龚述荣
- 作品数：16 被引量：37H指数：3
- 供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术化学工程理学轻工技术与工程更多>>
- 一种碳酸铪的制备工艺
- 本发明公开了湿法冶金领域的一种碳酸铪的制备方法，通过两步法制备碳酸铪粉体：(1)水解制备碱式硫酸铪：用去离子水溶解氯氧化铪，得到氯氧化铪溶液；加入一定量的硫酸及氨水，水浴保温水解8小时。(2)碱式硫酸铪转化为碳酸铪：用去...
- 何芬张明贤张少辉张碧田王星明段华英潘德明龚述荣孙静
- 高纯二氧化铪的制备及其在激光器中的应用
- 二氧化铪具有透射波段宽（230nm～10μm）、折射率高和优异的化学稳定性,使它在光学薄膜制备中得到高度重视。特别是用二氧化铪作为高折射率材料制备的激光膜,抗激光损伤阈值很高,成为制备高功率激光膜的首选材料。本文简要介绍...
- 张碧田张明贤王星明段华英龚述荣潘德明
- 文献传递
- 高折射率光学薄膜用LaTiO<Sub>3</Sub>蒸发材料及其制备方法和用途
- 一种高折射率光学薄膜用蒸发材料，是一种化学式为LaTiO<Sub>3</Sub>的化合物。该材料为单一相结构组成，不存在其它杂相。该材料密度为5.2～5.9g/cm<Sup>3</Sup>，材料充填性好。以Ti<Sub>...
- 张碧田潘德明王星明段华英储茂友邓世斌孙静张明贤龚述荣
- 文献传递
- 预处理光学镀膜材料及其预处理方法
- 本发明公开了一种预处理光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：(1)选用光学镀膜材料的原料粉体；(2)在温度为700～1400℃，压力为10～40Mpa条件下制备素坯；(3)在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800...
- 王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
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- 中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法
- 膜层致密、牢固、化学稳定性好，在近紫外到近红外有较高的透过率的中折射率光学薄膜用蒸发材料及其制备方法。技术方案是：中折射率光学薄膜用蒸发材料，其特征在于所述材料是熔融材料，由化学式为LaAlO<Sub>3</Sub>和L...
- 张碧田张明贤龚述荣潘德明段华英孙静王星明储茂友邓世斌韩沧
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- 撞击流管式反应制备超细氧化锆粉体被引量：13
- 2003年
- 我国氧化锆粉体产业目前基本上“精进粗出” ,迫切需要开发氧化锆粉体制备新工艺 ,特别是具有高附加值的纳米氧化锆粉体制备技术。液相反应沉淀法具有成本低、易于工业化等优点而成为研究的热点。本文采用撞击流管式反应新工艺 ,撞击流接触反应强化了过程的微观混合 ,实现了均匀成核 ,使得成核过程易于控制 ,而管式反应器的独特设计克服了返混 ,因而使得反应沉淀过程易于控制 ,粒子分布窄。用该工艺结合醇热处理表面改性制备的超细氧化锆粉体 ,平均粒径约为 14nm ,粒度分布窄并无硬团聚发生。该方法过程简单 ,易于工业化大生产。
- 王星明段华英张碧田张明贤龚述荣潘得明王力军
- 关键词：超细粉体ZRO2撞击流管式反应器表面改性
- 高纯硼化锆/硼化铪粉体及其超高温陶瓷靶材的制备方法
- 本发明公开了属于陶瓷靶材技术领域的一种高纯超高温陶瓷靶材的制备方法，具体为高纯硼化锆/硼化铪粉体及其陶瓷靶材的制备方法。该方法是以高纯Zr粉，Hf粉以及高纯B粉为原料，采用自蔓延法分别制备高纯ZrB<Sub>2</Sub...
- 储茂友王星明邓世斌韩沧张碧田段华英张明贤龚述荣潘德明
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- 几种新颖的光学镀膜材料被引量：4
- 2004年
- 当前光学镀膜技术和应用光学的进展迅速,新的各种形式光学镀膜材料不断涌现。介绍了"预熔化"光学镀膜材料、高阈值激光膜材料、用于树脂基片的冷镀材料和光学镀膜用靶材,并对这几种新型材料的应用情况及国内外的现状进行了简要介绍。
- 王星明黄松涛储茂友段华英张碧田张明贤龚述荣潘德明
- 关键词：镀膜材料激光损伤阈值靶材光学镀膜
- 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法
- 本发明公开了一种大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法，其方法步骤如下：A)称取制作靶材的粉体原料；B)按制作靶材的直径要求选定同直径的模具；C)将模具放进上加压、固定下压头基准面的热压炉炉体中；D)采用振动漏斗法装料，测...
- 王星明储茂有段华英黄松涛张碧田邓世斌张明贤龚述荣潘德明
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- 中折射率光学薄膜用蒸发材料及制备方法
- 膜层致密、牢固、化学稳定性好，在近紫外到近红外有较高的透过率的中折射率光学薄膜用蒸发材料及其制备方法。技术方案是：中折射率光学薄膜用蒸发材料，其特征在于所述材料是熔融材料，由化学式为LaAlO<Sub>3</Sub>和L...
- 张碧田张明贤龚述荣潘德明段华英孙静王星明储茂友邓世斌韩沧
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