能.本工作中,制备出了还原氧化石墨烯/PVA/聚偏氟乙烯（PVDF）的三相纳米复合薄膜.首先把聚乙烯醇（PVA）和氧化石墨烯（GO）分散于二甲基亚砜（DMSO）中,得到PVA非共价键修饰的GO,再将PVDF溶于该混合液体中,通过溶液浇注以及低温加热过程得到三相纳米复合薄膜.实验结果表明,在120℃下,GO可以被热还原成还原氧化石墨烯（RGO）,且可以促进PVDF的α相向β相转变.PVA修饰RGO比单纯RGO在PVDF基体中分散性要好,且使PVDF的球晶尺寸大大降低,复合薄膜的介电性能大幅提高.RGO/PVA/PVDF复合膜的渗流阈值fvol^＊约为8.45 vol.%,在10-2Hz时RGO/PVA/PVDF复合膜的介电常数大约是纯PVDF的238倍.本工作为制备介电性能高、生产成本低、操作简单的聚合物纳米复合材料提供了一种好的方法.; 冯奇李梦凯唐海通王晓东高忠民孟繁玲; 关键词：石墨烯聚偏氟乙烯纳米复合材料介电性能

CNx薄膜材料的磁控溅射生长、表征及应用研究: 郑伟涛王欣李晓天孟繁玲丁涛于文学金曾孙王煜明; 磁控溅射沉积CN薄膜的可沉积实验条件为：Ts=100～600，Pn2=0.1～10mTorr，Ia=0.2～0.3A，Vb=0～-100V，Ts＝350。CN的能带为零点几电子伏特，属于半导体材料。在AFM观测下加压力，...; 关键词：

NiTi合金的第一性原理研究被引量：4: 2008年; 采用第一原理平面波方法,计算了NiTi合金B2相的体相性质,如晶格常数,形成能和结合能,弹性常数,计算的结果和实验数据以及别人的计算结果符合得很好.其次,计算了NiTi(100),(110)表面的几何结构和电子结构,计算结果表明,(100)表面具有表面振荡现象,(110)表面产生了表面波纹,最外层的Ti原子相对理想表面向真空层移动了0.198,Ni原子向表面内移动了0.122.比较表面的电子结构,NiTi(100)表面Ti端位较Ni端位更容易发生反应,而(110)表面较体相更稳定.; 朱建新李永华孟繁玲刘常升郑伟涛王煜明; 关键词：NITI 第一性原理电子结构

固溶处理对NiTi薄膜中位错密度的影响被引量：3: 2004年; 用磁控溅射法将 NiTi 薄膜沉积在纯 Cu 箔片上,在 800℃分别固溶 30 min,45 min,60 min 和 120 min;采用X 射线傅氏线形分析法计算各固溶时间的位错密度及位错分布参量。随固溶时间的增加,平均位错密度不断下降; 亚晶粒尺寸 D 逐渐增加; 平均位错分布参量基本不变。由位错密度及位错分布参量计算得到 NiTi 薄膜材料的显微硬度值,随固溶时间的增加,显微硬度计算值明显低于测量值。; 李永华孟繁玲孟繁玲高忠民郑伟涛; 关键词：位错密度固溶处理