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赵金刚

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：淮阴师范学院更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇导电薄膜
  • 4篇氧化镉
  • 3篇功能材料
  • 3篇光电功能材料
  • 2篇带隙
  • 2篇短波
  • 2篇透光
  • 2篇透明导电
  • 2篇透明导电薄膜
  • 2篇镁合金
  • 2篇光学
  • 2篇光学带隙
  • 2篇合金
  • 2篇波段
  • 1篇可调
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射参数
  • 1篇磁控溅射靶

机构

  • 4篇淮阴师范学院

作者

  • 4篇华正和
  • 4篇贾建明
  • 4篇于海春
  • 4篇陈贵宾
  • 4篇赵金刚
  • 4篇翟章印

年份

  • 2篇2015
  • 2篇2013
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种氧化镉基透光波段可调的导电薄膜制备方法
本发明提供了一种氧化镉（CdO）基透光波段可调的导电薄膜制备方法。该方法的核心技术是导电薄膜的透光波段与导电薄膜中铟（In）组分的含量相关，In组分含量的变化与磁控溅射靶材、溅射功率，与靶材和基片之间的距离相关，导电薄膜...
陈贵宾翟章印贾建明于海春华正和赵金刚
文献传递
氧化镉镁合金透明导电薄膜及其制备方法
本发明公开了一种氧化镉镁合金透明导电薄膜，该薄膜采用磁控溅射技术，设计合理的溅射参数制备而成。磁控溅射的靶材为氧化镉和氧化镁，薄膜中镁的原子数百分比组分含量值x为：0≤x＜0.5；薄膜厚度为：170—290nm。本发明研...
陈贵宾贾建明于海春翟章印华正和赵金刚
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氧化镉镁合金透明导电薄膜及其制备方法
本发明公开了一种氧化镉镁合金透明导电薄膜，该薄膜采用磁控溅射技术，设计合理的溅射参数制备而成。磁控溅射的靶材为氧化镉和氧化镁，薄膜中镁的原子数百分比组分含量值x为：0≤x＜0.5；薄膜厚度为：170—290nm。本发明研...
陈贵宾贾建明于海春翟章印华正和赵金刚
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一种氧化镉基透光波段可调的导电薄膜制备方法
本发明提供了一种氧化镉（CdO）基透光波段可调的导电薄膜制备方法。该方法的核心技术是导电薄膜的透光波段与导电薄膜中铟（In）组分的含量相关，In组分含量的变化与磁控溅射靶材、溅射功率，与靶材和基片之间的距离相关，导电薄膜...
陈贵宾翟章印贾建明于海春华正和赵金刚
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