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张顾万

作品数:3 被引量:26H指数:2
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇电荷耦合
  • 1篇电荷耦合器
  • 1篇电荷耦合器件
  • 1篇电路
  • 1篇淀积
  • 1篇读出电路
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇多晶硅薄膜
  • 1篇介质膜
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇发雾
  • 1篇PECVD
  • 1篇CCD
  • 1篇LPCVD

机构

  • 3篇重庆光电技术...

作者

  • 3篇龙飞
  • 3篇张顾万
  • 1篇李仁豪
  • 1篇顾正伟
  • 1篇阙蔺兰

传媒

  • 3篇半导体光电

年份

  • 1篇2004
  • 1篇2002
  • 1篇2001
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
LPCVD系统淀积多晶硅薄膜的发雾分析被引量:6
2002年
叙述了采用LPCVD系统淀积多晶硅薄膜的机理 ,分析了在淀积多晶硅薄膜过程中引起发雾的因素 ,指出了保持LPCVD系统的洁净能有效消除在淀积多晶硅薄膜过程中出现的发雾现象。
张顾万龙飞阙蔺兰
关键词:LPCVD淀积多晶硅发雾
PECVD生长氮化硅介质膜的工艺研究被引量:20
2001年
对PECVD生长氮化硅介质膜的工艺条件进行了实验研究 ,获得了生长氮化硅介质膜的最佳工艺条件 ,制作出了高质量的氮化硅介质膜。对样品进行了湿法腐蚀和超声实验 ,在显微镜下观察无膜脱落现象发生。阐述了几种工艺参数对介质膜生长的影响。
张顾万龙飞
关键词:PECVD氮化硅介质膜
HgCdTe红外焦平面用1×288 CCD读出电路
2004年
设计和研制了一种采用多晶硅交叠栅结构的1×288红外信号处理器读出电路。制作中采用了多重吸杂技术和大剂量离子注入技术,提高了电路的信号处理能力,降低了信号噪声。该电路具有分割、抗晕、背景撇出功能。其功耗小于等于50mW,动态范围大于等于60dB,转移效率大于等于99.99%。详细介绍了这种1×288红外读出电路的理论设计和研制方法,给出了工艺流程及器件的测试方法。
龙飞张顾万顾正伟李仁豪
关键词:电荷耦合器件
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