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魏启

作品数：2 被引量：9H指数：1
供职机构：复旦大学现代物理研究所/核科学与技术系更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇类金刚石
  • 2篇分子
  • 1篇低能
  • 1篇动力学
  • 1篇碳分子
  • 1篇相互作用
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石膜
  • 1篇计算机
  • 1篇计算机模拟
  • 1篇硅表面
  • 1篇分子动力学
  • 1篇硅

机构

  • 2篇复旦大学

作者

  • 2篇魏启
  • 1篇周亮
  • 1篇朱靖
  • 1篇臧亮坤
  • 1篇刘提将
  • 1篇潘正瑛
  • 1篇李之杰
  • 1篇王月霞

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2004
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
离子束辅助沉积对类金刚石膜结构影响的计算机模拟被引量：9
2005年
采用分子动力学 (MD)模拟研究了离子束辅助沉积 (1BAD)生长类金刚石 (DLC)膜的物理过程 .分别选C2 分子和Ar离子作为沉积源和辅助沉积粒子 .改变Ar的入射能量和到达比 (Ar/C) ,研究了它对DLC膜结构的影响 .重点讨论了Ar辅助沉积引起表面原子的瞬间活性变化对薄膜结构产生的影响 .分析表明 ,由于Ar离子的轰击引起的能量和动量的传递 ,大大地增强了C原子在表面的反冲动能及迁移概率 ,增加了合成薄膜的SP3键含量 .研究结果和实验观察一致 ,并从合成机理上给出了一些定量解释 .
李之杰潘正瑛朱靖魏启王月霞臧亮坤周亮刘提将
关键词：类金刚石薄膜离子束辅助沉积分子动力学计算机模拟
低能碳分子与硅表面相互作用的模拟研究
该文改进了分子动力学模拟软件,用以模拟荷能碳团簇在硅表面和金刚石表面的化学吸附以及DLC薄膜的合成过程.主要目的是研究沉积团簇的初始能量对DLC薄膜性质的影响.另外,我们还用蒙特卡罗方法模拟了小碳分子在硅表面扩散的过程....
魏启
关键词：碳分子硅类金刚石
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