您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇晶体管
  • 3篇薄膜晶体
  • 3篇薄膜晶体管
  • 2篇有机薄膜晶体...
  • 2篇制程
  • 2篇溶液法
  • 2篇迁移
  • 2篇迁移率
  • 2篇晶体
  • 1篇旋涂
  • 1篇有机硅
  • 1篇栅绝缘层
  • 1篇晶体管性能
  • 1篇绝缘层
  • 1篇硅氧烷
  • 1篇分子
  • 1篇高分子
  • 1篇高分子聚合物
  • 1篇OTFT
  • 1篇环保型

机构

  • 3篇上海交通大学

作者

  • 3篇谢应涛
  • 3篇欧阳世宏
  • 3篇石强
  • 1篇朱大龙
  • 1篇许鑫

传媒

  • 3篇半导体光电

年份

  • 3篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
溶液法制程对有机薄膜晶体管性能影响的研究
2014年
基于新型的聚合物绝缘材料和半导体材料,采用溶液法旋涂工艺制作有机薄膜晶体管,通过优化聚合物半导体材料的溶剂、旋涂速度、退火温度等条件,提高有机薄膜晶体管的器件性能。结果表明,不同溶剂溶解半导体对制成的有机薄膜晶体管的迁移率影响明显;半导体层旋涂速度过慢和退火温度过低都会降低有机薄膜晶体管的性能。当采用1,2,4-三氯苯(TCB)作为半导体溶剂,旋涂速度为3 000r/min,后烘温度为190℃时,有机薄膜晶体管的迁移率可以达到约0.5cm2·V-1·s-1,亚阈值摆幅降至约0.6V/dec,开关比大于106。
石强谢应涛蔡述澄欧阳世宏方汉铿
关键词:旋涂有机薄膜晶体管迁移率
溶液法制备环保型高分子聚合物薄膜晶体管被引量:1
2014年
基于一种新型的稠合噻吩-吡咯并吡咯二酮聚合物半导体(PTDPPTFT4),采用溶液法工艺制作了高性能环保型、空穴型有机薄膜晶体管。通过尝试不同的半导体层退火温度及退火时间,优化了有机薄膜晶体管的性能。当采用对二甲苯溶剂,退火温度为190℃,退火时间为60min时,迁移率为2.1cm2·V-1·s-1,电流开关比大于106。通过X射线掠入射角衍射法测试,得到高温退火后聚合物薄膜的结构特点,进而揭示了退火条件改变后,薄膜晶体管拥有高迁移率的原因。
蔡述澄谢应涛石强欧阳世宏方汉铿
关键词:迁移率
基于有机硅栅绝缘层的制备工艺对OTFT性能的影响
2014年
基于聚合物绝缘材料和半导体材料,采用溶液法旋涂工艺制作了有机薄膜晶体管(OTFT),通过尝试不同旋涂速度、表面预处理、退火温度等条件来优化聚合物绝缘材料的制备工艺参数,获得了良好的绝缘性的聚合物绝缘材料和器件特性。结果表明,绝缘层旋涂速度过快、表面用氧等离子体处理时间过长和退火温度过低都会降低有机栅极绝缘层(OGI)的绝缘性和OTFT的器件特性。采用硅氧烷材料作为聚合物栅极绝缘层,其溶液由硅氧烷单体和溶剂加丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)混合而成。OGI的旋涂速度为1 200r/min,退火温度为140℃,在旋涂有机半导体材料之前,需在退火之后的硅氧烷表面进行短暂的氧离子灰化反应。得到的有机薄膜晶体管迁移率约为0.4cm2·V-1·s-1,亚阈值摆幅降至约1.2V/dec,开关比大于104,并且当外加电场为1MV/cm时,漏电流密度低于1.4×10-6 A/cm2(Vds=-40V)。
许鑫朱大龙石强谢应涛欧阳世宏方汉铿
关键词:硅氧烷有机薄膜晶体管
共1页<1>
聚类工具0