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张亚军

作品数:6 被引量:9H指数:2
供职机构:西安交通大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇光刻
  • 2篇压印光刻
  • 2篇图像
  • 2篇图像聚类
  • 2篇图像数据
  • 2篇图像像素
  • 2篇拓扑
  • 2篇拓扑图
  • 2篇像素
  • 2篇邻接
  • 2篇纳米压印
  • 2篇聚类
  • 1篇低周
  • 1篇低周疲劳
  • 1篇调整方法
  • 1篇柔性铰链
  • 1篇数学模型
  • 1篇紫外纳米压印
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械

机构

  • 6篇西安交通大学

作者

  • 6篇张亚军
  • 3篇卢秉恒
  • 2篇王飞
  • 2篇王权岱
  • 2篇丁玉成
  • 2篇郭宇
  • 2篇张秋光
  • 1篇段玉刚
  • 1篇段玉岗

传媒

  • 2篇微细加工技术
  • 1篇西安交通大学...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2021
  • 1篇2009
  • 1篇2007
  • 2篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于二维数据嵌入与邻接拓扑图的图像聚类方法及设备
基于二维数据嵌入与邻接拓扑图的图像聚类方法及设备,该图像聚类方法包括同时学习一组图像数据的二维嵌入表示和结构化的相似图,在图像数据的二维嵌入表示上学习带有自适应最优邻域分配的相似图,通过在学习到的图的拉普拉斯矩阵施加秩约...
郭宇张亚军张秋光孙源王飞
文献传递
10CrNi5Mo 高强钢低周疲劳行为研究
张亚军
关键词:数学模型低周疲劳
基于微压印成形的三维微电子机械系统制造新工艺被引量:3
2005年
针对目前微电子机械系统(MEMS)制造中存在的三维加工能力不足的问题,将压印光刻技术和分层制造原理相结合,研究了三维MEMS制造的新工艺.采用视频图像原理构建了多层压印的对正系统,对正精度达到2μm.通过降低黏度和固化收缩率,兼顾弹性和固化速度,开发了适用于微压印工艺的高分辨率抗蚀剂材料,并进行了匀胶、压印和脱模工艺的优化实验.通过原子力显微镜对压印结果进行了分析,分析结果表明,图形从模具到抗蚀剂的转移误差小于8%,具有制作复杂微结构的能力,同时也为MEMS的制作提供了一种高效低成本的新方法.
王权岱段玉岗丁玉成卢秉恒张亚军
关键词:压印光刻微电子机械系统
纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法被引量:3
2005年
概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价。
张亚军段玉刚卢秉恒王权岱
关键词:压印光刻柔性铰链
基于二维数据嵌入与邻接拓扑图的图像聚类方法及设备
基于二维数据嵌入与邻接拓扑图的图像聚类方法及设备,该图像聚类方法包括同时学习一组图像数据的二维嵌入表示和结构化的相似图,在图像数据的二维嵌入表示上学习带有自适应最优邻域分配的相似图,通过在学习到的图的拉普拉斯矩阵施加秩约...
郭宇张亚军张秋光孙源王飞
基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究被引量:2
2007年
针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术。采用传统的光刻版作为紫外压印模版,由于模版上铬层的遮蔽作用,使得铬层下面的光刻胶不被曝光,从而可以轻易地被去除。实验结果表明,该技术综合了压印与光刻各自的优点,可以获得无留膜厚度的压印图形,省去了压印后的留膜刻蚀工艺,从而避免了由于留膜厚度不均匀所带来的过刻蚀或欠刻蚀的问题。
张亚军丁玉成卢秉恒
关键词:纳米压印光刻
共1页<1>
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