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薛文斌

作品数:116 被引量:1,023H指数:18
供职机构:北京师范大学核科学与技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金北京市科技新星计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术化学工程医药卫生更多>>

文献类型

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领域

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主题

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  • 27篇微弧氧化膜
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  • 18篇陶瓷
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  • 10篇
  • 10篇复合材
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作者

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传媒

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年份

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  • 3篇2009
  • 6篇2008
  • 5篇2007
  • 5篇2006
  • 1篇2005
116 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
5083铝合金搅拌摩擦焊接头微弧氧化膜电化学腐蚀行为被引量:12
2012年
利用微弧氧化技术在5083铝合金搅拌摩擦焊(FSW)接头表面制备一层均匀的微弧氧化膜。通过动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)分析,评估微弧氧化前后搅拌摩擦焊接头的腐蚀特性。结果表明,经过微弧氧化表面处理的搅拌摩擦焊样品腐蚀电流密度减小,电化学阻抗增加,抗腐蚀性能得到了显著改善。未氧化处理的不同焊接组织区域腐蚀行为存在明显的差异,而5083铝合金母相和焊缝表面的微弧氧化膜具有相同的形貌和抗腐蚀性能。
鲁亮薛文斌金小越杜建成华铭
关键词:微弧氧化搅拌摩擦焊5083铝合金电化学阻抗谱
60%SiCp/2009铝基复合材料表面等离子体电解氧化膜的生长和表征
2024年
在硅酸盐溶液中采用等离子体电解氧化技术在60%SiCP(体积分数)/2009铝基复合材料表面制备陶瓷膜。研究氧化膜的显微组织、成分、润湿性及其耐腐蚀性能,探讨SiC颗粒表面火花放电的产生机理。结果表明,来自硅酸盐溶液的不溶性化合物(SiO_(2))使SiC颗粒表面产生火花放电,Al-Si-O化合物中的缺陷为SiC颗粒表面放电电流的传导提供优先路径。1200s时铝基复合材料表面形成5.5μm厚的均匀膜层,膜层的表面自由能在40s时达到最大值37.10 m J/cm^(2),并在1200 s时下降到25.95 m J/cm^(2)。此外,等离子体电解氧化处理可以显著提高复合材料的耐蚀性。
廖燚钊王兴平高川力周茜徐驰金小越杜建成薛文斌薛文斌
关键词:等离子体电解氧化铝基复合材料火花放电润湿性
槽电压对纯铁表面液相等离子体电解硼碳氮三元共渗层摩擦磨损性能的影响被引量:7
2017年
利用液相等离子体电解渗技术分别在340,360V和380V槽电压下对纯铁进行硼碳氮三元共渗(PEB/C/N)表面处理。分析纯铁表面PEB/C/N共渗层的形貌、成分、相组成和显微硬度分布。采用球-盘摩擦磨损仪评估槽电压对渗层摩擦磨损性能的影响,并分析渗层与ZrO_2球对磨时磨损机理。纯铁表面的PEB/C/N三元共渗层厚度随着放电电压升高而增大,最高硬度也相应增加。380V处理1h后硼碳氮三元共渗层中渗硼层和过渡层厚度分别达到26μm和34μm,渗层最高硬度可以达到2318HV。硼碳氮三元共渗层的磨损率仅为纯铁基体的1/10。硼碳氮共渗处理大幅度降低纯铁的摩擦因数和磨损率,但不同槽电压下制备的PEB/C/N共渗层的摩擦因数和磨损率变化较小。
