万华
- 作品数：4 被引量：14H指数：3
- 供职机构：苏州大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信化学工程更多>>
- 多层介质膜光栅掩模槽形的控制与检测
- 本文围绕多层介质膜光栅掩模的制作展开理论和实验研究，主要内容包括以下几个方面：首先介绍了研究惯性约束核聚变(ICF)的意义和国际上脉冲压缩光栅(PCG)的研究进展。对光栅电磁场的严格矢量理论作了一定的介绍，选择严格耦合波...
- 万华
- 关键词：光栅多层介质膜严格耦合波理论衍射效率掩模
- 文献传递
- 一类四阶问题的MFS-RBF无网格方法
- 由四阶椭圆变分不等式或变分方程定义的问题在物理、力学、工程等众多领域都可以见到,如薄板大挠度问题、障碍问题、接触问题等等。由于问题的复杂性,在实际计算中一般都通过相应的简化,使控制方程容易计算,再采用有限差分法、有限元法...
- 万华
- 关键词：偏微分方程无网格方法径向基函数
- 文献传递
- 低陡度光刻胶光栅槽形研究被引量：5
- 2008年
- 为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现:启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1∶1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1∶7的干涉曝光和15℃的显影液.
- 刘全万华吴建宏陈新荣李朝明
- 关键词：衍射光学全息
- 利用严格耦合波方法研究多层介质膜光栅掩膜特性被引量：7
- 2005年
- 从理论和实验上研究了多层介质膜光栅掩膜特性,用严格耦合波(RCW)法对由光栅掩膜槽形和多层膜介质基底引起的衍射效率的变化进行了理论分析,计算得出不同形貌下的光栅掩膜的反射0级光谱衍射效率分布。在实验检测方法上,采用了0级反射光衍射效率分布来进行槽形判断,并将实验结果和理论计算进行了对比。结果证明使用该方法研究光栅掩膜形貌在一定程度上是有效的。
- 万华陈新荣吴建宏
- 关键词：多层介质膜
