您的位置: 专家智库 > >

赵勇

作品数:2 被引量:6H指数:2
供职机构:浙江大学信息与电子工程学系更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇载流子
  • 1篇调制
  • 1篇调制器
  • 1篇有限差分
  • 1篇色散
  • 1篇马赫-曾德尔...
  • 1篇集成光学
  • 1篇光学
  • 1篇光子
  • 1篇光子器件
  • 1篇硅基
  • 1篇FD
  • 1篇P-I-N

机构

  • 2篇浙江大学
  • 1篇宁波大学
  • 1篇浙江南方通信...

作者

  • 2篇杨建义
  • 2篇赵勇
  • 1篇江晓清
  • 1篇王明华
  • 1篇陈伟伟
  • 1篇钱伟
  • 1篇杨承霖

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
Si基光子器件的p-i-n电学结构模型及分析被引量:4
2014年
为了设计研制基于载流子色散效应的Si基光子器件,本文针对Si基光子器件的电学结构,利用Silvaco的器件仿真工具Atlas,并根据载流子色散理论,结合有限差分(FD)法,建立了基于pi-n结的电学结构模型。同时,为了提高模型的实际应用水平,采用0.18μm CMOS工艺线制作Si基马赫-曾德尔调制器(MZM),并进行相应的实验验证与分析。本文工作将为从物理层面上优化Si基光子器件设计提供帮助。
陈伟伟赵勇杨承霖钱伟杨铁权杨建义
载流子色散型硅基CMOS光子器件被引量:2
2009年
为了实现硅基单片光电子集成器件的实用化,介绍了采用P-I-N、双极型场效应晶体管、金属氧化物半导体和PN结结构的载流子色散型硅基CMOS光子器件的发展状况和特点,并汇报了硅基CMOS光子器件的设计和制作方面的工作.利用商业的CMOS工艺线制作的器件获得了较好的结果,光调制器消光比约18dB,1×2光开关消光比约21dB,谐振环的消光比8~12dB.采用CMOS技术研制硅基光子器件,将能使集成光子学的发展上一个新的台阶.
赵勇江晓清杨建义王明华
关键词:集成光学硅基
共1页<1>
聚类工具0