张利伟
- 作品数：11 被引量：44H指数：4
- 供职机构：郑州大学更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
- 基于图像处理方法的板材计量方法与装置
- 本发明涉及一种基于图像处理方法的板材计量方法与装置，方法消除了环境亮度的不同从而对目标对象造成的识别误差；基于大津阈值分割的方法二值化灰度图像，针对直方图呈“两峰一谷”的情况，该方法可有效地将其灰度图像二值化；采用改进中...
- 侯维岩张利伟刘晓丹
- 文献传递
- 直流反应溅射TiO_2薄膜的制备及其性能研究被引量：15
- 2005年
- 采用直流反应磁控溅射的方法,溅射高纯钛靶在ITO石英衬底上制备了TiO2薄膜。用XRD、Raman光谱、AFM和紫外-可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的结构、表面形貌和紫外-可见光透射谱,研究了工艺因素中溅射气压、氧氩比和退火温度对薄膜结构的影响。采用C(胶)/TiO2/ITO三层结构研究了锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应。实验结果表明:较低的溅射气压、合适的氧氩比和较高的退火温度有利于锐钛矿TiO2薄膜的结晶。在2V的偏压下,锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应上升迟豫时间约为3s,稳定光电流可达到2.1mA,对紫外光的灵敏性和稳定的光响应表明TiO2薄膜有可能成为一种新的紫外光探测器材料。
- 姚宁张利伟鲁占灵杨仕娥樊志琴张兵临
- 关键词：直流反应磁控溅射光响应
- 锐钛矿TiO_2薄膜的制备及其紫外光电导性能研究被引量：7
- 2005年
- 采用直流反应磁控溅射的方法, 溅射高纯钛靶在 ITO石英衬底上制备了 TiO2 薄膜。用Raman光谱、AFM和紫外 可见光分光光度计分别测试了 TiO2薄膜的结构、表面形貌和紫外 可见光吸收谱,研究了工艺因素中溅射气压、氧氩比和退火温度对薄膜结构的影响。采用C(胶)/TiO2/ITO三层结构研究了锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应。实验结果表明:较低的溅射气压、合适的氧氩比和较高的退火温度有利于锐钛矿 TiO2 薄膜的结晶。在 2 V 的偏压下,锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应上升弛豫时间约为3 s,稳定光电流可达到2.1 mA,对紫外光的灵敏性和稳定的光响应表明TiO 薄膜有可能成为一种新的紫外光探测器材料。
- 张利伟姚宁鲁占灵杨仕娥樊志琴张兵临
- 关键词：直流反应磁控溅射光响应
- 用于紫外光电导探测器的TiO_2薄膜研究被引量：2
- 2005年
- 采用直流反应磁控溅射的方法,制备了TiO2薄膜。用X射线衍射,原子力显微镜(AFM)和紫外-可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱,采用C/TiO2/ITO三层结构制备了TiO2光电导型紫外探测器,研究了它的光响应。初步实验结果表明:TiO2薄膜在4W的紫光灯辐射下,光电流可达2.1mA,10min的辐射时间内,光电流基本保持稳定,可见TiO2薄膜对紫外光有较高的灵敏度和稳定性,可作为一种良好的紫外光探测材料。
- 张利伟杨仕娥姚宁鲁占灵樊志琴张兵临
- 关键词：直流反应磁控溅射TIO2薄膜光响应
- 面向板材计量系统的图像处理算法研究和应用
- 板材数量的精确统计是相关企业（钢铁生产行业，建筑行业，钢铁经营行业等）在板材出入库管理过程中不可或缺的重要环节。然而，国内外企业仍普遍沿用人工查数的方式进行板材数量的统计，该方式计数效率低下，准确度不高，同时，还会伴随个...
- 张利伟
- 关键词：图像处理算法阈值分割连通区域标记
- 文献传递
- 一种提高用于太阳能电池的铜锌锡硫薄膜质量的方法
- 本发明属于一种提高用于太阳能电池的铜锌锡硫薄膜质量的方法，包括以下步骤，硒化：在500-550℃下，采用固态硒源((硒粉或硒块))对铜锌锡硫薄膜进行硒化，硒化时间为20-40min，然后冷却至室温；硫化：将硒化后的铜锌锡...
- 陈永生符凯亮张利伟
- 文献传递
- 直流反应磁控溅射法制备锐钛矿TiO_2薄膜被引量：8
- 2006年
- 采用直流反应磁控溅射的方法,溅射高纯钛靶在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜。用XRD测试了TiO2薄膜的结构,研究了工艺因素中衬底温度、溅射气压、氧氩气体流量比和退火温度对薄膜结构的影响。实验结果表明:衬底温度高于200℃、溅射气压不高于0.7 Pa、氧氩流量比为1/4、退火温度为650℃时,锐钛矿TiO2薄膜更容易结晶。
- 张丽伟郭云德任时朝宋金生张利伟卢景霄
- 关键词：TIO2薄膜直流反应磁控溅射锐钛矿
- TiO/_2薄膜的制备及其紫外光电导性能的初步研究
- 本课题采用直流反应磁控溅射的方法,分别在镀有透明导电ITO薄膜的玻璃和石英衬底上制备了TiO/_2薄膜,通过XRD、Raman光谱、AFM、SEM、紫外-可见分光光度计分别对样品的结构、形貌、光学性质等进行了测试,研究了...
- 张利伟
- 关键词：直流反应磁控溅射ZNO薄膜光电流
- 文献传递
- 直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO_2薄膜被引量：11
- 2003年
- 采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜。采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响。经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备结晶良好的锐钛矿结构TiO2薄膜的最佳实验条件为:溅射气压0.3Pa;溅射电流0.7A;氧氩比1∶3;溅射时间40min;退火温度650℃。
- 张利伟鲁占灵杨仕娥姚宁张兵临
- 关键词：直流反应磁控溅射TIO2薄膜正交设计法
- 直流反应磁控溅射法制备二氧化钛薄膜的光响应(英文)被引量：2
- 2004年
- 采用直流反应磁控溅射的方法在镀有ITO的导电玻璃衬底上沉积了二氧化钛薄膜 ,分别用拉曼光谱和吸收光谱研究了薄膜的结构 ,通过光电流研究了二氧化钛薄膜的紫外光响应。在 10 0s的时间内光电流能达到最大值的96 % ,当停止紫外光照射时 ,光电流在 2 0 0s的时间内能恢复到暗电流 ,二氧化钛薄膜对紫外光的灵敏性和稳定的光响应表明二氧化钛薄膜有可能成为一种新的紫外光探测器材料。
- 张利伟张兵临姚宁樊志琴杨仕娥鲁占灵
- 关键词：二氧化钛薄膜光响应导电玻璃光电流
