罗凯升
- 作品数：7 被引量：0H指数：0
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- 一种用于光学邻近校正的区别化层次处理方法
- 本发明公开了一种用于光学邻近校正的区别化层次管理方法。包括如下步骤：1)建立光学仿真模型以及数据初始化；2)由光学仿真模型和版图相关信息确定图形相互影响的距离；3)对版图各个区域进行识别，区分相似区域和非相似区域，并做不...
- 罗凯升严晓浪史峥
- 用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法
- 本发明公开了一种用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法。本发明方法包括光刻模型、光学邻近校正、散射条参数初始化，载入一维图形，计算工艺窗口得到一维向量最优解，载入二维图形，计算工艺窗口得到二维向量最优。本发明能快速确定...
- 齐晶史峥林斌罗凯升
- 纳米级电路分辨率增强技术及热点检测技术研究
- 遵循摩尔定律的轨迹，集成电路的发展进入纳米级时代。光刻是集成电路制造的核心步骤，但是由于光源技术发展的滞后，193纳米波长光刻仍然是纳米级集成电路制造的主要选择。当集成电路发展到90纳米以及以下工艺节点时，使用193纳米...
- 罗凯升
- 关键词：分辨率增强支持向量机集成电路可制造性设计
- 使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形
- 2012年
- 在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合,该方法能解决工艺窗口过小和亚分辨率辅助图形刻出等问题。通过对标准电路版图的测试,对边放置误差和工艺窗口进行了测量。边放置误差相比传统方法减小了10%,同时,不同工艺窗条件下的边放置误差也有改善。
- 齐晶史峥林斌罗凯升
- 关键词：可制造性设计光刻光学邻近校正
- 一种用于光学邻近校正的区别化层次处理方法
- 本发明公开了一种用于光学邻近校正的区别化层次管理方法。包括如下步骤：1)建立光学仿真模型以及数据初始化；2)由光学仿真模型和版图相关信息确定图形相互影响的距离；3)对版图各个区域进行识别，区分相似区域和非相似区域，并做不...
- 罗凯升严晓浪史峥
- 文献传递
- 用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法
- 本发明公开了一种用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法。本发明方法包括光刻模型、光学邻近校正、散射条参数初始化，载入一维图形，计算工艺窗口得到一维向量最优解，载入二维图形，计算工艺窗口得到二维向量最优。本发明能快速确定...
- 齐晶史峥林斌罗凯升
- 文献传递
- 用于光刻系统仿真的多边形处理算法
- 2014年
- 为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45 nm^0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。
- 吕楠史峥罗凯升耿臻
- 关键词：传感器光刻仿真光学邻近效应