金小越吴杰杨璇王彬陈琳曲尧薛文斌
关键词:纯铁
SiCP/AZ31镁基复合材料微弧氧化膜结构与性能分析被引量:14
2009年
采用微弧氧化表面处理技术在SiC颗粒增强AZ31镁基复合材料表面制备保护性陶瓷膜.分析了陶瓷膜的表面形貌、截面组织和相组成,并测量了膜层的硬度、热震和电化学腐蚀特性.结果表明,陶瓷膜由MgO、Mg2SiO4和少量同电解液组成元素相关的相所组成,膜内还残留少量SiCP增强体.膜层的最高硬度可达到HV800,比复合材料基体提高五倍以上.经过100次热循环(500℃→水淬)后膜层与复合材料结合良好,显示该膜层有较好的抗热震性能.微弧氧化处理后,SiCP/AZ31镁基复合材料的抗腐蚀能力得到较大提高.
薛文斌金乾朱庆振马跃宇
关键词:微弧氧化镁基复合材料陶瓷膜
SiC颗粒增强体对铝基复合材料微弧氧化膜生长的影响被引量:29
2006年
用微弧氧化方法在SiCp/2024铝基复合材料表面沉积出较厚的陶瓷膜,测定了陶瓷膜的生长曲线和相组成,提出了金属基复合材料微弧氧化膜生长模型.结果表明,微弧放电烧结作用下,膜层内SiCp增强体大部分已被熔化并氧化,只有少数残余的SiCp颗粒仍然保留在靠近界面的膜层内. SiCp增强体阻碍了微弧氧化膜的生长,但它并未破坏微弧氧化膜的完整性,这同铝基复合材料阳极氧化膜结构完全不同.
薛文斌
关键词:微弧氧化陶瓷膜
甘油浓度对不锈钢表面液相等离子体电解渗透过程的影响被引量:9
2013年
以50%~90%(体积分数)甘油水溶液为电解液,研究304不锈钢表面液相等离子体电解快速渗碳工艺;分析不同甘油浓度和电压下渗碳层的显微组织、相组成和显微硬度。结果表明,随甘油浓度的提高,渗透电压上升,渗碳层厚度增加,渗碳层硬度增大,最大硬度达到762HV;且渗碳层中固溶碳的奥氏体(γC)含量急剧增加,但碳化物含量降低。在80%(体积分数)甘油水溶液和电压350 V工艺条件下获得的渗碳层质量较好。
薛文斌金乾刘润金小越王彬杜建成
关键词:甘油不锈钢渗碳
微弧氧化膜的基本性质及应用
该文较系统地描述了微弧氧化的形成过程及其发展变化,并指出氧化膜的基本物理化学特性。等离子体的高温高压作用是氧化膜发生相和结构变化的重要条件,也是生成厚膜、形成渗透氧化的重要原因。微弧氧化膜主要特点是膜层厚、致密、硬度高,...
来永春邓志威宋红卫薛文斌陈如意
关键词:微弧氧化
文献传递
有色金属表面微弧氧化技术评述被引量:288
2000年
微弧氧化是一项在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。本文介绍了Al、Mg、Ti金属表面微弧氧化技术的发展历史及氧化物陶瓷膜生长的原理,并比较微弧氧化和阳极氧化技术的工艺及性能特点,显示微弧氧化工艺比阳极氧化简单,氧化膜的综合性能比阳极氧化膜高得多,是一项有广阔应用前景的新技术。
薛文斌邓志威来永春陈如意张通和
关键词:微弧氧化火花放电有色金属陶瓷膜
阴极微弧放电等离子体降解废水中有机物的方法及装置
本发明以石墨为阳极,以金属钛或铌为阴极,共同浸入含有有机污染物的高盐废水中,并在阴阳极之间施加100V-700V的电压。由电流热效应产生的阴极表面气膜在临界电压下被击穿并产生微区电弧放电,在钛阴极附近产生活性粒子和强氧化...
薛文斌张亦凡吴杰陈琳杨璇王颖沈潺潺
文献传递
放电发射光谱在金属微弧氧化表面处理中的应用研究进展被引量:3
2021年
液相火花放电现象是金属微弧氧化表面处理时典型特征,发射光谱(OES)技术是表征微弧放电光谱特征和探索微弧氧化机理的有效手段。本文综述了铝、镁、钛等金属微弧氧化过程中发射光谱的研究现状。介绍微弧放电区等离子体的电子温度、电子密度等特征参数计算原理。重点关注了不同金属基体材料、电参数及电解液组成条件下,等离子体放电行为对微弧氧化膜结构的影响规律,并比较不同放电模型的异同。基于OES谱线评估得到的各种金属微弧等离子体温度为3000~10000 K,为放电通道内快速熔化-凝固过程促进陶瓷膜生长机制提供证据。
廖燚钊薛文斌万旭敏张亦凡张亦凡徐驰杜建成
关键词:微弧氧化发射光谱放电机理电子温度
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