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曹柏泉

作品数:5 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域:一般工业技术自动化与计算机技术电气工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇趋肤效应
  • 3篇非晶
  • 3篇非晶薄带
  • 3篇薄带
  • 2篇巨磁阻
  • 2篇巨磁阻抗
  • 2篇COFE
  • 2篇磁阻
  • 2篇磁阻抗
  • 1篇电流
  • 1篇电流传感器
  • 1篇镀膜
  • 1篇信号
  • 1篇信号处理
  • 1篇软磁
  • 1篇数值仿真
  • 1篇涂层
  • 1篇埋入式
  • 1篇巨磁阻抗效应
  • 1篇溅射

机构

  • 4篇电子科技大学

作者

  • 4篇曹柏泉
  • 2篇何俊彦

传媒

  • 1篇磁性材料及器...
  • 1篇压电与声光

年份

  • 3篇2013
  • 1篇2012
5 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
埋入式非对角巨磁阻抗电流传感器
巨磁阻抗(giant magneto-impedance,GMI)效应具有灵敏度高、反应时间快、敏感元件体积小等优点,从而更符合现代传感器的性能要求,可广泛用于汽车、电子等多种领域。本文主要探讨了非晶薄带的GMI效应及进...
曹柏泉
关键词:电流传感器巨磁阻抗非晶薄带信号处理数值仿真
CoFe涂层对非晶薄带GMI效应的影响
2013年
通过直流溅射法在Co基非晶薄带(Co66Fe4NiSi15B14)上制备不同厚度的CoFe薄膜层,观察其巨磁阻抗(GMI)效应在120kHz3MHz频率范围内随外加磁场的变化。实验结果显示,在Co基非晶薄带上涂覆CoFe薄膜,可提高薄带的GMI效应。研究发现,当趋肤效应显著时材料表面粗糙度对GMI效应有较大影响。通过在Co基非晶薄带表面镀膜的方式降低样品表面粗糙度,减小表面退磁场的影响,并闭合样品磁通回路,从而提高样品GMI效应。
曹柏泉何俊彦
关键词:趋肤效应
CoFe_2O_4涂层对Co基非晶薄带GMI效应的影响
2013年
通过磁控溅射法在Co基非晶薄带(Co66Fe4NiSi15B14)上制备CoFe2O4涂层(镀膜),在75kHz~2.5MHz频率范围内观察其巨磁阻抗效应(GMI)随外加磁场的变化。实验结果显示,在Co基非晶薄带上涂覆CoFe2O4薄膜,可以提高薄带的GMI效应,并且在频率为1.2MHz时,具有CoFe2O4涂层的非晶薄带巨磁阻抗比较无涂层薄带提高了近30%。研究发现,当趋肤效应显著时材料表面粗糙度对GMI效应有较大影响。通过在Co基非晶薄带表面镀膜的方式降低样品表面粗糙度,减小表面退磁场的影响,从而提高了材料的GMI效应。
曹柏泉何俊彦
关键词:磁控溅射趋肤效应
CoFe涂覆层对非晶薄带GMI效应的影响
通过直流溅射法在Co基非晶薄带(Co66Fe4NiSi15B14)上制备不同厚度的CoFe薄膜层,观察其巨磁阻抗效应(GMI)在120kHz~3MHz频率范围内随外加磁场的变化。实验结果显示:在Co基非晶薄带上涂覆CoF...
CAO Bai-quan曹柏泉HE Jun-yan何俊彦
关键词:巨磁阻抗效应表面镀膜趋肤效应
共1页<1>
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